DE4107220A1 - Phthalocyaninsensor bei dem die kontaktgebenden flaechen in einer ebene zum substrat angeordnet sind - Google Patents
Phthalocyaninsensor bei dem die kontaktgebenden flaechen in einer ebene zum substrat angeordnet sindInfo
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- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/12—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
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Description
Es ist bekannt, auf einem Trägermaterial (1), z. B. Silizium
oder Al2O3, Kontaktbahnen in geeigneter geometrischer Struk
tur aufzubringen, um darauf einen dünnen Film (3), z. B.
Phthalocyanin, aufzubringen, welches seine elektrischen
Werte in Abhängigkeit physikalischer oder durch Einwirken
bestimmter Gase hindert.
Fig. 1 zeigt den prinzipiellen Aufbau. Um die Ansprechge
schwindigkeit so aufgebauter Sensoren zu erhöhen wird an
gestrebt, die sensitiven Schichten so dünn wie möglich zu
machen, damit Diffusionsprozesse das Ansprechen nicht ver
zögern.
Nachteilig hat sich gezeigt, daß die Kontaktgabe an den
Kontaktbahnen ungleichmäßig ist und die an den Kontaktkanten
beobachtete sehr dünne und rißanfällige Struktur der sensi
tiven Schicht die elektrischen Eigenschaften der Schicht
verschlechtern. Typisch erhöht sich der Sensorwiderstand
signifikant, z. B. um Faktor 100.
Erfindungsgemäß löst eine Anordnung nach Fig. 2 dieses
Problem, indem im Substratmaterial vor Aufbringungen der
Kontaktbahnen eine Einsenkung (5) bevorzugt geätzt wird, in
welcher in einem weiteren Arbeitsgang die Kontaktbahn (2) so
aufgebaut wird, das sie in der gleichen Ebene mit dem iso
lierenden Teil des Substrates abschließt. Die darauf aufge
brachte sensitive Schicht ist vorteilhaft sehr gleichmäßig
und unterliegt viel geringeren mechanischen Spannungen. Auch
ist vorteilhaft der elektrische Widerstand aus vorgenannten
Gründen erheblich geringer.
In der beschriebenen Anwendung war eine dünne Phthalocyanin-
Schicht auf einer beheizten Interdigitalstruktur aufzubrin
gen.
Die erfindungsgemäße Ausführung senkte den Ohmschen Wider
stand etwa um Faktor 100, erhöhte die Ansprechgeschwindig
keit um Faktor 3 und setzte das Rauschen um Faktor 3 herab.
Claims (2)
1. Dünnfilmsensor zum Nachweis von Gasen, bestehend aus
einem Substrat (1), einer kontaktgebenden Struktur (2)
und einer sensitiven Schicht (3),
dadurch gekennzeichnet,
daß in die kontaktgebende Struktur (2) so in eine Mulde
(5) des Substrates eingesenkt ist, daß das Substrat und
die kontaktgebende Struktur insgesamt eben ist, wobei die
sensitive Schicht aus Blei- oder Kupferphthalocyanin be
steht.
2. Dünnfilmsensor nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Substratoberfläche aus Siliziumdioxid ist, die
kontaktgebende Struktur aus Gold ist.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914107220 DE4107220A1 (de) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | Phthalocyaninsensor bei dem die kontaktgebenden flaechen in einer ebene zum substrat angeordnet sind |
EP19910120045 EP0488102A3 (en) | 1990-11-24 | 1991-11-25 | Method and apparatus for measuring gas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914107220 DE4107220A1 (de) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | Phthalocyaninsensor bei dem die kontaktgebenden flaechen in einer ebene zum substrat angeordnet sind |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4107220A1 true DE4107220A1 (de) | 1992-09-10 |
Family
ID=6426637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19914107220 Withdrawn DE4107220A1 (de) | 1990-11-24 | 1991-03-07 | Phthalocyaninsensor bei dem die kontaktgebenden flaechen in einer ebene zum substrat angeordnet sind |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4107220A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4218883C2 (de) * | 1992-06-09 | 1999-05-20 | Itvi Inttech Venture Investa | Gassensorsystem mit auf Leiterplatte integrierten Gassensoren |
DE19930104C1 (de) * | 1999-07-01 | 2001-02-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung einer Elektrodenanordnung |
-
1991
- 1991-03-07 DE DE19914107220 patent/DE4107220A1/de not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4218883C2 (de) * | 1992-06-09 | 1999-05-20 | Itvi Inttech Venture Investa | Gassensorsystem mit auf Leiterplatte integrierten Gassensoren |
DE19930104C1 (de) * | 1999-07-01 | 2001-02-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung einer Elektrodenanordnung |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: I.T.V.I. INTERNATIONAL TECHNO VENTURE INVEST AG, V |
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8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: SPALTHOFF UND KOLLEGEN, 45131 ESSEN |
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8141 | Disposal/no request for examination |