DE4027049C2 - Verfahren zum flächenhaften Überprüfen von Strompfaden in einem elektronischen oder elektrischen Bauteil - Google Patents
Verfahren zum flächenhaften Überprüfen von Strompfaden in einem elektronischen oder elektrischen BauteilInfo
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Description
Verfahren zum flächenhaften Überprüfen von Strompfaden
in einem elektronischen oder elektrischen Bauteil.
Die Erfindung geht aus von einem Verfahren nach dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1.
Zu einer statischen oder dynamischen Fehlersuche in elektronischen
oder elektrischen Bauteilen, insbesondere
(hoch)integrierten Schaltstrukturen, ist es erforderlich,
die Lage der einzelnen Strompfade und deren Funktionsfähigkeit
überprüfen zu können.
Es ist zwar bekannt, verdeckte Strompfade dadurch zu orten, daß
man in das bei Stromdurchgang von ihnen erzeugte Magnetfeld
Fe-Partikel einbringt, die sich unter Einfluß dieses
Feldes entsprechend den Feldlinien ordnen. Ein entsprechendes
Verfahren ist jedoch für integrierte Schaltungen nur
beschränkt anwendbar, da die dort erzeugten Magnetfelder
im allgemeinen zu geringe Feldstärken haben und wegen der
Mikrostrukturierung der einzelnen Strompfade auch nicht
hinreichend genau aufgelöst würden.
Aus der JP-A-56/124 063 ist eine Vorrichtung zu entnehmen,
mit der ein konkreter Wert der Feldstärke eines aus einem
magnetisierten Magnetband austretenden Magnetfeldes gemessen
werden kann. Hierzu ist ein einstellbares magnetisches
Zusatzfeld erforderlich. Mit dem Zusatzfeld wird das
zu detektierende Feld des Magnetbandes kompensiert, so daß
dann mit einer optischen Detektionsvorrichtung in Form
einer Fotozelle zwischen zwei Zuständen zu unterscheiden
ist, nämlich zwischen der Detektion eines durch ein Okular
hindurchtretenden polarisierten Lichtstrahles einerseits
und dessen Auslöschung andererseits. Die Fotozelle detektiert
also lediglich die Summation des Magnetbandfeldes
und des Zusatzfeldes. Damit ist aber die bekannte Vorrichtung
zu einer flächenhaften Überprüfung vieler Strompfade
mit einer Aussage über die Funktionstüchtigkeit einzelner
dieser Strompfade nicht geeignet.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, das Verfahren
mit den Merkmalen gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs
1 dahingehend auszugestalten, daß eine flächenhafte
Überprüfung von hochintegrierten Schaltungen oder
sonstigen Bauteilen der Elektronik oder Elektrik bequem
durchzuführen ist, wobei eine eindeutige Aussage über die
Funktionsfähigkeit der einzelnen Strompfade gewonnen werden
soll.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den im Patentanspruch
1 angegebenen Merkmalen gelöst.
Die mit dieser Ausgestaltung des Verfahrens verbundenen
Vorteile sind insbesondere darin zu sehen, daß bereits
fertige elektronische oder elektrische Bauteile mit hoher
Dichte ihrer Strompfade auf einfache Weise unter Verwendung
bekannter Apparaturen flächenhaft überprüft werden
können. Ein Eingriff in das Bauteil ist dabei nicht erforderlich.
Vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens
gehen aus den Unteransprüchen hervor.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung wird nachfolgend
auf die schematische Zeichnung Bezug genommen, in deren
Fig. 1 eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens
angedeutet ist. In Fig. 2 ist die Hysteresiskurve eines für
das erfindungsgemäße Verfahren geeigneten Materials wiederge
geben. Fig. 3 zeigt einen Schnitt durch einen Teil einer in
tegrierten Schaltung mit einer darauf aufgebrachten Schicht aus
diesem Material. Die von der Schaltung hervorgerufenen Magnet
feldverhältnisse sind in Fig. 4 angedeutet.
Fig. 1 zeigt einen Ausschnitt eines nachfolgend als "Prüfling"
bezeichneten Bauteils 2 der Elektronik oder Elektrik, bei
spielsweise eines IC-Bausteins oder einer Platine, als Schnitt
im Bereich von mehreren zu überprüfenden Strompfaden 3. Über
diese Strompfade sei ein Strom der Stärke I geführt, wobei die
Stromführungsrichtung aus der Zeichenebene heraus jeweils durch
einen Punkt und in die Zeichenebene hinein durch ein Kreuz
veranschaulicht ist. Die Stromstärke I kann z. B. etwa 0,1 bis
1 mA betragen. Aufgrund des Stromes in den Strompfaden 3 wird
dann um diese herum ein ortsabhängiges Magnetfeld H erzeugt,
dessen Feldlinien mit f bezeichnet sind. Die Strompfade 3 sind
von der Oberfläche 2a des Prüflings 2 um einen Abstand a ent
fernt. An der Oberfläche 2a und zwischen den Strompfaden 3
besteht der Prüfling 2 aus elektrisch isolierendem Material.
Der Abstand a sollte aus Gründen einer hohen Empfindlichkeit
möglichst klein sein und liegt z. B. in der Größenordnung von
100 nm bis 1 µm. Auf der Oberfläche 2a befindet sich eine dünne
Schicht 5 mit besonderen magnetischen und magnetooptischen Ei
genschaften. Die Dicke der Schicht 5 wird im allgemeinen zwi
schen 10 nm und 1 µm gewählt. Die Schicht 5 wird entweder di
rekt auf den Prüfling 2 aufgebracht oder befindet sich gemäß
dem dargestellten Ausführungsbeispiel auf einem optisch trans
parenten Substrat 6. Gegebenenfalls ist auch die Schicht 5
zumindest weitgehend optisch transparent, beispielsweise auf
grund der Materialwahl oder aufgrund ihrer geringen Dicke. Um
eine optimale laterale Auflösung der Strompfade 3 zu gewähr
leisten, sollte der Abstand a der Schicht 5 von den Strompfa
den kleiner sein als die minimale Entfernung e zweier benach
barter Strompfade.
Das somit die Schicht 5 durchsetzende Magnetfeld H erzeugt dort
eine Magnetisierung, die aufgrund der magnetooptischen Eigen
schaften des Materials der Schicht zu einer Änderung des Dreh
winkels für polarisiertes Licht führt. Zur Auswertung bzw. zur
Erzeugung eines Bildkontrastes der Schicht wird nun vorzugs
weise der polare Kerr-Effekt ausgenutzt, der die bezüglich
der Schichtoberfläche senkrechte Magnetisierungskomponente be
rücksichtigt. Dies hat zur Folge, daß eine Drehung der Magneti
sierungsrichtung in der Schicht 5 in eine Intensitätsvariation
umgewandelt wird. Ein entsprechendes Bildverarbeitungssystem
setzt eine Lichtquelle 7 für polarisiertes Licht 8, insbeson
dere einen Laser voraus. Die Wellenlänge des polarisierten
Lichtes 8 muß dabei in bekannter Weise an das für die jeweilige
magnetooptische Schicht 5 verwendete Material angepaßt sein.
Das Licht 8 gelangt über einen Polarisator 9 auf einen Strahl
teiler 10 und wird dort auf die Schicht 5 abgelenkt, wobei es
noch in einem Linsensystem 11 gebündelt wird. Das von der
Schicht 5 zurückgeworfene und gegebenenfalls aufgrund des
magnetooptischen Kerr-Effektes in seiner Polarisationsebene
gedrehte Licht 8′ durchläuft dann wiederum den Strahlteiler,
einen Analysator 12, ein Linsensystem 13 und gelangt dann in
eine nachgeordnete bilderzeugende Einrichtung 14, beispiels
weise eine CCD-Kamera eines Polarisationsmikroskops, wo es in
Form eines Kontrastbildes 15 der Schicht 5 sichtbar zu machen
ist. Die Schicht 5 wird deshalb auch als "Bildschicht" be
zeichnet.
Bei der in der Figur schematisch dargestellten Vorrichtung zur
Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird also die
Drehung der Polarisationsebene von polarisiertem Licht aufgrund
des (magneto-optischen) Kerr-Effektes ausgenutzt. Das hierbei
eingesetzte Mikroskop wird deshalb häufig auch als Kerr-Mikros
kop bezeichnet. Dem Kerr-Mikroskop ist im allgemeinen ein Bild
prozessor zugeordnet. Der Aufbau und die Funktionsweise eines
entsprechenden Mikroskopes sind beispielsweise in Veröffent
lichungen der Firma E. Leitz GmbH, D-6330 Wetzlar (DE) beschrie
ben (vgl. z. B. die Anleitung zu "Orthoplan-Pol"-Großes Polari
sationsmikroskop - oder die Broschüre "Polarisationsmikros
kopie"- Grundlagen, Instrumente, Anwendungen - Verfasser:.
W.J. Patzelt, 1985). Mit einer derartigen magneto-optischen Ein
richtung lassen sich vorteilhaft zumindest große Teile der
freien Oberfläche der Bildschicht 5 auf einmal beobachten.
Selbstverständlich sind auch andere magneto-optische Einrich
tungen zur Ermittlung der Lage und Funktionsfähigkeit der ein
zelnen Strompfade in dem zu untersuchenden Körper 2 geeignet,
bei denen z. B. der Faraday-Effekt unter Ausbildung einer zu
sätzlichen Reflexionsschicht auf dem Körper ausgenutzt wird.
Hierbei kann z. B. ein über einen Polarisator geführter Laser
strahl geringer Intensität eingesetzt werden.
Die für das erfindungsgemäße Verfahren geeigneten Materialien
für die Schicht 5 müssen eine Reihe von Grundvoraussetzungen
erfüllen bzw. magnetooptische und magnetische Eigenschaften
aufweisen, deren wichtigsten nachfolgend aufgelistet sind:
- 1) Zu verwenden sind nur (magnetooptische) Schichtmaterialien, die in einem Magnetfeld die Polarisationsebene von optischer Strahlung um einen vorzugsweise möglichst großen (magneto optischen) Drehwinkel zu drehen in der Lage sind.
- 2) Das Material muß eine ausgeprägte magnetische Anisotropie zeigen. D. h., die Achse der sogenannten "leichten" Magneti sierung soll in eine Vorzugsrichtung bezüglich der Oberflä che weisen, auf der eine dünne Schicht aus diesem Material abgeschieden wird. Die Vorzugsrichtung kann dabei senkrecht oder auch parallel zu dieser Oberfläche verlaufen. Im Hin blick auf eine magnetooptische Abbildung der Strompfade ist jedoch die senkrechte Lage der Vorzugsrichtung von beson derem Vorteil.
- 3) Das Material soll eine hohe remanente Induktion (Remanenz) in der Richtung der leichten Magnetisierung aufweisen. D. h., die remanente Induktion sollte nur höchstens 50% kleiner, vorzugsweise maximal 5% kleiner als die Sättigungsinduktion in der Vorzugsrichtung sein.
- 4) Das Material muß in der genannten Vorzugsrichtung eine Koerzitivfeldstärke Hc haben, die kleiner als die entspre chende Komponente der Feldstärke des Magnetfeldes ist, wel ches der zu überprüfende Strompfad bei Stromführung in dem elektronischen oder elektrischen Bauteil hervorruft. Da die von derartigen Bauteilen in einer Referenzebene hervorgeru fenen Feldstärken vielfach unter 100 A/m liegen, muß die Koerzitivfeldstärke Hc dementsprechend klein sein; d.h., das Material muß ausgeprägte weichmagnetische Eigenschaften auf weisen.
Die genannten Grundvoraussetzungen können vorteilhaft mit einer
V-Co-Legierung mit einem V-Gehalt zwischen 10 und 30 Atom-%,
vorzugsweise von etwa 20 Atom-%, erfüllt werden, die mittels
eines an sich bekannten Verfahrens des Ionenstrahlsputterns als
Einzelschicht oder als Mehrlagenschicht hergestellt wird. Mit
diesem Verfahren sind nämlich Schichten aus der genannten Le
gierung auszubilden, die neben einer ausgeprägten senkrechten
magnetischen Anisotropie eine hohe Remanenz sowie eine äußerst
kleine Koerzitivfeldstärke Hc (jeweils in der senkrechten Vor
zugsrichtung der Magnetisierung) aufweisen. Die Remanenz dieses
Materials kann nämlich Werte bis über 90%, insbesondere über
95% des Wertes der Sättigungsmagnetisierung zeigen. Die sich
in dieser Richtung ergebende Hysteresiskurve einer solchen
V-Co-Legierungsschicht ist in dem Diagramm der Fig. 2 als
durchgezogene Linien wiedergegeben. In diesem Diagramm ist in
Richtung der Abszisse die magnetische Feldstärke H (in Oe) und
in Ordinatenrichtung die magnetische Induktion J (in willkür
lichen Einheiten) aufgetragen. Wie aus dem Diagramm der Figur
hervorgeht, ist die Remanenz des Materials aufgrund der ausge
prägten Rechteckform der mit H⟂ bezeichneten Hysteresiskurve
nur unwesentlich kleiner als die Sättigungsinduktion des Mate
rials, d. h. annähernd 100% (bezogen auf die Sättigungsin
duktion der Legierung). Aus der Kurve H⟂ läßt sich eine Koerzi
tivfeldstärke Hc von knapp unter 1 Oe (ungefähr 80 A/m) able
sen. In dem Diagramm ist ferner in dem dargestellten Magnet
feldbereich der ungefähre Verlauf der Magnetisierungskurve er
sichtlich, die sich bei einer Magnetisierung parallel zur
Schichtoberfläche ergibt. Diese Kurve ist mit H| bezeichnet und
durch eine gestrichelte Linie veranschaulicht. Bei einem Ver
gleich des Verlaufs der beiden Kurven H⟂ und H| sind ohne wei
teres die anisotropen Magnetisierungsverhältnisse der weich
magnetischen V-Co-Legierung erkennbar.
Mit einer dünnen Schicht aus einem derartigen Material läßt
sich vorteilhaft die Funktionsfähigkeit von Strompfaden in
elektronischen, insbesondere (hoch)integrierten Schaltungen
überprüfen. Ein entsprechendes Ausführungsbeispiel ist nach
folgend anhand der Fig. 3 und 4 erläutert. Dabei zeigt Fig.
3 schematisch als Schnitt einen Teil einer integrierten Schal
tung 2 im Bereich von zwei zu überprüfenden Strompfaden 3 und
3′. Über diese beiden Strompfade sei ein Strom der Stärke I ge
führt, wobei die Stromführungsrichtungen in die Zeichenebene
hinein jeweils durch ein Kreuz veranschaulicht sind. Die Strom
stärke kann z. B. etwa 50 bis 100 µA betragen. Die beiden Strom
pfade 3 und 3′ sind gegenüber einer freien Oberfläche 2a der
Schaltung 2 um einen geringen Abstand a beabstandet. An der
Oberfläche besteht dabei die Schaltung 2 aus elektrisch isolie
rendem Material. Auf der Oberfläche 2a der Schaltung 2 befindet
sich elektrisch isoliert eine dünne Schicht 5 aus der V-Co-Le
gierung mit den geforderten magnetooptischen und weichmagneti
schen Eigenschaften. Die Dicke d dieser Schicht wird im allge
meinen zwischen 10 nm und 500 nm gewählt. Aufgrund des Stromes
I in den Strompfaden 3 und 3′ wird um diese herum und somit
auch in der Schicht 5 ein Magnetfeld H erzeugt, dessen Feld
linien f die Strompfade in bekannter Weise umschließen. Die
zugehörenden magnetischen Feldstärkeverhältnisse H⟂ in senk
rechter Richtung bezüglich der Oberfläche 2a sind aus dem
Diagramm der Fig. 4 ersichtlich. In diesem Diagramm ist in
Abszissenrichtung die örtliche Position x (in willkürlichen
Einheiten) bezüglich einer Mittellinie zwischen den beiden
Strompfaden und in Ordinatenrichtung die Feldstärke H⟂ (in A/m)
aufgetragen. Ferner ist in dem Diagramm durch gestrichelte
Linien die Koerzitivfeldstärke Hc (ebenfalls in senkrechter
Richtung) der Legierungsschicht 5 von etwa 80 A/m angegeben.
Wie aus dem Diagramm hervorgeht, überschreitet der Betrag der
Feldstärke |H⟂| im Bereich der Strompfade 3 und 3′ den Betrag
von |Hc| der Koerzitivfeldstärke, so daß dort eine Ummagneti
sierung der V-Co-Schicht 5 möglich ist. Geht man nun z.B. davon
aus, daß vor dem Einschalten des Stromes I die Schicht 5 so
magnetisiert war, daß in ihr homogen die Magnetisierung in
Richtung der Normalen auf der Oberfläche nach oben weist, dann
wird durch den angelegten Strom I im Bereich des Strompfades 3′
eine Ummagnetisierung in die Gegenrichtung bewirkt. In Fig. 3
sind die entsprechenden Magnetisierungsrichtungen durch einze
lne gepfeilte Linien m bzw. m′ veranschaulicht. Die Ummagneti
sierung bzw. die Magnetisierungsverteilung in der Schicht 5
spiegelt so die Lage und die Funktionsfähigkeit der einzelnen
Strompfade wieder.
Abweichend von dem für die Fig. 3 und 4 angenommenen Aus
führungsbeispiel können für die Strompfade 3 und 3′ auch
andere, beispielsweise entgegengesetzte Stromflußrichtungen
vorgesehen werden. Das von den Strompfaden hervorgerufene
Magnetfeld zeigt somit einen gegebenenfalls gegenüber Fig. 4
entsprechend geänderten Verlauf.
Gemäß dem erläuterten Ausführungsbeispiel wurde davon ausge
gangen, daß die Schicht 5 als Einzelschicht mit einer Dicke d
zwischen 10 nm und 500 nm an das Bauteil 2 angefügt wird. Die
geforderten weichmagnetischen Eigenschaften können jedoch auch
mit Schichten erfüllt werden, die als sogenannte Mehrlagensy
steme mit einer Dicke in der genannten Größenordnung ausge
bildet werden. Im Falle der vorteilhaft zu verwendenden V-Co-
Legierung wird ein solches System ebenfalls mittels Ionen
strahlsputterns so hergestellt, daß man alternierend dünne
Lagen aus der V-Komponente und dünne Lagen aus der Co-Kompo
nente sukzessive abscheidet. Die Anzahl der sich so periodisch
wiederholenden Schichten beträgt dabei mindestens zwei und ist
im allgemeinen wesentlich höher, z. B. 30 bis 50. Die Dicke der
einzelnen Lagen sollte für die V-Komponente zwischen 0,2 und
10 nm und für die Co-Komponente zwischen 0,2 und 3 nm liegen.
Die Abscheidung der einzelnen Lagen wird dabei so vorgenommen,
daß sich an der Grenzfläche jeweils benachbarter Lagen die
gewünschte Legierung V-Co durch Interdiffusion der Komponenten
ausbildet. Die über diese Diffusionszonen gemittelten Anteile
der einzelnen Komponenten der Legierung liegen dabei in dem
genannten Konzentrationsbereich. Ein konkretes Verfahren zur
Herstellung der Legierung sowohl in Form einer Einzelschicht
als auch in Form eines Mehrlagensystems ist in der DE-Patent
anmeldung P 39 29 614 (Anmeldetag: 6.09.1989) mit dem Titel
"Verfahren zur Abscheidung mindestens einer V-Co-Legierungs
schicht mittels Sputterns" beschrieben. Eine hierfür geeignete
Ionenstrahlsputteranlage ist z. B. der Veröffentlichung "IEEE
Trans. Magn.", Vol. MAG-24, No. 2, März 1988, Seiten 1731 bis
1733 zu entnehmen.
Gegebenenfalls ist es auch möglich, als Schicht 5 ein Mehrla
gensystem vorzusehen, bei dem praktisch keine Interdiffusions
zonen zwischen den einzelnen Komponenten einer Legierung aus
gebildet sind. Auch derartige Mehrlagensysteme können nämlich
jeweils als Gesamtsystem aus den einzelnen Lagen die geforder
ten weichmagnetischen Eigenschaften sowie eine ausgeprägte ma
gnetische Anisotropie aufweisen, obwohl zumindest einige ihrer
Lagen diese Eigenschaften nicht zu besitzen brauchen.
Neben der genannten V-Co-Legierungsschicht, deren leichte Rich
tung (Achse) der Magnetisierung (Vorzugsrichtung) senkrecht zur
Oberfläche der Schicht verläuft, sind für das erfindungsgemäße
Verfahren ebensogut auch Materialien geeignet, deren leichte
Achse in paralleler Richtung bezüglich der Schichtoberfläche
liegt. Entsprechende Materialien mit den geforderten weichma
gnetischen Eigenschaften sind allgemein bekannt. Ein Beispiel
hierfür sind spezielle Ni-Fe-Legierungen mit einem gemittelten
Fe-Gehalt zwischen 15 und 25 Atom-% wie z. B. "Permalloy". Der
artige Legierungen werden im allgemeinen durch RF-Sputtern her
gestellt.
Für das erfindungsgemäße Verfahren ist jedoch eine Schicht aus
oder mit einem weichmagnetischen Material besonders vorteil
haft, dessen leichte Richtung der Magnetisierung senkrecht zur
Schichtoberfläche verläuft. In diesem Fall ist nämlich der po
lare Kerr-Effekt vergleichsweise größer als im Fall einer
parallel zur Oberfläche liegenden Vorzugsrichtung. Es ist des
halb auch ein höherer Kontrast bei der Ermittlung des Magneti
sierungszustandes in der Schicht mittels einer magnetooptischen
Einrichtung zu erhalten. Außerdem verläuft hier die Anisotro
pie-Richtung immer senkrecht zur Stromführungsrichtung, so daß
alle Strompfade erfaßt werden.
Darüber hinaus braucht bei dem erfindungsgemäßen Verfahren die
als Einzelschicht oder als Mehrlagensystem ausgebildete Schicht
5 nicht unbedingt unmittelbar auf der freien Oberfläche 2a des
Bauteils 2 abgeschieden zu werden. Im Hinblick auf eine Ver
größerung des Kerr-Winkels ist es vorteilhaft, wenn sich zwi
schen der Schicht 5 und der Oberfläche 2a noch eine dünne
Schicht aus einem reflektierenden Material (Reflexionsschicht)
wie z. B. aus Cu, Al oder Au befindet. Ferner ist es günstig,
wenn man die Oberfläche 5a der Schicht 5 noch mit einer Anti
reflexschicht aus einem dielektrischen Material überzieht, um
so eine Erhöhung des Kontrastes bei der magnetooptischen Er
mittlung des Magnetisierungszustandes der Schicht 5 zu errei
chen. Hierfür geeignete Materialien sind z. B. ZnS, AlN oder
Si3N4.
Claims (12)
1. Verfahren zum flächenhaften Überprüfen von in
einem elektronischen oder elektrischen Bauteil verdeckt
und gegenüber einer freien Oberfläche isoliert angeordneten
Strompfaden, die bei Stromführung an der freien Oberfläche
des Bauteils ein Magnetfeld vorbestimmter Feldstärke
hervorrufen, dadurch gekennzeichnet,
- - daß an der freien Oberfläche (2a) des Bauteils (2) eine dünne weichmagnetische Schicht (5) mit magnetooptischen Eigenschaften angeordnet wird, die ausgeprägt magnetisch anisotrop ist und deren Koerzitivfeldstärke (Hc) in der leichten Richtung der Magnetisierung kleiner als die Feldstärke des von den stromführenden Strompfaden (3, 3′) erzeugten Magnetfeldes in dieser Richtung ist,
- - daß die weichmagnetische, magnetooptische Schicht (5) mit polarisiertem Licht (8) vorbestimmter, an das Material der Schicht (5) angepaßter Wellenlänge bestrahlt wird und
- - daß der den magnetooptischen Drehwinkel beeinflussende Magnetisierungszustand in der Schicht (5) als flächenhaftes Kontrastbild (15) der Schicht (5) mittels eines Polarisationsmikroskops sichtbar gemacht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß eine weichmagnetische,
magnetooptische Schicht (5) mit einer Dicke (d) zwischen
10 nm und 500 nm vorgesehen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß eine einzelne Schicht
(5) aus einem weichmagnetischen Material
aufgebracht wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß als weichmagnetische
magnetooptische Schicht (5) ein Mehrlagensystem alternierend
aus dünnen Lagen aus einzelnen Komponenten aufgebracht
wird, wobei das Gesamtsystem die weichmagnetischen
Eigenschaften und die magnetische Anisotropie aufweist.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß lagenbildende Einzelkomponenten
vorgesehen werden, welche zumindest teilweise keine
weichmagnetischen Eigenschaften aufweisen.
6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch
gekennzeichnet, daß innerhalb des Mehrlagensystems
an den Grenzflächen zwischen jeweils benachbarten
Lagen Zonen aus einem Material mit den weichmagnetischen
Eigenschaften ausgebildet werden.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß eine Dicke
der einzelnen Lagen zwischen 0,2 nm und 10 nm vorgesehen
wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß für die
weichmagnetische magnetooptische Schicht (5) eine ionenstrahlgesputterte
V-Co-Legierung mit einem gemittelten
Anteil der V-Komponente zwischen 10 und 30 Atom-% vorgesehen
wird, wobei in der Schicht (5) die leichte Richtung
der Magnetisierung senkrecht bezüglich der Oberfläche (5a)
der Schicht (5) verläuft.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß als Material
für die weichmagnetische Schicht (5), magnetooptische Schicht (5)
eine gesputterte Ni-Fe-Legierung mit einem gemittelten
Anteil der Fe-Komponente zwischen 15 und 25 Atom-% vorgesehen
wird, wobei in der Schicht (5) die leichte Richtung
der Magnetisierung parallel zur Oberfläche (5a) der
Schicht (5) verläuft.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß zwischen
der freien Oberfläche (2a) des Bauteils (2) und der weichmagnetischen,
magnetooptischen Schicht (5) eine Reflexionsschicht
zur Vergrößerung des magnetooptischen Drehwinkels
bei der magnetooptischen Ermittlung des Magnetisierungszustandes
in der Schicht (5) vorgesehen wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß die Oberfläche
(5a) der weichmagnetischen, magnetooptischen
Schicht (5) mit einer Antireflexschicht aus einem dielektrischen
Material zur Erhöhung des Kontrastes bei der
magnetooptischen Ermittlung des Magnetisierungszustandes
in der Schicht (5) vorgesehen wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die auf
einem optisch transparenten Substrat (6) aufgebrachte
weichmagnetische, magnetooptische Schicht (5) an das zu
untersuchende Bauteil (2) im Bereich der zu detektierenden
Strompfade (3, 3′) angesetzt ist.
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EP89116561 | 1989-09-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8181 | Inventor (new situation) |
Free format text: JAEGER, DIETER, PROF. DR.RER.NAT., 4400 MUENSTER, DE SPOERL, KLAUS, DIPL.-PHYS., 8600 BAMBERG, DE WELLER, DIETER, DIPL.-PHYS. DR. REIM, WOLFGANG, DIPL.-PHYS. DR., 8520 ERLANGEN, DE |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |