DE4020319C2 - - Google Patents

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DE4020319C2
DE4020319C2 DE19904020319 DE4020319A DE4020319C2 DE 4020319 C2 DE4020319 C2 DE 4020319C2 DE 19904020319 DE19904020319 DE 19904020319 DE 4020319 A DE4020319 A DE 4020319A DE 4020319 C2 DE4020319 C2 DE 4020319C2
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DE19904020319
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Masatoshi Itami Hyogo Jp Fujiwara
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1847—Manufacturing methods
    • G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns

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DE19904020319 1989-07-28 1990-06-26 Verfahren zur herstellung eines um (lambda)/4-phasenverschobenen beugungsgitters Granted DE4020319A1 (de)

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