DE4010878A1 - Vereinfachtes verfahren zur herstellung von quellfaehigen schichtsilikaten (i) - Google Patents
Vereinfachtes verfahren zur herstellung von quellfaehigen schichtsilikaten (i)Info
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Description
Die Erfindung betrifft ein vereinfachtes Syntheseverfahren zur
Herstellung wasserquellbarer Smectit-Tone und beschreibt insbesondere
eine Möglichkeit in einfacher Weise der Schwierigkeiten
Herr zu werden, die bei der Herstellung hochquellfähiger Hectorite,
Saponite und/oder Saponit-Hectorit-Hybride auftreten.
Die Synthese von Schichtsilikaten, insbesondere von Hectoriten,
ist in der Literatur vielfach beschrieben worden (H. Strese und
U. Hoffmann, Z. Anorg. Allg. Chem. 247 (1941) 65-95; W. I.
Grandquist und S. S. Pollack in "Clays and Clay Minerals" Natl.
Acad. Sci., Natl. Res. Council Publ. 8 (1960) 150-169; DE-AS
16 67 502). Eine jüngere Literaturstelle beschäftigt sich ausführlich
mit den heute vorliegenden Erkenntnissen zur Struktur,
Genese und Herstellung von Hectorit, vgl. hierzu Karl-Heinz
Bergk et al. Chem. Techn. 41. Jg., Heft 6, 245-251.
Hoch quellfähige Schichtsilikate des Typs Smectit (insbesondere
Hectorite, Saponite und/oder Saponit-Hectorit-Hybride) finden
breite Anwendung z. B. in den Bereichen Kosmetik, Lacke, Farben,
Abwasseraufbereitung und Spülflüssigkeiten. Bei fast allen
Anwendungen nutzt man das ausgeprägte Quellvermögen der Vertreter
dieser Verbindungsklasse in Wasser aus. Dem Einsatz
natürlich vorkommender Materialien der hier betroffenen Art steht
oft deren eingeschränkte Reinheit entgegen, so daß der Synthese
entsprechender Materialien mit vorbestimmbaren Stoffeigenschaften
hohe Bedeutung zukommt. Für die Praxis ist in diesem Zusammenhang
die Hydrothermal-Synthese bei hohen Temperaturen von
überragender Bedeutung. Einzelheiten zur Synthese finden sich
insbesondere in der zuletzt genannten Literaturstelle Karl-Heinz
Bergk et al., vgl. hier insbesondere die Fließschemen aus den
Bildern 3 und 4 auf der Seite 247 a. a. O.
Ein großtechnisch bedeutungsvolles Anwendungsgebiet hoch quellfähiger
synthetischer Schichtsilikate der hier betroffenen Art ist
deren Verwendung als Mittel zum Viskositätsaufbau in wäßrigen
Bohrspül- und Bohrlochbehandlungsmitteln bei der Exploration
und Erschließung von Lagerstätten von beispielsweise Erdöl und
Erdgas, aber auch beim Geothermiebohren, beim Wasserbohren,
bei der Durchführung geowissenschaftlicher Bohrungen und bei
Bohrungen im Bergbaubereich. Aus der einschlägigen Literatur ist
hier insbesondere die EP-A 2 60 538 zu nennen. Geschildert wird
hier die Verwendung von ausgewählten synthetischen quellfähigen
Schichtsilikaten des Hectorit- und/oder Saponit-Typs für solche
wasserbasierten Bohrspülsysteme. Die zuletzt genannte Literaturstelle
beschreibt in ihrem Beispiel 1 ein typisches Verfahren zur
Herstellung der dort zu verwendenden synthetischen Schichtsilikate
vom Hectorit-Typ. Aus Magnesiumsulfat, Natronlauge,
Natriumsilikatlösung und Lithiumcarbonat wird eine wäßrige Suspension
hergestellt, die dann etwa 4 Stunden bei 180°C im
Rührautoklaven zur Umsetzung gebracht wird. Das entstandene
Produkt muß dann von der Mutterlauge abfiltriert und der dabei
gewonnene Filterkuchen mit entionisiertem Wasser gewaschen
werden, bevor die Trocknung des Materials erfolgt. Diese entscheidenden
Schritte des Filtrierens eines primär gebildeten
Hectorit-Slurries mit nachfolgendem Waschen der abgetrennten
Feststoffphase sind auch integrale Bestandteile der in den
Fließbildern 3 und 4 aus der zitierten Literaturstelle Karl-Heinz
Bergk et al. a. a. O. Seite 247 gezeigten Verfahren. Notwendig ist
dieses Filtrieren und Waschen zur Abtrennung von Fremdbestandteilen,
die über die eingesetzten Reaktanten und/oder Reaktionshilfsmittel
in das Reaktionsrohgemisch eingeschleppt worden
sind. In der Regel handelt es sich hierbei um wasserlösliche Salze
wie Natriumsulfat, Natriumcarbonat oder Natriumchlorid sowie um
den im Rahmen der Hydrothermalsynthese eingesetzten Überschuß
an freiem Alkali.
Dieser scheinbar einfache Schritt der Abtrennung der gelöste
Salze enthaltenden wäßrigen Phase und das nachfolgende Waschen
des synthetischen Smectit-Tons bringen für das praktische Verfahren
beträchtliche Schwierigkeiten. Sofort verständlich wird das
aus folgendem: Das gebildete hoch quellfähige Schichtsilikat hält
wenigstens Anteile der wäßrigen Reaktionsphase hartnäckig fest,
und fordert besondere Intensität für die nachfolgende Reinigung
durch eine Wasserwäsche. Die Wirtschaftlichkeit des Gesamtverfahrens
wird durch die hier genannten Aufarbeitungsschritte über
Gebühr belastet. Hier setzt die Aufgabe der Erfindung an.
Die Erfindung hat sich zur Aufgabe gemacht, das an sich bekannte
Verfahren zur Herstellung synthetischer und insbesondere
hoch quellfähiger Smectit-Tone derart auszugestalten, daß eine
Reinigung des Reaktionsrohproduktes durch Filtration und nachfolgende
Wäsche nicht mehr die bisher bekannten Schwierigkeiten
bereitet. Die Erfindung will es in einer besonderen Ausführungsform
ermöglichen, hochreine Smectit-Tone vorgegebener Struktur
und Quellfähigkeit durch einfaches Auftrocknen des in der hydrothermalen
Umsetzung primär anfallenden Reaktionsrohproduktes
zugänglich zu machen, ohne daß eine intensive Wäsche des Reaktionsrohproduktes
nötig wäre.
Zur technischen Lösung dieser Aufgabe sieht die Erfindung zwei
Hauptelemente vor: Die Ausbildung des basischen Milieus für die
hydrothermale Umsetzung wird durch den Einsatz einer ausgewählten
flüchtigen Base gewährleistet. In einer bevorzugten
Ausführungsform soll weiterhin das Reaktantengemisch für die
hydrothermale Schichtsilikat-bildende Reaktion frei oder praktisch
frei von solchen Bestandteilen sein, die im Rahmen der Umsetzung
nicht-flüchtige Reaktionsbeiprodukte, insbesondere entsprechende
Salze, bilden.
Gegenstand der Erfindung ist dementsprechend ein Verfahren zur
Herstellung von quellfähigen Schichtsilikaten vom Smectit-Typ
durch hydrothermale Druckbehandlung von Gemischen und/oder
Copräzipitaten der Schichtsilikat-bildenden Komponenten in
Gegenwart eines Überschusses an Wasser und freier Basen. Das
neue Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man in die hydrothermale
Reaktionsstufe eine Reaktionsmischung einbringt,
deren Basenüberschuß mittels Ammoniak ausgebildet ist. Bei der
Aufbereitung des Reaktionsrohprodukts wird gewünschtenfalls das
wäßrig basische Reaktionsmedium wenigstens anteilig vom gebildeten
Schichtsilikat abgetrennt.
In einer wichtigen Ausführungsform wird dabei mit wenigstens
überwiegend oxidische und/oder hydroxidische Reaktanten enthaltenden
Reaktionsmischungen als Ausgangsmaterial für die
hydrothermale Umsetzung gearbeitet. Diese Einsatzgemische sind
von nicht-flüchtigen Fremdbestandteilen im wesentlichen frei und
enthalten als flüchtige Mischungskomponenten das für die Hydrothermalsynthese
benötigte Wasser sowie Ammoniak zur Einstellung
des basischen Reaktionsmilieus.
Das erfindungsgemäße Verfahren hat insbesondere Bedeutung für
die Herstellung von synthetischen quellfähigen Schichtsilikaten,
wie sie in der EP-A 2 60 538 beschrieben sind und dementsprechend
gekennzeichnet sind durch die nachfolgende allgemeine
Formel (I)
MgO · aMA · bAl₂O₃ · cSiO₂ · nH₂O (I)
in der bedeuten
M = Na⁺ und/oder Li⁺ bei einem Na/Li-Verhältnis gleich oder größer 1
A = F-, OH- und/oder O2- sowie
a, b, c und n Zahlen sind gemäß
a = 0,1 bis 0,6
b = 0 bis 0,3
c = 1,2 bis 1,7
n = 0 bis 3,0.
M = Na⁺ und/oder Li⁺ bei einem Na/Li-Verhältnis gleich oder größer 1
A = F-, OH- und/oder O2- sowie
a, b, c und n Zahlen sind gemäß
a = 0,1 bis 0,6
b = 0 bis 0,3
c = 1,2 bis 1,7
n = 0 bis 3,0.
Im Ansatz für die Hydrothermalsynthese werden in der zuvor
geschilderten bevorzugten Ausführungsform die Magnesium,
Aluminium und Silicium enthaltenden Reaktanten als oxidische
und/oder hydroxidische Reaktionskomponenten eingebracht.
Gleiches gilt für Natrium und gegebenenfalls Lithium, soweit hier
nicht das Fluoridion eingeführt werden muß. In an sich bekannter
Weise können gemischte Verbindungen, wie Natriumsilikat und/-
oder Natriumaluminat, in den Reaktionsansatz gegeben werden.
Wesentlich ist für die Erfindung, daß auf die Mitverwendung
störender Mengen von Fremdbestandteilen verzichtet wird, wie sie
beispielsweise beim Einsatz von Magnesiumsalzen - etwa von der
Art des Magnesiumsulfats oder des Magnesiumchlorids - in die Reaktionsmischung
eingetragen werden und damit die Notwendigkeit
zur nachfolgenden Abtrennung und Reinigung des Reaktionsrohprodukts
fordern.
Nach Abschluß der hydrothermalen Reaktionsphase können die gebildeten
quellfähigen Schichtsilikate durch einfaches Trocknen von
Wasser und Ammoniak befreit werden. Diese Trocknung kann bei
Normaldruck und/oder bei verringertem Druck durchgeführt werden
und durch Einsatz erhöhter Temperaturen beschleunigt
werden. Die über die Dampfphase abgetriebenen Anteile des
Reaktionsansatzes können gewünschtenfalls kondensiert und ganz
oder teilweise in Kreislaufführung für weitere Reaktionsansätze
eingesetzt werden. Die Trocknung des Produktes und/oder das
Abtreiben der freien flüchtigen Base kann beispielsweise bei
Temperaturen bis zu 300°C, vorzugsweise im Bereich zwischen 50
von etwa 250°C erfolgen, wobei dem Temperaturbereich von etwa
80 bis 180°C besondere Bedeutung zukommen kann.
Mit dieser Trocknungsstufe kann im erfindungsgemäßen Verfahren
nicht nur das Wasser, sondern insbesondere auch die zur Reaktionssteuerung
eingesetzte flüchtige basische Verbindung abgetrieben
werden. Dieser Verfahrensschritt kann einstufig oder
mehrstufig im Sinne eines gemeinsamen Abtreibens von Wasser und
flüchtiger Base oder einer stufenweise Abtrennung dieser flüchtigen
Reaktionshilfsmittel erfolgen.
Der Zeitraum für eine solche abschließende Trocknung- und/oder
Temperaturbehandlung ergibt sich primär aus dem benötigten
Zeitraum für das Abtreiben der flüchtigen Bestandteile. Im allgemeinen
wird dieser Zeitraum 1 bis 2 Stunden nicht überschreiten.
Die Temperaturbehandlung kann dabei im Bereich von
einigen Minuten bis etwa 45 Minuten liegen.
Das anfallende feste Reaktionsprodukt wird zweckmäßigerweise zu
einem feinen Pulver zermahlen. Hierfür sind alle geeigneten
Mahlvorrichtungen, beispielsweise Zahnscheibenmühlen, geeignet.
Zur Durchführung der Grundreaktion unter den Bedingungen der
hydrothermalen Synthese im einzelnen gelten die umfangreichen
Angaben des referierten Standes der Technik. So kann in der
bevorzugten Ausführungsform als magnesiumhaltige Verbindung
Magnesiumhydroxid oder Magnesiumoxid eingesetzt werden, als
siliciumhaltige Verbindung kann insbesondere amorphe Kieselsäure,
beispielsweise Fällungskieselsäure, Diatomeenerde, anteilig
aber auch Wasserglas mit der Maßgabe eingesetzt werden, daß der
damit zugleich eingetragene Gehalt an Natriumhydroxid den
stöchiometrisch gewünschten Anteil nicht oder nicht wesentlich
überschreitet. Als aluminiumhaltige Verbindung kann Aluminiumhydroxid,
sogenanntes Aluminiumfeuchthydrat oder Aluminatlauge
unter Berücksichtigung der zuvor zum Wasserglas gegebenen
Einschränkung eingesetzt werden. Eine geeignete lithiumhaltige
Verbindung ist beispielsweise Lithiumhydroxid. Sollen Fluoridionen
in das Reaktionsprodukt eingetragen werden, so eignen sich
insbesondere entsprechende Anteile von Natrium- und/oder Lithiumfluorid.
Die jeweils einzusetzende Menge der flüchtigen Base kann in einem
verhältnismäßig weiten Bereich liegen und - bezogen auf das im
Reaktionsansatz vorgelegte Magnesiumoxid - beispielsweise im
Bereich von 0,1 bis 5 Mol der flüchtigen Base pro Mol Magnesiumoxid
liegen. Es wird dabei in der Regel bevorzugt sein, die
Menge dieser basischen Komponente möglichst einzuschränken, so
daß bevorzugte Zugabemengen der Base zum Reaktionssansatz für
die hydrothermale Umsetzung im Bereich von etwa 0,2 bis 2 Mol
Ammoniak pro Mol Magnesiumoxid des Reaktionsansatzes liegen.
Für die Wahl der Verfahrensparameter der hydrothermalen Reaktion
gelten ebenfalls die Angaben des Standes der Technik. Die
Reaktion wird dementsprechend insbesondere unter dem Eigendruck
des Reaktionsgemisches bei Verfahrenstemperatur durchgeführt.
Als Verfahrenstemperaturen sind insbesondere die Bereiche
von etwa 150 bis 300°C, zweckmäßigerweise von etwa 200
bis 270°C zu nennen. Die Reaktionszeit liegt im Bereich 1 bis 100
Stunden, vorzugsweise zwischen etwa 1 und 20 Stunden. Üblicherweise
ist die Reaktion nach etwa 2 bis 8 Stunden so weit
fortgeschritten, daß die Aufarbeitung im Sinne der erfindungsgemäßen
Trocknungsbehandlung vorgenommen werden kann.
Die Feststoffgehalte während der hydrothermalen Reaktionsphase
liegen im üblichen Bereich. So kann beispielsweise der Feststoffgehalt
bis zu etwa 40% (Masseanteile) im wäßrig/basischen
Reaktionsgemisch angehoben werden. Bevorzugt wird allerdings
bei niedrigeren Feststoffgehalten gearbeitet, der im Bereich bis
etwa 15% (Masseanteile) und insbesondere unterhalb etwa 10%
(Masseanteile) liegt. Im einzelnen vgl. hierzu die Angaben des
zitierten druckschriftlichen Standes der Technik, beispielsweise in
Karl-Heinz Bergk et al. a. a. O.
Die Erfindung betrifft in weiteren Ausgestaltungen die nach dem
erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten quellfähigen Smectit-
Tone sowie deren Einsatz insbesondere im Rahmen von wasserbasierten
Bohrspülsystemen, wie sie im einzelnen in der EP-A 2 60 538
beschrieben sind.
Zur Durchführung der hydrothermalen Synthese in einem Reaktionsautoklaven
werden die im nachfolgenden angegebenen Reaktanten
zusammengegeben:
21,0 g MgO, 98%ig
2,0 g LiOH, 98%ig
79,1 g Wasserglas 37/40 (Fa. HENKEL)
26,4 g Fällungskieselsäure FK320 (Fa. DEGUSSA)
13,6 g Ammoniaklösung, 25%ig
863,8 g dest. Wasser
2,0 g LiOH, 98%ig
79,1 g Wasserglas 37/40 (Fa. HENKEL)
26,4 g Fällungskieselsäure FK320 (Fa. DEGUSSA)
13,6 g Ammoniaklösung, 25%ig
863,8 g dest. Wasser
Das Reaktantengemisch dieses Ansatzes entspricht den nachfolgenden
Molverhältnissen:
1 MgO : 1,5 SiO₂ : 0,08 Li₂O : 0,2 Na₂O : 0,4 NH₃ : 120 H₂O
Im einzelnen wird dabei wie folgt gearbeitet:
Magnesiumoxid wurde in ca. 700 g Wasser am Pendraulikrührer
aufgeschlämmt, Lithiumhydroxid darin gelöst, und dazu die
Mischung aus Wasserglas, ca. 150 g Wasser und Fällungskieselsäure
gegeben. Die Suspension wurde nach 5minütigem Nachrühren
in den Autoklaven gegeben, in den nach dem Verschließen
die Ammoniaklösung zugefügt wurde.
Kristallisation: 4 Stunden bei 250°C
Kristallisation: 4 Stunden bei 250°C
Das so hergestellte Produkt wurde nach Abkühlen sofort im Umlufttrockenschrank
bei 120°C getrocknet und vermahlen.
Gemäß den Angaben des Beispiels 1 wird eine Reihe Reaktionsansätzen
mit den jeweils nachfolgenden Molverhältnissen zusammengestellt:
- 1) Hectorite
- a) 1 MgO : 1,5 SiO₂ : 0,08 Li₂O : 0,2 Na₂O : 0,4 NH₃ : 120 H₂O
- b) 1 MgO : 1,5 SiO₂ : 0,08 Li₂O : 0,1 Na₂O : 0,6 NH₃ : 120 H₂O
- c) 1 MgO : 1,5 SiO₂ : 0,08 Li₂O : 0,1 Na₂O : 1,2 NH₃ : 120 H₂O
- 2) Saponite
- a) 1 MgO : 1,15 SiO₂ : 0,03 Al₂O₃ : 0,35 Na₂O : 1,0 NH₃ : 120 H₂O
Die jeweils angefallenen Produkte wurden nach den folgenden
Hauptkriterien untersucht:
- - Röntgenbeugungsanalyse (Kristallinität)
- - Viskosität der 2,5%igen Suspension in destilliertem Wasser nach 24 Stunden
- - Modifizierte Sedimentationszahl (Quellvermögen)
Zur Bestimmung der modifizierten Sedimentationsanzahl wird wie
folgt vorgegangen:
2 g des Reaktionsprodukts in 94 ml 0,01molarer wäßriger EDTA-
Lösung werden 8 Minuten gerührt, dann werden 4 ml einer
10%igen Natriumchloridlösung zugegeben und 2 Minuten nachgerührt.
Das Produkt wird in einen Meßzylinder gegeben. Nach 24
Stunden im Meßzylinder bei Raumtemperatur wird das Volumenverhältnis
von Sediment/Gesamtvolumen bestimmt.
Die in den jeweiligen Versuchen eingesetzten Arbeitsbedingungen
sind in der nachfolgenden Tabelle angegeben. Grundsätzlich gilt,
daß alle hergestellten Produkte in der Röntgenbeugungsanalyse
gut ausgeprägte kristalline Beschaffenheit zeigen.
Claims (8)
1. Verfahren zur Herstellung von quellfähigen Schichtsilikaten
vom Smectit-Typ durch hydrothermale Druckbehandlung von
Gemischen und/oder Copräzipitaten der Schichtsilikatbildenden
Komponenten in Gegenwart eines Überschusses an
Wasser und freier Basen, dadurch gekennzeichnet, daß man
in die hydrothermale Reaktionsstufe eine Reaktionsmischung
einbringt, deren Basenüberschuß mittels Ammoniak ausgebildet
ist und daß man bei der Aufbereitung des Reaktionsprodukts
gewünschtenfalls das wäßrig-basische
Reaktionsmedium wenigstens anteilig vom gebildeten
Schichtsilikat abtrennt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
man eine wenigstens überwiegend oxidische und/oder
hydroxidische Reaktanten enthaltende Reaktionsmischung, die
von nicht-flüchtigen Fremdbestandteilen im wesentlichen frei
ist, in die hydrothermale Umsetzung einbringt.
3. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet,
daß man beim Vorliegen im wesentlichen flüchtiger
Beikomponenten im Reaktionsrohgemisch wenigstens auf eine
intensive Wäsche des Reaktionsrohproduktes verzichtet.
4. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß man die Schichtsilikate durch Trocknung - vorzugsweise
bei Normaldruck und/oder verringerten Drucken -
von Wasser und/oder Ammoniak befreit und gegebenenfalls
nach einer Zerkleinerung ein feinpulvriges Festprodukt
gewinnt, wobei Trocknungstemperaturen bis etwa 300°C,
vorzugsweise solche im Bereich von 50 bis 250°C bevorzugt
sein können.
5. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß man synthetische quellfähige Schichtsilikate der
nachfolgenden allgemeinen Formel (I) herstellt
MgO · aMA · bAl₂O₃ · cSiO₂ · nH₂O (I)in der bedeuten
M = Na⁺ und/oder Li⁺ bei einem Na/Li-Verhältnis gleich oder größer 1
A = F-, OH- und/oder 1/2 O2- sowie
a, b, c und n Zahlen sind gemäß
a = 0,1 bis 0,6
b = 0 bis 0,3
c = 1,2 bis 1,7
n = 0 bis 3,0.
M = Na⁺ und/oder Li⁺ bei einem Na/Li-Verhältnis gleich oder größer 1
A = F-, OH- und/oder 1/2 O2- sowie
a, b, c und n Zahlen sind gemäß
a = 0,1 bis 0,6
b = 0 bis 0,3
c = 1,2 bis 1,7
n = 0 bis 3,0.
6. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß man die hydrothermale Umsetzung beim Eigendruck
des Reaktionssystems unter Umsetzungsbedingungen durchführt.
7. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß man die hydrothermale Umsetzung bei Temperaturen
von etwa 150 bis 300°C, vorzugsweise von etwa 200 bis
270°C bei Reaktionszeiten zwischen 1 und 20 Stunden,
vorzugsweise zwischen 2 und 8 Stunden durchführt.
8. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
daß man Ammoniak in Mengen von 0,1 bis 5 Mol, vorzugsweise
in Mengen von 0,2 bis 2 Mol - bezogen jeweils pro
Mol Magnesiumoxid des Reaktionsansatzes - einsetzt.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19904010878 DE4010878A1 (de) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | Vereinfachtes verfahren zur herstellung von quellfaehigen schichtsilikaten (i) |
PCT/EP1991/000586 WO1991015429A1 (de) | 1990-04-04 | 1991-03-26 | Verfahren zur herstellung von quellfähigen schichtsilikaten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19904010878 DE4010878A1 (de) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | Vereinfachtes verfahren zur herstellung von quellfaehigen schichtsilikaten (i) |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4010878A1 true DE4010878A1 (de) | 1991-10-10 |
Family
ID=6403753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19904010878 Withdrawn DE4010878A1 (de) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | Vereinfachtes verfahren zur herstellung von quellfaehigen schichtsilikaten (i) |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4010878A1 (de) |
WO (1) | WO1991015429A1 (de) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US3959118A (en) * | 1972-05-26 | 1976-05-25 | N L Industries, Inc. | Hydrocarbon cracking with synthetic smectite compositions |
US3892655A (en) * | 1972-12-01 | 1975-07-01 | Chevron Res | Layered clay minerals, catalysts, and processes for using |
US4054537A (en) * | 1976-04-26 | 1977-10-18 | N L Industries, Inc. | Process for synthesizing compositions containing smectite-type clays and gellants produced thereby |
JPS58181718A (ja) * | 1982-04-16 | 1983-10-24 | Kunimine Kogyo Kk | 新規合成珪酸塩ならびにその製造方法 |
-
1990
- 1990-04-04 DE DE19904010878 patent/DE4010878A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-03-26 WO PCT/EP1991/000586 patent/WO1991015429A1/de unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1991015429A1 (de) | 1991-10-17 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |