DE4009967A1

DE4009967A1 - Verfahren zur porenbildung in moertel

Info

Publication number: DE4009967A1
Application number: DE19904009967
Authority: DE
Inventors: Lothar Mansfeld
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1989-06-26
Filing date: 1990-03-28
Publication date: 1991-01-10

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Porenbildung in Mörtel durch Beimischung eines Pulvers eines durch chemische Reaktion mit einer anderen Mörtelkomponente gasbildenden Stoffs. Beispielsweise ist es bekannt, Quell- oder Treibmörtel sowie bei der Herstellung von Porenbeton Pulver von Aluminium, Silicium oder Calciumcarbit beizumischen, die mit den im Mörtel enthaltenen Wasser, insbesondere wenn dies basisch ist, reagieren und ein Gas freisetzen, das die gewünschten Poren bildet. Bei den bisher bekannten Quellmitteln, Treibmitteln oder Gasbildnern beginnt die Reaktion unverzüglich nach Anmischen des Mörtels. Dies ist nachteilig, weil der Mörtel rasch verarbeitet werden muß und weil dies manche Anwendungen (beispielsweise die Herstellung von Ort-Gasbeton) sowie die Erzielung zuverlässiger Mörtel- oder Betoneigenschaften, die auf einer definierten Gasbildung beruhen, ausschließt oder erschwert.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Porenbildung in Mörtel zu schaffen, das diese Nachteile nicht aufweist.

Die erfindungsgemäße Lösung besteht darin, daß die Pulverpar tikeln vor der Mischung mit dem Mörtel mit einer sie gegenüber ihrem Reaktionspartner im Mörtel zeitweilig inaktivierenden Oberflächenschicht versehen werden.

Die inaktivierende Oberflächenschicht verhütet oder hemmt während einer gewissen Zeitspanne den Zutritt des flüssigen Reaktionspartners zu dem reaktionsfähigen Teil der Partikel und verhindert oder verlangsamt dadurch während dieser Zeit dauer die Gasbildung. Dies gibt Gelegenheit, den Mörtel in die gewünschte Form zu bringen, bevor die Porenbildung beginnt. Diese Zeitdauer kann durch die Art und die Dicke der Inakti vierungsschicht unter Berücksichtigung der Art des Reaktions partners im Mörtel gezielt eingestellt werden.

Wichtige Gasbildner sind in der Praxis Metalle, insbesondere Aluminium und metallähnliche Stoffe wie Silicium, die die Eigenschaft haben, daß sie recht stabile Oxide bilden. Nach der Erfindung werden diese Stoffe zur Bildung der inaktivie renden Oberflächenschicht einem Oxidationsmittel ausgesetzt. Die Einwirkungsbedingungen (insb. Konzentration, Einwirkungs dauer und Temperatur) des Oxidationsmittels werden entspre chend dem gewünschten Inaktivierungsgrad gewählt. Man erhält so ein Gasbildungspulver mit definierten Inaktivierungseigen schaften, die in Verbindung mit bestimmten Mörteln bestimmte Verzögerungszeiten bei der Gasbildung ergeben. Als Oxidations mittel kann auch gasförmiger Sauerstoff angewendet werden. Verwendet werden kann atmophärischer Sauerstoff oder auch eine sauerstoffangereicherte Atmosphäre oder reiner Sauerstoff ggf. bei erhöhter Temperatur unterhalb der Sintertemperatur des Metalls, vorzugsweise über 400°C. Der Sauerstoff kann akti viert werden, beispielsweise durch Bestrahlung mit UV-Licht von etwa 240 nm Wellenlänge.

Eine andere Möglichkeit zur Inaktivierung besteht in der Bildung einer die Oberfläche abdeckenden Schicht von Fett, Öl, Harz oder Wachs, deren Wirkung unter Mörtelbedingungen mehr oder weniger rasch nachläßt, insbesondere durch Verseifung in basischem Mörtelwasser. Die Substanz wird so ausgewählt, daß sie für die gewünschten Verzögerungszwecke geeignete Schicht bildungseigenschaften und einen geeigneten Verseifungswider stand aufweist. Zweckmäßig können Substanzen mit hohem Versei fungswiderstand sein, beispielsweise Lanolin, insbesondere Wollwachs, oder trocknende Öle wie Leinöl (insbesondere gekochtes Leinöl), Silikonöle, Silikonharze und deren Modifi kationen. Auf diese Weise lassen sich daher auch solche gasbildenden Substanzen der Gasbildungsverzögerung unterwer fen, bei denen dies nicht durch Oxidation an der Oberfläche möglich ist. Zur möglichst gleichmäßigen Verteilung der Schichtsubstanz im Pulver können bekannte Techniken herangezo gen werden, wie sie z.B. in Sprühtürmen zur Instantisierung von Nahrungsmittelpulver oder zum Auffetten von Futtermitteln verwendet werden.

Jedoch hat sich die gezielte Oxidation als besonders wirksam und gut steuerbar erwiesen. Sie wird deshalb im allgemeinen bevorzugt. Das gilt insbesondere bei der Verwendung von Silicium oder eines Silicids, insbesondere Ferrosilicium, als gasbildende Substanz. Sogar bei extrem alkalischen Mörteln, beispielsweise Wasserglasmörtel, lassen sich bei diesen Stoffen durch gezielte Oxidation vorbestimmte Ruhezeiten vor Beginn der Gasbildung zwischen einigen Minuten und einigen Stunden gezielt darstellen.

Damit der erzielte Oxidationsgrad (Dicke und Dichte der Oxidationsschicht) bei oxidationsempfindlichen Stoffen nicht nachträglich durch die Einwirkung der Atmosphäre verändert wird kann es zweckmäßig sein, die behandelten Pulverpartikeln vor dem oxidierenden Einfluß der Atmosphäre zu schützen, indem das Pulver beispielsweise unter Schutzgasatmosphäre oder unter Vakuum verpackt wird oder die Pulverpartikeln mit einem Schutzfilm versehen werden. Vorzugsweise werden solche Sub stanzen zur Bildung des Schutzfilms verwendet, die zum "Krie chen" neigen, d.h. die Eigenschaft aufweisen, sich auf der zugänglichen Oberfläche in extrem geringer Schichtdicke auszubreiten, und die dadurch einerseits selbst bei fehlender oder unvollkommener Mischung mit dem Pulver den gewünschten Schutzeffekt ergeben und anderseits nur in sehr geringer, die Mörteleigenschaften nicht störender Menge benötigt werden. Sie werden zweckmäßigerweise von einem leicht verseifbaren Öl, Fett, Harz oder Wachs gebildet, damit sie im basischen Mörtel aufgelöst werden können.

In Ausnahmefällen kann es vorkommen, daß ein Material von Haus aus infolge der Art seiner Gewinnung oder aufgrund langzeiti ger Lagerung unter ungünstigen Umständen so stark oxidiert ist, daß es zu inaktiv ist oder seine Aktivität zu ungleichmä ßig ist, um für die gezielte Einstellung der Gasbildungsverzö gerung geeignet zu sein. Erfindungsgemäß wird in diesen Fällen eine Beseitigung der Oxidationsschicht durch Reduktion oder Salzbildung vorgesehen, vorzugsweise durch Fluoridierung durch Einwirkung von Flußsäure. Diese Fluoridierung kann in vielen Fällen so gezielt durchgeführt werden, daß wiederum eine ge wünschte, geringere Verzögerungszeit bei der Gasbildung er reicht wird oder daß die Oxidationsschicht vollständig be seitigt oder auf ein solches Maß verringert wird, daß an schließend durch Oxidation oder auf andere Weise eine Schutz schicht mit berechenbarer Verzögerungszeit erzeugt werden kann.

Das Verhalten des gasbildenden Stoffs im Mörtel ist auch von der Größe seiner spezifischen Oberfläche abhängig und damit von seiner Partikelgröße. Auch die Verzögerungszeit kann davon beeinflußt sein. Dies ist bei den Inaktivierungsmaßnahmen zu berücksichtigen.

Die Erfindung verlangt nicht, daß die gasbildende Substanz in jedem Falle einer chemischen oder physikalischen Behandlung unterworfen wird. Vielmehr kann in Ausnahmefällen auch ein vorgefundener Oxidationsgrad eines als Gasbildner zu verwen denden Stoffs festgestellt und einer bestimmten Verzögerungs zeit bei gegebenen Mörteln zugeordnet werden. Auch in einem solchen Fall wird der Erfindungsgedanke genutzt, das Vorhandensein einer Schutzschicht auf den Partikeln des gasbildenden Stoffs gezielt für die Gasbildungsverzögerung einzusetzen.

Wenn im vorliegenden Zusammenhang von Pulver gesprochen wird, so soll damit nicht zum Ausdruck gebracht werden, daß der gasbildende Stoff eine bestimmte Feinheit aufweisen muß; die gewünschte Partikelgröße richtet sich vielmehr nach den gewünschten Eigenschaften der Gasbildungsreaktion und der gewünschten Porenfeinheit.

In den folgenden Beispielen wird jeweils an erster Stelle die Art der gasbildenden Substanz, dann unter a) deren Verzöge rungszeit in einem angegebenen Mörtel im unbehandelten Zustand der Substanz angegeben. Unter b) wird jeweils das Behandlungs verfahren und die damit erzielbare Verzögerungszeit angegeben.

Beispiel 1

Silicium, Feinheit: <0,15 mm

a) Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"unbehandelt": ca. 5 Minuten
b) Behandlungsverfahren - Mischungsansatz
6 g Silicium
4 g Wasserstoffperoxid H₂O₂, 7%ig
Einwirkdauer: ca. 15 Minuten bei ca. 20°C
Trocknung bei Temperatur <100°C
Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"behandelt": ca. 20 Minuten

Beispiel 2

Ferrosilicium (79% Si, 21% Fe), Feinheit: <0,1 mm

a) Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"unbehandelt": ca. 7 Minuten
b) Behandlungsverfahren - Mischungsansatz
6 g Ferrosilicium
4 g Wasserstoffperoxid H₂O₂, 7%ig
Einwirkdauer: ca. 15 Minuten bei ca. 20°C
Trocknung bei Temperatur <100°C
Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"behandelt": ca. 40 Minuten

Beispiel 3

Aluminium, Feinheit: spez. Oberfläche (Blaine) ca. 10 000 cm²

a) Reaktionsbeginn in Zementmörtel
"behandelt": ca. 3 Minuten
b) Behandlungsverfahren - Mischungsansatz
5 g Aluminium
20 g Wasserstoffperoxid H₂O₂, 10%ig
Einwirkdauer: ca. 20 Minuten bei ca. 20°C
Trocknung bei Temperatur <100°C
Reaktionsbeginn in Zementmörtel
"behandelt": ca. 10 Minuten

Beispiel 4

Ferrosilicium (79% Si, 21% Fe), Feinheit: <0,1 mm

a) Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"behandelt": ca. 7 Minuten
b) Behandlungsverfahren - Mischungsansatz
6 g Ferrosilicium
4 g KMnO₄-Lösung, Konzentration: *)%ig
Einwirkdauer: ca. 15 Minuten bei ca. 20°C
Trocknung bei Temperatur <100°C
Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
nach der Behandlung mit
- 1.) 0,25%iger*) KMnO₄-Lösung: ca. 50 Minuten
- 2.) 0,50%iger*) KMnO₄-Lösung: ca. 70 Minuten
- 3.) 1,00%iger*) KMnO₄-Lösung: ca. 135 Minuten

Beispiel 5

Ferrosilicium (79% Si, 21% Fe), Feinheit: <0,1 mm

a) Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"unbehandelt": ca. 7 Minuten
b) Behandlungsverfahren - Temperaturbehandlung
Erhitzung des Ferrosiliciums auf 400°C
Aufheizgeschwindigkeit: 150°C/h
Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"behandelt": ca. 30 Minuten

Beispiel 6

Ferrosilicium (79% Si, 21% Fe), Feinheit: <0,1 mm

a) Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"unbehandelt": ca. 7 Minuten
b) Behandlungsverfahren - Mischungsansatz
6 g Ferrosilicium
4 g Flußsäure HF, 2%ig
Einwirkdauer: ca. 15 Minuten bei ca. 20°C
Trocknung bei Temperatur <100°C
Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"behandelt": Sofort

Beispiel 7

Ferrosilicium (79% Si, 21% Fe), Feinheit: <0,1 mm

a) Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"unbehandelt": <100 Minuten
b) Behandlungsverfahren - Mischungsansatz
6 g Ferrosilicium
4 g Flußsäure HF, 2%ig
Einwirkdauer: ca. 15 Minuten bei ca. 20°C
Trocknung bei Temperatur <100°C
Reaktionsbeginn in Polymerwasserglasmörtel
"behandelt": ca. 40 Minuten

Claims

1. Verfahren zur Porenbildung in Mörtel durch Beimischung eines Pulvers eines durch chemische Reaktion mit einer anderen Mörtelkomponente gasbildenden, pulverförmigen Stoffs, dadurch gekennzeichnet, daß die Pulverpartikeln vor der Mischung mit dem Mörtel mit einer sie gegenüber ihrem Reaktionspartner im Mörtel zeitweilig inaktivieren den Oberflächenschicht versehen werden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der gasbildende Stoff ein Metall oder Silicium umfaßt und zur Bildung der inaktivierenden Oberflächenschicht einem Oxidationsmittel ausgesetzt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration und/oder Einwirkungsdauer des Oxidationsmit tels entsprechend der gewünschten Inaktivierungsdauer und Mörtelart gewählt wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Pulver einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre bei erhöhter Temperatur ausgesetzt wird.

5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Pulver einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre mit durch Bestrahlung aktiviertem Sauerstoff ausgesetzt wird.

6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bildung der inaktivierenden Oberflächenschicht ein ver seifbares Fett, Öl, Harz oder Wachs verwendet wird.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Pulverpartikeln nach der Oxidation gegenüber dem oxidierenden Einfluß der Atmosphäre ge schützt werden.

8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Pulver unter Schutzgasatmosphäre oder Vakuum verpackt wird.

9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Pulverpartikeln mit einem Schutzfilm versehen werden.

10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bildung des Schutzfilms ein verseifbares Fett, Öl, Harz oder Wachs verwendet wird.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der porenbildende Stoff ein Silicid, insbesondere Ferrosilicium ist.

12. Verfahren zur Porenbildung in Mörtel durch Beimischung eines Pulvers eines durch chemische Reaktion mit einer anderen Mörtelkomponente gasbildenden, pulverförmigen Stoff, dadurch gekennzeichnet, daß eine die Oberfläche der Pulverpartikeln inaktivierende Oxidschicht zuvor ganz oder teilweise beseitigt wird.

13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Stoff mit Flußsäure behandelt wird.

14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß ihm das Verfahren gemäß Anspruch 12 oder 13 vorgeschaltet wird.