DE3942896A1 - Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche - Google Patents
Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaecheInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen interferometrischen
Sensor, vorzugsweise für ein Atomic-Force-Mikroskop,
entsprechend dem Oberbegriff des Anspruches 1.
Beim Atomic-Force-Mikroskop wird die Probe, deren Oberfläche
untersucht werden soll, auf einen x-y-z-Scanner gesetzt und
leicht gegen eine feine Spitze gedrückt, die an einer
Blattfeder befestigt ist. Die Auslenkung dieser Blattfeder
kann auf unterschiedliche Weise gemessen werden.
Aus der EP-A1-02 90 648 ist bekannt, die Blattfeder und
ihren Träger so auszubilden, daß eine elektrische Größe, z. B.
die Kapazität, durch die Auslenkung geändert wird.
In einer Veröffentlichung von R. Erlandsson (J. Vac. Sci.
Technol. A6 (2), 266 (1988)) ist ein interferometrisches
Verfahren beschrieben. Hierfür ist die Blattfeder in der Nähe
der Meßspitze reflektierend ausgebildet und auf dieser
Meßfläche wird der Meßstrahl eines Fizeau-artigen
Interferometers durch ein Mikroskopobjektiv fokussiert. Auf
der anderen Seite des Mikroskopobjektives befindet sich eine
Platte, deren eine Grenzfläche als Referenzfläche dient. Der
senkrecht auf diese Referenzfläche auftreffende annähernd
parallele Laserstrahl kommt von einem Teilerwürfel, der das
von Meß- und Referenzfläche reflektierte Licht auf einen
Detektor durchläßt und der die von einem Laser kommende
Strahlung in Richtung des Mikroskopobjektives umlenkt. Der
Teilerwürfel ist dafür polarisationsabhängig ausgebildet und
zwischen ihm und der Platte befindet sich eine Lambda-
Viertel-Platte, die verhindert, daß Strahlung in den Laser
zurück reflektiert wird. Die von dem Detektor erfaßte
Strahlungsleistung hängt durch die Interferenz von Meßstrahl
und Vergleichsstrahl vom Abstand der Meßfläche von dem übrigen
Interferometer ab. Bei Abstandsänderungen der Meßfläche
erhält man daher Änderungen des Detektorsignales.
Nachteilig bei diesem bekannten interferometrischen Sensor
ist, daß kleine Abstandsänderungen der Meßfläche nicht
genügend genau gemessen werden können, wenn maximale oder
minimale Strahlungsleistung auf den Detektor trifft. Außerdem
erfordert der große Weglängenunterschied des von Meß- und
Referenzfläche reflektierten Lichtes eine hohe
Wellenlängenstabilität und eine große Kohärenzlänge und damit
einen teuren Laser. Der große Weglängenunterschied bewirkt
außerdem eine große Temperaturempfindlichkeit der Anordnung.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen
interferometrischen Sensor zu schaffen, mit dem kleine
Abstandsänderungen immer genügend genau gemessen werden
können, der nur einen preiswerten und in den Abmessungen
kleinen Laser erfordert und der gegen Temperatureinflüsse
möglichst unempfindlich ist.
Die gestellte Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß Strahlteiler und Referenzfläche zwischen
Mikroskopobjektiv und Meßfläche angeordnet sind, daß ein
Verzögerungselement zwischen Referenzfläche und Meßfläche
angeordnet ist, welches derart ausgebildet ist, daß zwei
Teilwellen mit zueinander senkrechter Polarisation und einem
Gangunterschied (für zweimaligen Durchgang) von ungefähr
Lambda-Viertel entstehen, so daß in den beiden
Polarisationsrichtungen eine Differenz der Gangunterschiede
zwischen Meßstrahl und Vergleichsstrahl von ungefähr Lambda-
Viertel entsteht, und daß als Detektionseinrichtung ein
polarisationsabhängiger Strahlteiler und zwei Detektoren
vorgesehen sind.
Die Anordnung von Strahlteiler und Referenzfläche zwischen
Mikroskopobjektiv und Meßfläche ist aus der sogenannten
Mirau-Anordnung bekannt, die z. B. in der DE-PS 9 65 607
beschrieben ist. Diese Mirau-Interferenzanordnung ist jedoch
nur zur Erzeugung eines (zweidimensionalen) Interferogramms
eines mikroskopischen Präparates bekannt. Bei ihr erfolgt die
Untersuchung der Oberflächenform des Präparates mit Hilfe von
Interferenzstreifen, aus deren Verlauf die Topographie der
Oberfläche bestimmt werden kann. Es handelt sich dabei um die
Untersuchung einer Oberfläche.
Bei der vorliegenden Erfindung besteht jedoch die Aufgabe,
für einen praktisch punktförmigen Meßort die Abstandsänderungen
als Funktion der Zeit zu erfassen. Würde man die
Mirau-Anordnung für die vorliegende Aufgabe übernehmen, indem
die zeitliche Änderung der Topographie über Bildauswertung
erfaßt wird, so käme man zu einem sehr großen und teilweise
überflüssigen Aufwand, da die Topographie sich im vorliegenden
Fall nicht ändert. Nimmt man zur Vermeidung eines zu großen
Aufwandes praktisch nur einen Punkt der Oberfläche dann tritt
die weiter oben beschriebene Problematik auf, daß kleine
Änderungen und ihre Richtung nicht immer genügend genau und
sicher ermittelt werden können, was bei Benutzung der bekannten
Mirau-Anordnung durch die Information aus der Umgebung
des Punktes teilweise kompensiert werden kann.
Durch die erfindungsgemäße Einführung eines
Verzögerungselementes, durch das die Strahlung mit einer
Polarisationsrichtung gegenüber der Strahlung mit der dazu
senkrechten Polarisationsrichtung verzögert wird, und durch
zwei Detektoren für die getrennte Erfassung der Strahlungen
in diesen Polarisationsrichtungen wird mit verhältnismäßig
kleinem Aufwand die Aufgabe gelöst.
Durch die Anordnung der Referenzfläche zwischen Mikroskopobjektiv
und Meßfläche und die dadurch bedingten kleinen Abstände
zwischen Meß- und Referenzfläche kann als Lichtquelle
ein Laser mit geringer Wellenlängenstabilität und kleiner
Kohärenzlänge, also z. B. eine Laserdiode, verwendet werden.
In einer ersten vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung
wird die vom Laser ausgehende Strahlung auf der Meßfläche
bzw. der Referenzfläche fokussiert; Mikroskopobjektiv und
Strahlteiler werden rotationssymmetrisch zur optischen Achse
ausgeleuchtet.
In einer zweiten vorteilhaften Ausführungsform wird die vom
Laser ausgehende Strahlung in einem kleinen Abstand vor der
Meßfläche bzw. der Referenzfläche fokussiert, so daß die von
Meßfläche und Referenzfläche reflektierten Strahlen auf der
optischen Achse fokussiert und dort von einem kleinflächigen
Spiegel zur Detektionseinrichtung umgelenkt werden.
In einer dritten vorteilhaften Ausführungsform werden
Mikroskopobjektiv und Strahlteiler von der zur Meßfläche bzw.
Referenzfläche gehenden Strahlung höchstens nur auf einer
Hälfte und von den zur Detektionseinrichtung gehenden
Strahlen höchstens in der anderen Hälfte ausgeleuchtet, so
daß hin- und zurückgehende Strahlen räumlich voneinander
getrennt sind.
Das Verzögerungselement kann zwischen Strahlteiler und
Meßfläche oder zwischen Strahlteiler und Referenzfläche
angeordnet sein. Es kann in die Platte, welche die
teilreflektierende Schicht des Strahlteilers trägt, oder in
die Platte, welche die reflektierende Schicht der
Referenzfläche trägt, eingekittet oder auf deren freien
Oberflächen aufgekittet sein.
Es sei hier darauf hingewiesen, daß die Lambda-Viertel-Platte
in der oben zitierten Veröffentlichung von Erlandsson eine
völlig andere Aufgabe hat. Sie dient dort lediglich dazu,
zusammen mit dem polarisierenden Strahlteiler zu verhindern,
daß Laserstrahlung in den Laser zurück reflektiert wird. Die
bei der Erfindung benutzte Anwendung des Verzögerungselementes
entspricht vielmehr der bekannten Erzeugung eines
sogenannten Quadratursignals, worauf in der Erläuterung zu
den Figuren näher eingegangen wird.
Es ist selbstverständlich, daß der Gangunterschied des
Verzögerungselementes (für zweifachen Durchgang) nicht nur
λ/4 sondern auch λ/4+n λ/2 sein kann.
Ein besonderer Vorteil der Erfindung ist, daß - im Gegensatz
zur Anordnung von Erlandsson - an das Mikroskopobjektiv nur
sehr geringe Anforderungen gestellt werden, da Linsenfehler
die Wellenfronten von Meß- und Vergleichsstrahl identisch
verformen, so daß die Interferenzfähigkeit nicht beeinträchtigt
wird. Da das Mikroskopobjektiv bei der Erfindung -
im Gegensatz zur bekannten Mirau-Anordnung - auch kein Bild
erzeugt, kann es aus einer einzelnen Linse bestehen, die
sogar aus Kunststoff sein kann.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von in den Fig. 1
bis 5 beschriebenen Ausführungsbeispielen erläutert.
Dabei zeigt
Fig. 1 Eine Anordnung, bei der die vom Laser ausgehende
Strahlung auf der Meßfläche bzw. der Referenzfläche
fokussiert wird und Mikroskopobjektiv und Strahlteiler
rotationssymmetrisch zur optischen Achse
ausgeleuchtet werden;
Fig. 2 eine Anordnung, bei der die vom Laser ausgehende
Strahlung in einem kleinen Abstand vor der
Meßfläche bzw. der Referenzfläche fokussiert wird;
Fig. 3 eine Anordnung, bei der Mikroskopobjektiv und
Strahlteiler von der zur Meßfläche bzw. Referenzfläche
gehenden Strahlung nur in einer Hälfte und
von der zur Detektionseinrichtung gehenden
Strahlung nur in der anderen Hälfte ausgeleuchtet
werden;
Fig. 4 eine Ausführungsform, bei der das Verzögerungselement
in die Platte eingekittet ist, auf welche
die Referenzfläche als reflektierende Schicht aufgebracht
ist, und
Fig. 5 eine Ausführungsform, bei der das Verzögerungselement
durch die teilreflektierende Schicht des
Strahlteilers und die reflektierende Schicht der
Referenzfläche verwirklicht ist.
In Fig. 1 ist mit (11) ein Laser oder z. B. eine Laserdiode
mit einem Kollimator bezeichnet. Das annähernd parallele
Strahlenbündel (11a) wird zum Teil von dem Teilerwürfel (12)
auf den Detektor (13) reflektiert, dessen einzige Aufgabe
eine Kontrolle der vom Laser (11) abgegebenen Leistung ist.
Diese Kontrolle kann bei genügender Leistungsstabilität oder
geringen Genauigkeitsanforderungen entfallen. Das durch den
Teilerwürfel hindurchgehende Bündel wird von dem Mikroskopobjektiv
(14) auf die reflektierende Meßfläche (15) fokussiert.
Durch den Strahlteiler (16s) wird das konvergierende Bündel
in einen Meßstrahl (11m) und einen Vergleichsstrahl (11v)
aufgespalten, wobei der Vergleichsstrahl von der Referenzfläche
(17r) reflektiert wird, die nur einen kleinen Teil der
aus dem Mikroskopobjektiv unmittelbar aus- oder eintretenden
Strahlen beschneidet. Meß- und Vergleichsstrahl werden nach
der Reflexion vom Strahlteiler (16s) wieder vereinigt und
gehen als annähernd parallele Strahlen zum Teilerwürfel (12)
zurück, von dem sie gemeinsam in Richtung der Detektionseinrichtung
(18) reflektiert werden.
Der Strahlteiler (16s) besteht aus einer teilreflektierten
Schicht, welche auf der Glasplatte (16) aufgebracht ist. In
einer vorteilhaften Ausführungsform ist in diese Glasplatte
das Verzögerungselement (16v), z. B. in Form einer doppelbrechenden
Polyvinylalkoholfolie, eingekittet. Das Verzögerungselement
bewirkt infolge seiner Doppelbrechung eine
Aufspaltung in Teilwellen mit zueinander senkrechten Polarisation,
zwischen denen ein Gangunterschied von ungefähr
Lambda-Viertel bei zweimaligem Durchgang entsteht. Durch
diese Aufspaltung des Meßstrahles (11m) entstehen für die
beiden Polarisationsrichtungen unterschiedliche Gangunterschiede
zwischen Meßstrahl und Vergleichsstrahl, wobei der
Unterschied ungefähr Lambda-Viertel beträgt. In den mit den
Figuren beschriebenen Ausführungsformen wird das Verzögerungselement
zweckmäßigerweise so eingebaut, daß die
Polarisationsrichtungen in und senkrecht zur Zeichenebene
liegen.
In der Detektionseinrichtung (18) wird durch den
polarisationsabhängigen Strahlteiler (18s) die Strahlung mit
der einen Polarisationsrichtung auf den Detektor (18d) und
die Strahlung mit der anderen Polarisationsrichtung auf den
Detektor (18e) geleitet. Wenn durch das Verzögerungselement
für die beiden Polarisationsrichtungen eine Differenz der
Gangunterschiede von Meßstrahl (11m) und Vergleichsstrahl
(11v) von ungefähr Lambda-Viertel bewirkt wird, dann erhalten
die Detektoren (18d, 18e) unterschiedliche Signale, von denen
immer aus einem Richtung und Betrag einer Abstandänderung der
Meßfläche (15) zuverlässig und genau ermittelt werden kann.
Dazu darf die Strahlung der Lichtquelle (11) beim Auftreffen
auf den Strahlteiler (16s) nicht in einer der beiden
Polarisationsrichtungen linear polarisiert sein. Falls die
Lichtquelle linear polarisiert ist, wird ihre Polarisationsrichtung
so orientiert, daß in die Polarisationsrichtungen
des Verzögerungselementes annähernd gleiche Strahlungsintensitäten
fallen.
Als Lichtquelle kann z. B. die Laserdiode SLD 202 U der Fa.
Sony verwendet werden, deren Strahlung nahezu vollständig
linear polarisiert ist. Als Detektoren sind z. B. die
Silizium-Photodioden BPW 34 B der Fa. Siemens geeignet.
Die Aufspaltung einer Strahlung durch ein Verzögerungselement,
z. B. eine Lambda-Viertel-Platte in zwei Komponenten,
von denen die zweite gegenüber der ersten um Pi-Halbe verschoben
ist, und die Trennung der beiden Komponenten durch
polarisationsabhängige Strahlteiler ist bei Interferometern
bekannt, z. B. aus dem Buch von M. Ross, Laser Applications,
Vol. /1, Seite 84, Academic Press, New York 1971. Diese
Methode, die auch unter der Bezeichnung Quadratursignal bekannt
ist, wird im folgenden für das Ausführungsbeispiel
näher beschrieben.
Eine Abstandsänderung der Meßfläche (15) in Richtung der
optischen Achse (10) bewirkt auf einem Detektor, z. B. dem
Detektor (18d) infolge der Interferenz von Meßstrahl und
Vergleichsstrahl ein Wechselspannungssignal, das einem
Gleichspannungssignal überlagert ist und folgenden Verlauf
hat
U (d)=U₁ sin (4πd/λ+ϕ₀)
dabei ist d der Abstand, λ die Wellenlänge der verwendeten
Strahlung, U₁ die maximale Amplitude des
Wechselspannungssignales und ϕ₀ ein konstanter
Phasenwinkel. Mit einem derartigen Signal lassen sich in der
Nähe der Maxima und Minima Abstandsänderungen nicht genau und
ihre Richtung nicht sicher bestimmen. Diese Mängel werden mit
dem zweiten Detektor vermieden, wenn dessen Wechselspannungssignal
in der Phase ungefähr um Pi-Halbe versetzt ist, weil
dessen Signal immer gerade dort große und im Verlauf eindeutige
Änderungen hat, wo das erste Signal einen Extremwert
durchläuft. Zwei derart phasenverschobene Signale werden
durch das Verzögerungselement (16v) dadurch erzeugt, daß in
ihm für die beiden Polarisationsrichtungen des Meßstrahles
ein Weglängenunterschied von Lambda-Viertel bzw. eine Phasendifferenz
von Pi-Halbe beim zweimaligen Durchtritt entsteht.
Bei der beschriebenen Anordnung wird ein Teil der Strahlung
in die Lichtquelle zurück reflektiert. Dies muß bei manchen
Lasern unterbunden werden. Das kann durch einen Faraday-
Isolator zwischen Laser (11) und Teilerwürfel (12) erreicht
werden. Wesentlich preiswerter sind die in den Fig. 2 und
3 dargestellten Anordnungen, bei denen durch geometrische
Trennung von Hin- und Rückweg keine Strahlung in die
Lichtquelle zurück reflektiert wird.
In Fig. 2 wird durch einen etwas größeren Abstand des
Mikroskopobjektivs (14) von der Meßfläche (15) erreicht, daß
diese nicht mehr im Fokus des Objektives liegt, wodurch die
reflektierten Strahlenbündel konvergent sind und daher in
ihrem Fokus durch einen kleinen Spiegel (32s) auf einer Glasplatte
(32) aus dem Beleuchtungsstrahlengang herausgelenkt
werden können. Das umgelenkte, divergierende Bündel wird bei
großem Abstand des polarisationsabhängigen Teilerwürfels
(18s) durch die Linse (33) kollimiert. Der übrige Aufbau
entspricht der Fig. 1.
In Fig. 3 wird von den zur Meßfläche (15) bzw. Referenzfläche
(17r) gehenden Strahlungsbündeln höchstens die eine
Hälfte von Mikroobjektiv (14) und Strahlteiler (16s) ausgeleuchtet
und die von der Meßfläche (15) bzw. Referenzfläche
(17r) reflektierten Strahlungsbündel gehen durch die andere
Hälfte von Mikroobjektiv (14) und Strahlteiler (16s). Der
übrige Aufbau entspricht bis auf den Umlenkspiegel (21)
wieder der Fig. 1.
Das Verzögerungselement kann - wie in den Fig. 1 bis 3
dargestellt - zwischen Strahlteiler (16s) und Meßfläche (15)
angeordnet sein. In diesem Fall ist es zweckmäßig, es in die
Glasplatte (16) zu integrieren, indem ein Lambda-Achtel-
Plättchen auf die Rückseite der Glasplatte (16) oder eine
Lambda-Achtel-Folie zwischen zwei Hälften der Glasplatte (16)
gekittet wird. Natürlich kann das Verzögerungselement auch
als selbständiges Bauteil zwischen Strahlteiler (16s) und
Meßfläche (15) angeordnet werden.
Das Verzögerungselement kann als Lambda-Achtel-Plättchen oder
-Folie auch zwischen Strahlteiler und Referenzfläche angeordnet
werden. In diesem Fall wirkt das Verzögerungselement
vor der Aufteilung von Meß- und Vergleichsstrahl sowie nach
deren Zusammenführung auf beide Strahlen in gleicher Weise
und bringt dadurch in diesen Teilen der Strahlengänge keine
Differenz der Gangunterschiede.
Eine zweckmäßige Ausführungsform ist in Fig. 4 dargestellt,
bei welcher eine Lambda-Achtel-Folie (16v) zwischen die
beiden Hälften einer Glasplatte (47) eingekittet ist, auf
deren dem Strahlteiler (16s) abgewandten Seite die Referenzfläche
(17r) in Form einer reflektierenden Schicht aufgebracht
ist. Auch in diesem Fall kann das Verzögerungselement natürlich
auch als selbständiges Bauteil zwischen Strahlteiler
(16s) und Referenzfläche (17r) ausgeführt werden.
Das Verzögerungselement kann auch in Form einer Schicht (56s)
realisiert werden, die zugleich teilreflektiert und damit
auch als Strahlteiler verwendet wird. Auch die Referenzfläche
kann als reflektierende Schicht (57r) realisiert werden, die
zugleich als Verzögerungselement wirkt. In Fig. 5 ist dies
dargestellt für den Fall, daß das Verzögerungselement durch
beide Arten von Schichten realisiert wird. Diese Realisierung
des Verzögerungselementes ist jedoch nur möglich bei einer
nicht rotationssymmetrischen Ausleuchtung des
Mikroskopobjektives (14) und der bis zur Meßfläche (15)
folgenden Elemente, wie das in der Fig. 3 dargestellt ist.
Dadurch trifft die Strahlung auf die obengenannten Schichten
unter einem mittleren Winkel, der von der optischen
Mittelachse (10) abweicht, so daß - wie aus den Fresnelschen
Formeln bei schräg einfallender Strahlung bekannt ist - eine
Aufteilung in s- und p-Polarisation vorgegeben ist.
Claims (10)
1. Interferometrischer Sensor, vorzugsweise für Atomic-
Force-Mikroskop, zur Messung von Abstandsänderungen einer
kleinen, reflektierenden Meßfläche (15) bestehend aus
einer Lichtquelle (11), vorzugsweise einem Laser, einem
Strahlteiler (16s) zur Aufteilung in einen Meßstrahl
(11m) und einen Vergleichsstrahl (11v), einer
Referenzfläche (17r), einem Mikroskopobjektiv (14) und
einer Detektionseinrichtung (18), dadurch gekennzeichnet,
daß Strahlteiler (16s) und Referenzfläche (17r) zwischen
Mikroskopobjektiv (14) und Meßfläche (15) angeordnet
sind, daß ein Verzögerungselement (16v) zwischen
Referenzfläche (17r) und Meßfläche (15) angeordnet ist,
welches derart ausgebildet ist, daß zwei Teilwellen mit
zueinander senkrechter Polarisation und einem Gangunterschied
(für zweimaligen Durchgang) von ungefähr Lambda-
Viertel entstehen, so daß in den beiden Polarisationsrichtungen
eine Differenz der Gangunterschiede zwischen
Meßstrahl (11m) und Vergleichsstrahl (11v) von ungefähr
Lambda-Viertel entsteht, und daß als Detektionseinrichtung
(18) ein polarisationsabhängiger Strahlteiler
(18s) und zwei Detektoren (18d, 18e) vorgesehen sind.
2. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die vom Laser (11) ausgehende
Strahlung auf der Meßfläche (15) bzw. der Referenzfläche
(17r) fokussiert ist und daß Mikroskopobjektiv (14) und
Strahlteiler (16s) rotationssymmetrisch zur optischen
Achse (10) ausgeleuchtet sind (Fig. 1).
3. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die vom Laser (11) ausgehende
Strahlung in einem kleinen Abstand vor der Meßfläche (15)
bzw. Referenzfläche (17r) fokussiert ist, so daß die von
Meßfläche (15) und Referenzfläche (17r) reflektierten
Strahlenbündel auf der optischen Achse (10) fokussiert
sind und dort von einem kleinen Spiegel (32s) zur
Detektionseinrichtung (18) umgelenkt sind (Fig. 2).
4. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß Mikroskopobjektiv (14) und
Strahlteiler (16s) auf einer Hälfte nur von der in
Richtung Meßfläche (15) bzw. Referenzfläche (17r)
gehenden Strahlung und auf der anderen Hälfte nur von der
in Richtung Detektionseinrichtung (18) gehenden Strahlung
ausgeleuchtet sind (Fig. 3).
5. Interferometrischer Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis
4, dadurch gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement
(16v) zwischen Strahlteiler (16s) und Meßfläche (15)
angeordnet ist.
6. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement (16v) in die
Glasplatte (16) für die teilreflektierte Schicht des
Strahlteilers (16s) eingekittet oder auf deren freien
Oberfläche aufgekittet ist.
7. Interferometrischer Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis
4, dadurch gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement
(16v) zwischen Strahlteiler (16s) und Referenzfläche
(17r) angeordnet ist.
8. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 7, dadurch
gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement (16v) in die
Glasplatte (47) für die reflektierende Schicht der
Referenzfläche (17r) eingekittet oder auf deren freie
Oberfläche aufgekittet ist.
9. Interferometrischer Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis
8, dadurch gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement
(16v) eine Polyvinylalkoholfolie ist.
10. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement durch die
teilreflektierende Schicht (56s) des Strahlteilers
und/oder die reflektierende Schicht (57r) der
Referenzfläche verwirklicht ist, indem bei den
Reflexionen eine Differenz zwischen den Phasensprüngen
der beiden Polarisationsrichtungen von ungefähr Pi-Halbe
entsteht.
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---|---|---|---|
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19504189A1 (de) * | 1995-02-09 | 1996-08-14 | Leitz Messtechnik Gmbh | Interferometervorrichtung |
DE19626261A1 (de) * | 1995-06-30 | 1997-01-02 | Nikon Corp | Beobachtungsvorrichtung |
US5951891A (en) * | 1997-03-24 | 1999-09-14 | International Business Machines Corporation | Optical apparatus for monitoring profiles of textured spots during a disk texturing process |
DE10260256A1 (de) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Carl Zeiss | Interferometersystem und Meß-/Bearbeitungswerkzeug |
DE102015118483B3 (de) * | 2015-10-29 | 2017-05-04 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Interferenzobjektiv nach Mirau |
Families Citing this family (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5585913A (en) * | 1994-04-01 | 1996-12-17 | Imra America Inc. | Ultrashort pulsewidth laser ranging system employing a time gate producing an autocorrelation and method therefore |
US5778016A (en) | 1994-04-01 | 1998-07-07 | Imra America, Inc. | Scanning temporal ultrafast delay methods and apparatuses therefor |
US5489984A (en) * | 1994-04-01 | 1996-02-06 | Imra America, Inc. | Differential ranging measurement system and method utilizing ultrashort pulses |
JPH0961442A (ja) * | 1995-08-23 | 1997-03-07 | Mitsubishi Electric Corp | 原子間力顕微鏡及びその測定ヘッド |
GB9702388D0 (en) * | 1997-02-06 | 1997-03-26 | Bio Rad Micromeasurements Ltd | Selective interferometry |
AU7467798A (en) | 1997-04-22 | 1998-11-13 | James W. Early | Laser detection of material thickness |
AUPO810997A0 (en) * | 1997-07-18 | 1997-08-14 | Lions Eye Institute Of Western Australia Incorporated, The | Method and apparatus for calibration of ablation lasers |
US6831742B1 (en) | 2000-10-23 | 2004-12-14 | Applied Materials, Inc | Monitoring substrate processing using reflected radiation |
WO2003091661A1 (en) * | 2002-04-26 | 2003-11-06 | Massachussetts Institute Of Technology | Adjustable focusing composite for use in an optical profilometer system and method |
US6937343B2 (en) * | 2002-08-29 | 2005-08-30 | Applied Materials, Israel, Ltd. | Laser scanner with amplitude and phase detection |
US7869057B2 (en) | 2002-09-09 | 2011-01-11 | Zygo Corporation | Multiple-angle multiple-wavelength interferometer using high-NA imaging and spectral analysis |
US7139081B2 (en) | 2002-09-09 | 2006-11-21 | Zygo Corporation | Interferometry method for ellipsometry, reflectometry, and scatterometry measurements, including characterization of thin film structures |
EP1411321B1 (de) * | 2002-10-15 | 2017-04-19 | Mitutoyo Corporation | Interferometer mit integrierter Bildaufnahmematrix, Polarisator hoher dichte und Phasenverschiebungsmatrix |
US6842254B2 (en) * | 2002-10-16 | 2005-01-11 | Fiso Technologies Inc. | System and method for measuring an optical path difference in a sensing interferometer |
US7324214B2 (en) | 2003-03-06 | 2008-01-29 | Zygo Corporation | Interferometer and method for measuring characteristics of optically unresolved surface features |
US7106454B2 (en) | 2003-03-06 | 2006-09-12 | Zygo Corporation | Profiling complex surface structures using scanning interferometry |
US8351048B2 (en) * | 2003-08-28 | 2013-01-08 | 4D Technology Corporation | Linear-carrier phase-mask interferometer |
JP5340539B2 (ja) | 2003-09-15 | 2013-11-13 | ザイゴ コーポレーション | 表面の干渉分析のための方法およびシステムならびに関連する応用例 |
WO2005114096A2 (en) * | 2004-05-18 | 2005-12-01 | Zygo Corporation | Methods and systems for determining optical properties using low-coherence interference signals |
US7054071B2 (en) * | 2004-07-08 | 2006-05-30 | Spectel Research Corporation | Mireau interference objective lens |
US7446882B2 (en) * | 2005-01-20 | 2008-11-04 | Zygo Corporation | Interferometer for determining characteristics of an object surface |
US7884947B2 (en) | 2005-01-20 | 2011-02-08 | Zygo Corporation | Interferometry for determining characteristics of an object surface, with spatially coherent illumination |
JP4939765B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2012-05-30 | 株式会社日立製作所 | 変位計測方法とその装置 |
WO2007044786A2 (en) | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Zygo Corporation | Interferometry method and system including spectral decomposition |
WO2008011510A2 (en) | 2006-07-21 | 2008-01-24 | Zygo Corporation | Compensation of systematic effects in low coherence interferometry |
WO2008080127A2 (en) | 2006-12-22 | 2008-07-03 | Zygo Corporation | Apparatus and method for measuring characteristics of surface features |
US7889355B2 (en) | 2007-01-31 | 2011-02-15 | Zygo Corporation | Interferometry for lateral metrology |
US7619746B2 (en) | 2007-07-19 | 2009-11-17 | Zygo Corporation | Generating model signals for interferometry |
US7920269B2 (en) * | 2007-08-03 | 2011-04-05 | Chung Yuan Christian University | System and method for measuring interferences |
US8072611B2 (en) | 2007-10-12 | 2011-12-06 | Zygo Corporation | Interferometric analysis of under-resolved features |
US7978337B2 (en) | 2007-11-13 | 2011-07-12 | Zygo Corporation | Interferometer utilizing polarization scanning |
WO2009079334A2 (en) * | 2007-12-14 | 2009-06-25 | Zygo Corporation | Analyzing surface structure using scanning interferometry |
US8319971B2 (en) * | 2008-05-06 | 2012-11-27 | Industrial Technology Research Institute | Scatterfield microscopical measuring method and apparatus |
US8120781B2 (en) | 2008-11-26 | 2012-02-21 | Zygo Corporation | Interferometric systems and methods featuring spectral analysis of unevenly sampled data |
TWI447351B (zh) * | 2009-02-24 | 2014-08-01 | Univ Nat Taipei Technology | 正交偏極式Mirau干涉術以及其分光模組與干涉系統 |
JP5607392B2 (ja) * | 2010-03-12 | 2014-10-15 | 株式会社ミツトヨ | 光干渉測定装置 |
TWI490542B (zh) | 2013-05-07 | 2015-07-01 | Univ Nat Taiwan | A scanning lens and an interference measuring device using the scanning lens |
US9405254B2 (en) * | 2013-11-26 | 2016-08-02 | Xerox Corporation | Device for uniform light intensity generation |
US11262191B1 (en) * | 2018-07-12 | 2022-03-01 | Onto Innovation Inc. | On-axis dynamic interferometer and optical imaging systems employing the same |
US11029146B2 (en) | 2018-10-18 | 2021-06-08 | Cyberoptics Corporation | Three-dimensional sensor with counterposed channels |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE300086C (de) * | ||||
US2612074A (en) * | 1949-03-30 | 1952-09-30 | Prec Mecanique Paris Soc | Interferometer |
DE965607C (de) * | 1949-03-30 | 1957-06-13 | Prec Mecanique | Interferenzmikroskop |
US4576479A (en) * | 1982-05-17 | 1986-03-18 | Downs Michael J | Apparatus and method for investigation of a surface |
DE3322710C2 (de) * | 1983-06-24 | 1986-05-28 | Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart | Optische Abstandsmeßvorrichtung |
US4639139A (en) * | 1985-09-27 | 1987-01-27 | Wyko Corporation | Optical profiler using improved phase shifting interferometry |
EP0440268B1 (de) * | 1987-05-12 | 1994-08-17 | International Business Machines Corporation | Atomarer Kräftesensor mit interferometrischer Messung der Eigenschaften eines Datenträgers |
US4869593A (en) * | 1988-04-22 | 1989-09-26 | Zygo Corporation | Interferometric surface profiler |
-
1989
- 1989-12-23 DE DE3942896A patent/DE3942896A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-12-05 EP EP90123268A patent/EP0438675B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-12-05 DE DE59006145T patent/DE59006145D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-21 JP JP2404913A patent/JP2865880B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-24 US US07/632,916 patent/US5166751A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19504189A1 (de) * | 1995-02-09 | 1996-08-14 | Leitz Messtechnik Gmbh | Interferometervorrichtung |
DE19504189C2 (de) * | 1995-02-09 | 1998-03-19 | Leitz Messtechnik Gmbh | Interferometervorrichtung |
DE19626261A1 (de) * | 1995-06-30 | 1997-01-02 | Nikon Corp | Beobachtungsvorrichtung |
US5764363A (en) * | 1995-06-30 | 1998-06-09 | Nikon Corporation | Apparatus for observing a surface using polarized light |
US5951891A (en) * | 1997-03-24 | 1999-09-14 | International Business Machines Corporation | Optical apparatus for monitoring profiles of textured spots during a disk texturing process |
DE10260256A1 (de) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Carl Zeiss | Interferometersystem und Meß-/Bearbeitungswerkzeug |
DE10260256B4 (de) * | 2002-12-20 | 2005-02-17 | Carl Zeiss | Interferometersystem und Meß-/Bearbeitungswerkzeug |
DE102015118483B3 (de) * | 2015-10-29 | 2017-05-04 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Interferenzobjektiv nach Mirau |
US10890745B2 (en) | 2015-10-29 | 2021-01-12 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Mirau interference objective |
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Publication number | Publication date |
---|---|
US5166751A (en) | 1992-11-24 |
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EP0438675A2 (de) | 1991-07-31 |
JPH04151501A (ja) | 1992-05-25 |
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JP2865880B2 (ja) | 1999-03-08 |
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DE3226137C2 (de) | ||
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