DE3942896A1 - Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche - Google Patents

Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche

Info

Publication number
DE3942896A1
DE3942896A1 DE3942896A DE3942896A DE3942896A1 DE 3942896 A1 DE3942896 A1 DE 3942896A1 DE 3942896 A DE3942896 A DE 3942896A DE 3942896 A DE3942896 A DE 3942896A DE 3942896 A1 DE3942896 A1 DE 3942896A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
measuring
beam splitter
reference surface
interferometric sensor
delay element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE3942896A
Other languages
English (en)
Inventor
Juergen Heinz Dr Massig
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss AG
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss AG filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE3942896A priority Critical patent/DE3942896A1/de
Priority to EP90123268A priority patent/EP0438675B1/de
Priority to DE59006145T priority patent/DE59006145D1/de
Priority to JP2404913A priority patent/JP2865880B2/ja
Priority to US07/632,916 priority patent/US5166751A/en
Publication of DE3942896A1 publication Critical patent/DE3942896A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q20/00Monitoring the movement or position of the probe
    • G01Q20/02Monitoring the movement or position of the probe by optical means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y15/00Nanotechnology for interacting, sensing or actuating, e.g. quantum dots as markers in protein assays or molecular motors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y35/00Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/02056Passive reduction of errors
    • G01B9/02057Passive reduction of errors by using common path configuration, i.e. reference and object path almost entirely overlapping
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/02075Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration of particular errors
    • G01B9/02078Caused by ambiguity
    • G01B9/02079Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals
    • G01B9/02081Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals simultaneous quadrature detection, e.g. by spatial phase shifting
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D5/00Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
    • G01D5/26Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
    • G01D5/266Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light by interferometric means

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen interferometrischen Sensor, vorzugsweise für ein Atomic-Force-Mikroskop, entsprechend dem Oberbegriff des Anspruches 1.
Beim Atomic-Force-Mikroskop wird die Probe, deren Oberfläche untersucht werden soll, auf einen x-y-z-Scanner gesetzt und leicht gegen eine feine Spitze gedrückt, die an einer Blattfeder befestigt ist. Die Auslenkung dieser Blattfeder kann auf unterschiedliche Weise gemessen werden.
Aus der EP-A1-02 90 648 ist bekannt, die Blattfeder und ihren Träger so auszubilden, daß eine elektrische Größe, z. B. die Kapazität, durch die Auslenkung geändert wird.
In einer Veröffentlichung von R. Erlandsson (J. Vac. Sci. Technol. A6 (2), 266 (1988)) ist ein interferometrisches Verfahren beschrieben. Hierfür ist die Blattfeder in der Nähe der Meßspitze reflektierend ausgebildet und auf dieser Meßfläche wird der Meßstrahl eines Fizeau-artigen Interferometers durch ein Mikroskopobjektiv fokussiert. Auf der anderen Seite des Mikroskopobjektives befindet sich eine Platte, deren eine Grenzfläche als Referenzfläche dient. Der senkrecht auf diese Referenzfläche auftreffende annähernd parallele Laserstrahl kommt von einem Teilerwürfel, der das von Meß- und Referenzfläche reflektierte Licht auf einen Detektor durchläßt und der die von einem Laser kommende Strahlung in Richtung des Mikroskopobjektives umlenkt. Der Teilerwürfel ist dafür polarisationsabhängig ausgebildet und zwischen ihm und der Platte befindet sich eine Lambda- Viertel-Platte, die verhindert, daß Strahlung in den Laser zurück reflektiert wird. Die von dem Detektor erfaßte Strahlungsleistung hängt durch die Interferenz von Meßstrahl und Vergleichsstrahl vom Abstand der Meßfläche von dem übrigen Interferometer ab. Bei Abstandsänderungen der Meßfläche erhält man daher Änderungen des Detektorsignales.
Nachteilig bei diesem bekannten interferometrischen Sensor ist, daß kleine Abstandsänderungen der Meßfläche nicht genügend genau gemessen werden können, wenn maximale oder minimale Strahlungsleistung auf den Detektor trifft. Außerdem erfordert der große Weglängenunterschied des von Meß- und Referenzfläche reflektierten Lichtes eine hohe Wellenlängenstabilität und eine große Kohärenzlänge und damit einen teuren Laser. Der große Weglängenunterschied bewirkt außerdem eine große Temperaturempfindlichkeit der Anordnung.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen interferometrischen Sensor zu schaffen, mit dem kleine Abstandsänderungen immer genügend genau gemessen werden können, der nur einen preiswerten und in den Abmessungen kleinen Laser erfordert und der gegen Temperatureinflüsse möglichst unempfindlich ist.
Die gestellte Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß Strahlteiler und Referenzfläche zwischen Mikroskopobjektiv und Meßfläche angeordnet sind, daß ein Verzögerungselement zwischen Referenzfläche und Meßfläche angeordnet ist, welches derart ausgebildet ist, daß zwei Teilwellen mit zueinander senkrechter Polarisation und einem Gangunterschied (für zweimaligen Durchgang) von ungefähr Lambda-Viertel entstehen, so daß in den beiden Polarisationsrichtungen eine Differenz der Gangunterschiede zwischen Meßstrahl und Vergleichsstrahl von ungefähr Lambda- Viertel entsteht, und daß als Detektionseinrichtung ein polarisationsabhängiger Strahlteiler und zwei Detektoren vorgesehen sind.
Die Anordnung von Strahlteiler und Referenzfläche zwischen Mikroskopobjektiv und Meßfläche ist aus der sogenannten Mirau-Anordnung bekannt, die z. B. in der DE-PS 9 65 607 beschrieben ist. Diese Mirau-Interferenzanordnung ist jedoch nur zur Erzeugung eines (zweidimensionalen) Interferogramms eines mikroskopischen Präparates bekannt. Bei ihr erfolgt die Untersuchung der Oberflächenform des Präparates mit Hilfe von Interferenzstreifen, aus deren Verlauf die Topographie der Oberfläche bestimmt werden kann. Es handelt sich dabei um die Untersuchung einer Oberfläche.
Bei der vorliegenden Erfindung besteht jedoch die Aufgabe, für einen praktisch punktförmigen Meßort die Abstandsänderungen als Funktion der Zeit zu erfassen. Würde man die Mirau-Anordnung für die vorliegende Aufgabe übernehmen, indem die zeitliche Änderung der Topographie über Bildauswertung erfaßt wird, so käme man zu einem sehr großen und teilweise überflüssigen Aufwand, da die Topographie sich im vorliegenden Fall nicht ändert. Nimmt man zur Vermeidung eines zu großen Aufwandes praktisch nur einen Punkt der Oberfläche dann tritt die weiter oben beschriebene Problematik auf, daß kleine Änderungen und ihre Richtung nicht immer genügend genau und sicher ermittelt werden können, was bei Benutzung der bekannten Mirau-Anordnung durch die Information aus der Umgebung des Punktes teilweise kompensiert werden kann.
Durch die erfindungsgemäße Einführung eines Verzögerungselementes, durch das die Strahlung mit einer Polarisationsrichtung gegenüber der Strahlung mit der dazu senkrechten Polarisationsrichtung verzögert wird, und durch zwei Detektoren für die getrennte Erfassung der Strahlungen in diesen Polarisationsrichtungen wird mit verhältnismäßig kleinem Aufwand die Aufgabe gelöst.
Durch die Anordnung der Referenzfläche zwischen Mikroskopobjektiv und Meßfläche und die dadurch bedingten kleinen Abstände zwischen Meß- und Referenzfläche kann als Lichtquelle ein Laser mit geringer Wellenlängenstabilität und kleiner Kohärenzlänge, also z. B. eine Laserdiode, verwendet werden.
In einer ersten vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung wird die vom Laser ausgehende Strahlung auf der Meßfläche bzw. der Referenzfläche fokussiert; Mikroskopobjektiv und Strahlteiler werden rotationssymmetrisch zur optischen Achse ausgeleuchtet.
In einer zweiten vorteilhaften Ausführungsform wird die vom Laser ausgehende Strahlung in einem kleinen Abstand vor der Meßfläche bzw. der Referenzfläche fokussiert, so daß die von Meßfläche und Referenzfläche reflektierten Strahlen auf der optischen Achse fokussiert und dort von einem kleinflächigen Spiegel zur Detektionseinrichtung umgelenkt werden.
In einer dritten vorteilhaften Ausführungsform werden Mikroskopobjektiv und Strahlteiler von der zur Meßfläche bzw. Referenzfläche gehenden Strahlung höchstens nur auf einer Hälfte und von den zur Detektionseinrichtung gehenden Strahlen höchstens in der anderen Hälfte ausgeleuchtet, so daß hin- und zurückgehende Strahlen räumlich voneinander getrennt sind.
Das Verzögerungselement kann zwischen Strahlteiler und Meßfläche oder zwischen Strahlteiler und Referenzfläche angeordnet sein. Es kann in die Platte, welche die teilreflektierende Schicht des Strahlteilers trägt, oder in die Platte, welche die reflektierende Schicht der Referenzfläche trägt, eingekittet oder auf deren freien Oberflächen aufgekittet sein.
Es sei hier darauf hingewiesen, daß die Lambda-Viertel-Platte in der oben zitierten Veröffentlichung von Erlandsson eine völlig andere Aufgabe hat. Sie dient dort lediglich dazu, zusammen mit dem polarisierenden Strahlteiler zu verhindern, daß Laserstrahlung in den Laser zurück reflektiert wird. Die bei der Erfindung benutzte Anwendung des Verzögerungselementes entspricht vielmehr der bekannten Erzeugung eines sogenannten Quadratursignals, worauf in der Erläuterung zu den Figuren näher eingegangen wird.
Es ist selbstverständlich, daß der Gangunterschied des Verzögerungselementes (für zweifachen Durchgang) nicht nur λ/4 sondern auch λ/4+n λ/2 sein kann.
Ein besonderer Vorteil der Erfindung ist, daß - im Gegensatz zur Anordnung von Erlandsson - an das Mikroskopobjektiv nur sehr geringe Anforderungen gestellt werden, da Linsenfehler die Wellenfronten von Meß- und Vergleichsstrahl identisch verformen, so daß die Interferenzfähigkeit nicht beeinträchtigt wird. Da das Mikroskopobjektiv bei der Erfindung - im Gegensatz zur bekannten Mirau-Anordnung - auch kein Bild erzeugt, kann es aus einer einzelnen Linse bestehen, die sogar aus Kunststoff sein kann.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von in den Fig. 1 bis 5 beschriebenen Ausführungsbeispielen erläutert.
Dabei zeigt
Fig. 1 Eine Anordnung, bei der die vom Laser ausgehende Strahlung auf der Meßfläche bzw. der Referenzfläche fokussiert wird und Mikroskopobjektiv und Strahlteiler rotationssymmetrisch zur optischen Achse ausgeleuchtet werden;
Fig. 2 eine Anordnung, bei der die vom Laser ausgehende Strahlung in einem kleinen Abstand vor der Meßfläche bzw. der Referenzfläche fokussiert wird;
Fig. 3 eine Anordnung, bei der Mikroskopobjektiv und Strahlteiler von der zur Meßfläche bzw. Referenzfläche gehenden Strahlung nur in einer Hälfte und von der zur Detektionseinrichtung gehenden Strahlung nur in der anderen Hälfte ausgeleuchtet werden;
Fig. 4 eine Ausführungsform, bei der das Verzögerungselement in die Platte eingekittet ist, auf welche die Referenzfläche als reflektierende Schicht aufgebracht ist, und
Fig. 5 eine Ausführungsform, bei der das Verzögerungselement durch die teilreflektierende Schicht des Strahlteilers und die reflektierende Schicht der Referenzfläche verwirklicht ist.
In Fig. 1 ist mit (11) ein Laser oder z. B. eine Laserdiode mit einem Kollimator bezeichnet. Das annähernd parallele Strahlenbündel (11a) wird zum Teil von dem Teilerwürfel (12) auf den Detektor (13) reflektiert, dessen einzige Aufgabe eine Kontrolle der vom Laser (11) abgegebenen Leistung ist. Diese Kontrolle kann bei genügender Leistungsstabilität oder geringen Genauigkeitsanforderungen entfallen. Das durch den Teilerwürfel hindurchgehende Bündel wird von dem Mikroskopobjektiv (14) auf die reflektierende Meßfläche (15) fokussiert. Durch den Strahlteiler (16s) wird das konvergierende Bündel in einen Meßstrahl (11m) und einen Vergleichsstrahl (11v) aufgespalten, wobei der Vergleichsstrahl von der Referenzfläche (17r) reflektiert wird, die nur einen kleinen Teil der aus dem Mikroskopobjektiv unmittelbar aus- oder eintretenden Strahlen beschneidet. Meß- und Vergleichsstrahl werden nach der Reflexion vom Strahlteiler (16s) wieder vereinigt und gehen als annähernd parallele Strahlen zum Teilerwürfel (12) zurück, von dem sie gemeinsam in Richtung der Detektionseinrichtung (18) reflektiert werden.
Der Strahlteiler (16s) besteht aus einer teilreflektierten Schicht, welche auf der Glasplatte (16) aufgebracht ist. In einer vorteilhaften Ausführungsform ist in diese Glasplatte das Verzögerungselement (16v), z. B. in Form einer doppelbrechenden Polyvinylalkoholfolie, eingekittet. Das Verzögerungselement bewirkt infolge seiner Doppelbrechung eine Aufspaltung in Teilwellen mit zueinander senkrechten Polarisation, zwischen denen ein Gangunterschied von ungefähr Lambda-Viertel bei zweimaligem Durchgang entsteht. Durch diese Aufspaltung des Meßstrahles (11m) entstehen für die beiden Polarisationsrichtungen unterschiedliche Gangunterschiede zwischen Meßstrahl und Vergleichsstrahl, wobei der Unterschied ungefähr Lambda-Viertel beträgt. In den mit den Figuren beschriebenen Ausführungsformen wird das Verzögerungselement zweckmäßigerweise so eingebaut, daß die Polarisationsrichtungen in und senkrecht zur Zeichenebene liegen.
In der Detektionseinrichtung (18) wird durch den polarisationsabhängigen Strahlteiler (18s) die Strahlung mit der einen Polarisationsrichtung auf den Detektor (18d) und die Strahlung mit der anderen Polarisationsrichtung auf den Detektor (18e) geleitet. Wenn durch das Verzögerungselement für die beiden Polarisationsrichtungen eine Differenz der Gangunterschiede von Meßstrahl (11m) und Vergleichsstrahl (11v) von ungefähr Lambda-Viertel bewirkt wird, dann erhalten die Detektoren (18d, 18e) unterschiedliche Signale, von denen immer aus einem Richtung und Betrag einer Abstandänderung der Meßfläche (15) zuverlässig und genau ermittelt werden kann. Dazu darf die Strahlung der Lichtquelle (11) beim Auftreffen auf den Strahlteiler (16s) nicht in einer der beiden Polarisationsrichtungen linear polarisiert sein. Falls die Lichtquelle linear polarisiert ist, wird ihre Polarisationsrichtung so orientiert, daß in die Polarisationsrichtungen des Verzögerungselementes annähernd gleiche Strahlungsintensitäten fallen.
Als Lichtquelle kann z. B. die Laserdiode SLD 202 U der Fa. Sony verwendet werden, deren Strahlung nahezu vollständig linear polarisiert ist. Als Detektoren sind z. B. die Silizium-Photodioden BPW 34 B der Fa. Siemens geeignet.
Die Aufspaltung einer Strahlung durch ein Verzögerungselement, z. B. eine Lambda-Viertel-Platte in zwei Komponenten, von denen die zweite gegenüber der ersten um Pi-Halbe verschoben ist, und die Trennung der beiden Komponenten durch polarisationsabhängige Strahlteiler ist bei Interferometern bekannt, z. B. aus dem Buch von M. Ross, Laser Applications, Vol. /1, Seite 84, Academic Press, New York 1971. Diese Methode, die auch unter der Bezeichnung Quadratursignal bekannt ist, wird im folgenden für das Ausführungsbeispiel näher beschrieben.
Eine Abstandsänderung der Meßfläche (15) in Richtung der optischen Achse (10) bewirkt auf einem Detektor, z. B. dem Detektor (18d) infolge der Interferenz von Meßstrahl und Vergleichsstrahl ein Wechselspannungssignal, das einem Gleichspannungssignal überlagert ist und folgenden Verlauf hat
U (d)=U₁ sin (4πd/λ+ϕ₀)
dabei ist d der Abstand, λ die Wellenlänge der verwendeten Strahlung, U₁ die maximale Amplitude des Wechselspannungssignales und ϕ₀ ein konstanter Phasenwinkel. Mit einem derartigen Signal lassen sich in der Nähe der Maxima und Minima Abstandsänderungen nicht genau und ihre Richtung nicht sicher bestimmen. Diese Mängel werden mit dem zweiten Detektor vermieden, wenn dessen Wechselspannungssignal in der Phase ungefähr um Pi-Halbe versetzt ist, weil dessen Signal immer gerade dort große und im Verlauf eindeutige Änderungen hat, wo das erste Signal einen Extremwert durchläuft. Zwei derart phasenverschobene Signale werden durch das Verzögerungselement (16v) dadurch erzeugt, daß in ihm für die beiden Polarisationsrichtungen des Meßstrahles ein Weglängenunterschied von Lambda-Viertel bzw. eine Phasendifferenz von Pi-Halbe beim zweimaligen Durchtritt entsteht.
Bei der beschriebenen Anordnung wird ein Teil der Strahlung in die Lichtquelle zurück reflektiert. Dies muß bei manchen Lasern unterbunden werden. Das kann durch einen Faraday- Isolator zwischen Laser (11) und Teilerwürfel (12) erreicht werden. Wesentlich preiswerter sind die in den Fig. 2 und 3 dargestellten Anordnungen, bei denen durch geometrische Trennung von Hin- und Rückweg keine Strahlung in die Lichtquelle zurück reflektiert wird.
In Fig. 2 wird durch einen etwas größeren Abstand des Mikroskopobjektivs (14) von der Meßfläche (15) erreicht, daß diese nicht mehr im Fokus des Objektives liegt, wodurch die reflektierten Strahlenbündel konvergent sind und daher in ihrem Fokus durch einen kleinen Spiegel (32s) auf einer Glasplatte (32) aus dem Beleuchtungsstrahlengang herausgelenkt werden können. Das umgelenkte, divergierende Bündel wird bei großem Abstand des polarisationsabhängigen Teilerwürfels (18s) durch die Linse (33) kollimiert. Der übrige Aufbau entspricht der Fig. 1.
In Fig. 3 wird von den zur Meßfläche (15) bzw. Referenzfläche (17r) gehenden Strahlungsbündeln höchstens die eine Hälfte von Mikroobjektiv (14) und Strahlteiler (16s) ausgeleuchtet und die von der Meßfläche (15) bzw. Referenzfläche (17r) reflektierten Strahlungsbündel gehen durch die andere Hälfte von Mikroobjektiv (14) und Strahlteiler (16s). Der übrige Aufbau entspricht bis auf den Umlenkspiegel (21) wieder der Fig. 1.
Das Verzögerungselement kann - wie in den Fig. 1 bis 3 dargestellt - zwischen Strahlteiler (16s) und Meßfläche (15) angeordnet sein. In diesem Fall ist es zweckmäßig, es in die Glasplatte (16) zu integrieren, indem ein Lambda-Achtel- Plättchen auf die Rückseite der Glasplatte (16) oder eine Lambda-Achtel-Folie zwischen zwei Hälften der Glasplatte (16) gekittet wird. Natürlich kann das Verzögerungselement auch als selbständiges Bauteil zwischen Strahlteiler (16s) und Meßfläche (15) angeordnet werden.
Das Verzögerungselement kann als Lambda-Achtel-Plättchen oder -Folie auch zwischen Strahlteiler und Referenzfläche angeordnet werden. In diesem Fall wirkt das Verzögerungselement vor der Aufteilung von Meß- und Vergleichsstrahl sowie nach deren Zusammenführung auf beide Strahlen in gleicher Weise und bringt dadurch in diesen Teilen der Strahlengänge keine Differenz der Gangunterschiede.
Eine zweckmäßige Ausführungsform ist in Fig. 4 dargestellt, bei welcher eine Lambda-Achtel-Folie (16v) zwischen die beiden Hälften einer Glasplatte (47) eingekittet ist, auf deren dem Strahlteiler (16s) abgewandten Seite die Referenzfläche (17r) in Form einer reflektierenden Schicht aufgebracht ist. Auch in diesem Fall kann das Verzögerungselement natürlich auch als selbständiges Bauteil zwischen Strahlteiler (16s) und Referenzfläche (17r) ausgeführt werden.
Das Verzögerungselement kann auch in Form einer Schicht (56s) realisiert werden, die zugleich teilreflektiert und damit auch als Strahlteiler verwendet wird. Auch die Referenzfläche kann als reflektierende Schicht (57r) realisiert werden, die zugleich als Verzögerungselement wirkt. In Fig. 5 ist dies dargestellt für den Fall, daß das Verzögerungselement durch beide Arten von Schichten realisiert wird. Diese Realisierung des Verzögerungselementes ist jedoch nur möglich bei einer nicht rotationssymmetrischen Ausleuchtung des Mikroskopobjektives (14) und der bis zur Meßfläche (15) folgenden Elemente, wie das in der Fig. 3 dargestellt ist. Dadurch trifft die Strahlung auf die obengenannten Schichten unter einem mittleren Winkel, der von der optischen Mittelachse (10) abweicht, so daß - wie aus den Fresnelschen Formeln bei schräg einfallender Strahlung bekannt ist - eine Aufteilung in s- und p-Polarisation vorgegeben ist.

Claims (10)

1. Interferometrischer Sensor, vorzugsweise für Atomic- Force-Mikroskop, zur Messung von Abstandsänderungen einer kleinen, reflektierenden Meßfläche (15) bestehend aus einer Lichtquelle (11), vorzugsweise einem Laser, einem Strahlteiler (16s) zur Aufteilung in einen Meßstrahl (11m) und einen Vergleichsstrahl (11v), einer Referenzfläche (17r), einem Mikroskopobjektiv (14) und einer Detektionseinrichtung (18), dadurch gekennzeichnet, daß Strahlteiler (16s) und Referenzfläche (17r) zwischen Mikroskopobjektiv (14) und Meßfläche (15) angeordnet sind, daß ein Verzögerungselement (16v) zwischen Referenzfläche (17r) und Meßfläche (15) angeordnet ist, welches derart ausgebildet ist, daß zwei Teilwellen mit zueinander senkrechter Polarisation und einem Gangunterschied (für zweimaligen Durchgang) von ungefähr Lambda- Viertel entstehen, so daß in den beiden Polarisationsrichtungen eine Differenz der Gangunterschiede zwischen Meßstrahl (11m) und Vergleichsstrahl (11v) von ungefähr Lambda-Viertel entsteht, und daß als Detektionseinrichtung (18) ein polarisationsabhängiger Strahlteiler (18s) und zwei Detektoren (18d, 18e) vorgesehen sind.
2. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Laser (11) ausgehende Strahlung auf der Meßfläche (15) bzw. der Referenzfläche (17r) fokussiert ist und daß Mikroskopobjektiv (14) und Strahlteiler (16s) rotationssymmetrisch zur optischen Achse (10) ausgeleuchtet sind (Fig. 1).
3. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Laser (11) ausgehende Strahlung in einem kleinen Abstand vor der Meßfläche (15) bzw. Referenzfläche (17r) fokussiert ist, so daß die von Meßfläche (15) und Referenzfläche (17r) reflektierten Strahlenbündel auf der optischen Achse (10) fokussiert sind und dort von einem kleinen Spiegel (32s) zur Detektionseinrichtung (18) umgelenkt sind (Fig. 2).
4. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Mikroskopobjektiv (14) und Strahlteiler (16s) auf einer Hälfte nur von der in Richtung Meßfläche (15) bzw. Referenzfläche (17r) gehenden Strahlung und auf der anderen Hälfte nur von der in Richtung Detektionseinrichtung (18) gehenden Strahlung ausgeleuchtet sind (Fig. 3).
5. Interferometrischer Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement (16v) zwischen Strahlteiler (16s) und Meßfläche (15) angeordnet ist.
6. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement (16v) in die Glasplatte (16) für die teilreflektierte Schicht des Strahlteilers (16s) eingekittet oder auf deren freien Oberfläche aufgekittet ist.
7. Interferometrischer Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement (16v) zwischen Strahlteiler (16s) und Referenzfläche (17r) angeordnet ist.
8. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement (16v) in die Glasplatte (47) für die reflektierende Schicht der Referenzfläche (17r) eingekittet oder auf deren freie Oberfläche aufgekittet ist.
9. Interferometrischer Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement (16v) eine Polyvinylalkoholfolie ist.
10. Interferometrischer Sensor nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Verzögerungselement durch die teilreflektierende Schicht (56s) des Strahlteilers und/oder die reflektierende Schicht (57r) der Referenzfläche verwirklicht ist, indem bei den Reflexionen eine Differenz zwischen den Phasensprüngen der beiden Polarisationsrichtungen von ungefähr Pi-Halbe entsteht.
DE3942896A 1989-12-23 1989-12-23 Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche Withdrawn DE3942896A1 (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3942896A DE3942896A1 (de) 1989-12-23 1989-12-23 Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche
EP90123268A EP0438675B1 (de) 1989-12-23 1990-12-05 Interferometrischer Sensor zur Messung von Abstandsänderungen einer kleinen Fläche
DE59006145T DE59006145D1 (de) 1989-12-23 1990-12-05 Interferometrischer Sensor zur Messung von Abstandsänderungen einer kleinen Fläche.
JP2404913A JP2865880B2 (ja) 1989-12-23 1990-12-21 干渉計センサ
US07/632,916 US5166751A (en) 1989-12-23 1990-12-24 Interferometric profilometer sensor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3942896A DE3942896A1 (de) 1989-12-23 1989-12-23 Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3942896A1 true DE3942896A1 (de) 1991-06-27

Family

ID=6396395

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3942896A Withdrawn DE3942896A1 (de) 1989-12-23 1989-12-23 Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche
DE59006145T Expired - Fee Related DE59006145D1 (de) 1989-12-23 1990-12-05 Interferometrischer Sensor zur Messung von Abstandsänderungen einer kleinen Fläche.

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE59006145T Expired - Fee Related DE59006145D1 (de) 1989-12-23 1990-12-05 Interferometrischer Sensor zur Messung von Abstandsänderungen einer kleinen Fläche.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5166751A (de)
EP (1) EP0438675B1 (de)
JP (1) JP2865880B2 (de)
DE (2) DE3942896A1 (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19504189A1 (de) * 1995-02-09 1996-08-14 Leitz Messtechnik Gmbh Interferometervorrichtung
DE19626261A1 (de) * 1995-06-30 1997-01-02 Nikon Corp Beobachtungsvorrichtung
US5951891A (en) * 1997-03-24 1999-09-14 International Business Machines Corporation Optical apparatus for monitoring profiles of textured spots during a disk texturing process
DE10260256A1 (de) * 2002-12-20 2004-07-15 Carl Zeiss Interferometersystem und Meß-/Bearbeitungswerkzeug
DE102015118483B3 (de) * 2015-10-29 2017-05-04 Leica Microsystems Cms Gmbh Interferenzobjektiv nach Mirau

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5585913A (en) * 1994-04-01 1996-12-17 Imra America Inc. Ultrashort pulsewidth laser ranging system employing a time gate producing an autocorrelation and method therefore
US5778016A (en) 1994-04-01 1998-07-07 Imra America, Inc. Scanning temporal ultrafast delay methods and apparatuses therefor
US5489984A (en) * 1994-04-01 1996-02-06 Imra America, Inc. Differential ranging measurement system and method utilizing ultrashort pulses
JPH0961442A (ja) * 1995-08-23 1997-03-07 Mitsubishi Electric Corp 原子間力顕微鏡及びその測定ヘッド
GB9702388D0 (en) * 1997-02-06 1997-03-26 Bio Rad Micromeasurements Ltd Selective interferometry
AU7467798A (en) 1997-04-22 1998-11-13 James W. Early Laser detection of material thickness
AUPO810997A0 (en) * 1997-07-18 1997-08-14 Lions Eye Institute Of Western Australia Incorporated, The Method and apparatus for calibration of ablation lasers
US6831742B1 (en) 2000-10-23 2004-12-14 Applied Materials, Inc Monitoring substrate processing using reflected radiation
WO2003091661A1 (en) * 2002-04-26 2003-11-06 Massachussetts Institute Of Technology Adjustable focusing composite for use in an optical profilometer system and method
US6937343B2 (en) * 2002-08-29 2005-08-30 Applied Materials, Israel, Ltd. Laser scanner with amplitude and phase detection
US7869057B2 (en) 2002-09-09 2011-01-11 Zygo Corporation Multiple-angle multiple-wavelength interferometer using high-NA imaging and spectral analysis
US7139081B2 (en) 2002-09-09 2006-11-21 Zygo Corporation Interferometry method for ellipsometry, reflectometry, and scatterometry measurements, including characterization of thin film structures
EP1411321B1 (de) * 2002-10-15 2017-04-19 Mitutoyo Corporation Interferometer mit integrierter Bildaufnahmematrix, Polarisator hoher dichte und Phasenverschiebungsmatrix
US6842254B2 (en) * 2002-10-16 2005-01-11 Fiso Technologies Inc. System and method for measuring an optical path difference in a sensing interferometer
US7324214B2 (en) 2003-03-06 2008-01-29 Zygo Corporation Interferometer and method for measuring characteristics of optically unresolved surface features
US7106454B2 (en) 2003-03-06 2006-09-12 Zygo Corporation Profiling complex surface structures using scanning interferometry
US8351048B2 (en) * 2003-08-28 2013-01-08 4D Technology Corporation Linear-carrier phase-mask interferometer
JP5340539B2 (ja) 2003-09-15 2013-11-13 ザイゴ コーポレーション 表面の干渉分析のための方法およびシステムならびに関連する応用例
WO2005114096A2 (en) * 2004-05-18 2005-12-01 Zygo Corporation Methods and systems for determining optical properties using low-coherence interference signals
US7054071B2 (en) * 2004-07-08 2006-05-30 Spectel Research Corporation Mireau interference objective lens
US7446882B2 (en) * 2005-01-20 2008-11-04 Zygo Corporation Interferometer for determining characteristics of an object surface
US7884947B2 (en) 2005-01-20 2011-02-08 Zygo Corporation Interferometry for determining characteristics of an object surface, with spatially coherent illumination
JP4939765B2 (ja) * 2005-03-28 2012-05-30 株式会社日立製作所 変位計測方法とその装置
WO2007044786A2 (en) 2005-10-11 2007-04-19 Zygo Corporation Interferometry method and system including spectral decomposition
WO2008011510A2 (en) 2006-07-21 2008-01-24 Zygo Corporation Compensation of systematic effects in low coherence interferometry
WO2008080127A2 (en) 2006-12-22 2008-07-03 Zygo Corporation Apparatus and method for measuring characteristics of surface features
US7889355B2 (en) 2007-01-31 2011-02-15 Zygo Corporation Interferometry for lateral metrology
US7619746B2 (en) 2007-07-19 2009-11-17 Zygo Corporation Generating model signals for interferometry
US7920269B2 (en) * 2007-08-03 2011-04-05 Chung Yuan Christian University System and method for measuring interferences
US8072611B2 (en) 2007-10-12 2011-12-06 Zygo Corporation Interferometric analysis of under-resolved features
US7978337B2 (en) 2007-11-13 2011-07-12 Zygo Corporation Interferometer utilizing polarization scanning
WO2009079334A2 (en) * 2007-12-14 2009-06-25 Zygo Corporation Analyzing surface structure using scanning interferometry
US8319971B2 (en) * 2008-05-06 2012-11-27 Industrial Technology Research Institute Scatterfield microscopical measuring method and apparatus
US8120781B2 (en) 2008-11-26 2012-02-21 Zygo Corporation Interferometric systems and methods featuring spectral analysis of unevenly sampled data
TWI447351B (zh) * 2009-02-24 2014-08-01 Univ Nat Taipei Technology 正交偏極式Mirau干涉術以及其分光模組與干涉系統
JP5607392B2 (ja) * 2010-03-12 2014-10-15 株式会社ミツトヨ 光干渉測定装置
TWI490542B (zh) 2013-05-07 2015-07-01 Univ Nat Taiwan A scanning lens and an interference measuring device using the scanning lens
US9405254B2 (en) * 2013-11-26 2016-08-02 Xerox Corporation Device for uniform light intensity generation
US11262191B1 (en) * 2018-07-12 2022-03-01 Onto Innovation Inc. On-axis dynamic interferometer and optical imaging systems employing the same
US11029146B2 (en) 2018-10-18 2021-06-08 Cyberoptics Corporation Three-dimensional sensor with counterposed channels

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE300086C (de) *
US2612074A (en) * 1949-03-30 1952-09-30 Prec Mecanique Paris Soc Interferometer
DE965607C (de) * 1949-03-30 1957-06-13 Prec Mecanique Interferenzmikroskop
US4576479A (en) * 1982-05-17 1986-03-18 Downs Michael J Apparatus and method for investigation of a surface
DE3322710C2 (de) * 1983-06-24 1986-05-28 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Optische Abstandsmeßvorrichtung
US4639139A (en) * 1985-09-27 1987-01-27 Wyko Corporation Optical profiler using improved phase shifting interferometry
EP0440268B1 (de) * 1987-05-12 1994-08-17 International Business Machines Corporation Atomarer Kräftesensor mit interferometrischer Messung der Eigenschaften eines Datenträgers
US4869593A (en) * 1988-04-22 1989-09-26 Zygo Corporation Interferometric surface profiler

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19504189A1 (de) * 1995-02-09 1996-08-14 Leitz Messtechnik Gmbh Interferometervorrichtung
DE19504189C2 (de) * 1995-02-09 1998-03-19 Leitz Messtechnik Gmbh Interferometervorrichtung
DE19626261A1 (de) * 1995-06-30 1997-01-02 Nikon Corp Beobachtungsvorrichtung
US5764363A (en) * 1995-06-30 1998-06-09 Nikon Corporation Apparatus for observing a surface using polarized light
US5951891A (en) * 1997-03-24 1999-09-14 International Business Machines Corporation Optical apparatus for monitoring profiles of textured spots during a disk texturing process
DE10260256A1 (de) * 2002-12-20 2004-07-15 Carl Zeiss Interferometersystem und Meß-/Bearbeitungswerkzeug
DE10260256B4 (de) * 2002-12-20 2005-02-17 Carl Zeiss Interferometersystem und Meß-/Bearbeitungswerkzeug
DE102015118483B3 (de) * 2015-10-29 2017-05-04 Leica Microsystems Cms Gmbh Interferenzobjektiv nach Mirau
US10890745B2 (en) 2015-10-29 2021-01-12 Leica Microsystems Cms Gmbh Mirau interference objective

Also Published As

Publication number Publication date
US5166751A (en) 1992-11-24
DE59006145D1 (de) 1994-07-21
EP0438675A2 (de) 1991-07-31
JPH04151501A (ja) 1992-05-25
EP0438675A3 (en) 1991-09-11
EP0438675B1 (de) 1994-06-15
JP2865880B2 (ja) 1999-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0438675B1 (de) Interferometrischer Sensor zur Messung von Abstandsänderungen einer kleinen Fläche
DE4201511B4 (de) Positionsdetektor und Verfahren zur Positionsmessung
DE3702203C2 (de) Verfahren zum Messen von Relativbewegungen
EP0281906B1 (de) Interferometer zur Messung von optischen Phasendifferenzen
EP0618439B1 (de) Bildgebender optischer Aufbau zur Untersuchung stark streuenden Medien
DE69303464T2 (de) System zur interferometrischen Detektion und Lokalisierung von reflektierenden Defekten in Lichtleiterstrukturen
EP0021148A1 (de) Verfahren und Einrichtung zur interferometrischen Messung
DE3240234A1 (de) Oberflaechenprofil-interferometer
DE2348272A1 (de) Dehnungsmesser
DE102006023996A1 (de) Interferometer zum Messen senkrechter Translationen
DE3137211C2 (de) Vorrichtung zur Bestimmung der Bewegung eines Gegenstandes mit einem Interferometer
DE19628200B4 (de) Vorrichtung zur Durchführung interferometrischer Messungen
DE3786468T2 (de) Verschiebungsmessfühler.
DE19520305C2 (de) Verfahren und Meßvorrichtung zur interferometrischen Abstandsmessung
DE102011111900A1 (de) Vorrichtung zur interferometrischen Abstandsbestimmung
DE19938869A1 (de) Optisches Verschiebungsmeßsystem
DE3816248A1 (de) System zur entfernungsmessung
DE3606090C2 (de) Meßvorrichtung zum Messen kleinster Verschiebebeträge
DE69317874T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur differentiellen messung von brechungsindizes und deren anwendung
DE102011005937B4 (de) Vorrichtung zur interferentiellen Abstandsmessung
DE102017219125A1 (de) Optische Positionsmesseinrichtung
DE3226137C2 (de)
DE2628836B2 (de) Optischer Phasendiskriminator
CH709211B1 (de) Verfahren zur Bestimmung der räumlichen Lage eines Zielverfolgungsspiegels und Spiegelanordnung zur Durchführung des Verfahrens.
DE4218382A1 (de) Optisches Profilometer zur Rauheitsmessung mit adaptiver Neigungsvoreinstellung und neuartigem Detektionssystem

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee