DE3917895A1 - Halbleiterscheiben-verarbeitungssystem - Google Patents
Halbleiterscheiben-verarbeitungssystemInfo
- Publication number
- DE3917895A1 DE3917895A1 DE3917895A DE3917895A DE3917895A1 DE 3917895 A1 DE3917895 A1 DE 3917895A1 DE 3917895 A DE3917895 A DE 3917895A DE 3917895 A DE3917895 A DE 3917895A DE 3917895 A1 DE3917895 A1 DE 3917895A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- workpiece
- processing
- processing devices
- semiconductor wafer
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
- H01L21/67173—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers in-line arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/67346—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders characterized by being specially adapted for supporting a single substrate or by comprising a stack of such individual supports
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
- Y10S438/907—Continuous processing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/12—Surface bonding means and/or assembly means with cutting, punching, piercing, severing or tearing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/53—Means to assemble or disassemble
- Y10T29/5313—Means to assemble electrical device
- Y10T29/53174—Means to fasten electrical component to wiring board, base, or substrate
- Y10T29/53178—Chip component
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Dicing (AREA)
- Feeding Of Workpieces (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Halbleiterscheiben-
Verarbeitungssystem mit einer Verarbeitungslinie, die
durch eine Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen gebildet wird,
und insbesondere eine System, bei welchem jede
Verarbeitungsvorrichtung eine Halbleiterscheibe aufweist,
die mittels Klebstoff mit einem ringförmigen Rahmen verbunden
ist. Die mit dem Rahmen verbundene Scheibe wird nachstehend
als "Werkstück" bezeichnet.
Ein bekanntes Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem dieser
Bauart ist in Fig. 9 dargestellt. Das System enthält eine
automatische Halbleiterscheibeverbindungsvorrichtung (1)
mit einer Halbleiterscheibenbeschichtungsvorrichtung (1 a)
und eine Rahmenbeschichtungsvorrichtung (1 b), eine
Trennvorrichtung (2), eine Ultraviolett-Bestrahlungsvorrichtung
(3) und eine Stapelvorrichtung (4). Diese
Verarbeitungsvorrichtungen (1-4) sind aufeinanderfolgend in
der angegebenen Reihenfolge miteinander verbunden. Das
System weist ferner einen (nicht dargestellten)
Hauptrechner zur Steuerung der Bewegung einer mit einem
Rahmen verbundenen Halbleiterscheibe auf, die anschließend
zwischen diesen Verarbeitungsvorrichtungen als Werkstück
(W) bezeichnet wird. Die Ultraviolett-Bestrahlungsvorrichtung
(3) unterwirft das Werkstück (W) einer UV-Bestrahlung, um die
Klebekraft der mit dem Werkstück (W) verbundenen
Halbleiterscheibe und dem besonderen Klebeband zu verringern,
das zur Verbindung der Halbleiterscheibe mit dem Werkstück
(W) verwendet wird. Das Klebeband ist derart ausgeführt,
daß es beim Aussetzen an eine UV-Bestrahlung die
Klebekraft verliert, wodurch die Entfernung eines
Halbleiterchips aus der Halbleiterscheibe in anschließenden
Diverbindungsverfahren erleichtert wird.
Diese Art eines bekannten Halbleiterscheiben-
Verarbeitungssystems hat insofern einige Mängel, als zu
den Zeiten, wo eine der stromaufwärtigen
Verarbeitungsvorrichtungen in der Verarbeitungslinie ausfällt,
oder ein Los Werkstücke gegenüber einem anderen Los in der
automatischen Halbleiterscheibenverbindungsvorrichtung (3)
versetzt wird, die Bewegung der Werkstücke in der
Verarbeitungslinie angehalten sein kann. Anders ausgedrückt,
jede stromabwärtige Verarbeitungsvorrichtung hat eine
Wartezeit, was zu einer niedrigen Arbeitseffizienz führt.
Hat ferner irgendeine stromaufwärtige Verarbeitungsvorrichtung
eine kleinere Verarbeitungskapazität als eine stromabwärtige
Verarbeitungsvorrichtung, so wird die Arbeitseffizienz des
Systems auf die Kapazität der stromaufwärtigen
Verarbeitungsvorrichtung eingeschränkt. Unter stromaufwärtiger
Verarbeitung werden frühe Stufen in der Verarbeitungsfolge
verstanden und unter einer stromabwärtigen Verarbeitung
spätere Stufen in der Verarbeitungsfolge.
Ferner kann bei einem bekannten
Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem die Ausrichtungsrichtung
des in die Entnahmevorrichtung gebrachten Werkstückes von
jener des Werkstückes, wie es ursprünglich von der
Beschickungsvorrichtung geliefert wurde, verschieden sein,
was die Handhabung des Werkstückes in der nachfolgenden
Verarbeitungsstufe erschwert.
Soll ferner ein besonderes Los Werkstücke außerplanmäßig
verarbeitet werden, so würde es schwierig sein, ein solches
Los in die Verarbeitungslinie einzufügen.
Im Hinblick auf obigen Sachverhalt liegt der Erfindung die
Aufgabenstellung zugrunde, die Arbeitseffizient des
Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystems zu verbessern.
Ferner liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein
Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem zu schaffen, in dem
die Ausrichtung eines Werkstückes in der Entnahmevorrichtung
gegenüber seiner Position in der Beschickungsvorrichtung
unverändert bleibt.
Die vorstehenden Aufgabenstellungen und weitere
Aufgabenstellungen der Erfindung werden durch ein
Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem gelöst, das
gekennzeichnet ist durch: eine Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen,
die eine Basisverarbeitungslinie zur aufeinanderfolgenden
Verarbeitung eines Werkstückes bilden; eine
Sensorvorrichtung zur Erfassung der Zuführung eines
Werkstückes an eine der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen;
eine erste Hilfsvorrichtung, die neben einer der Anzahl
Verarbeitungsvorrichtungen angeordnet ist und auf die
Sensorvorrichtung anspricht, um ein Werkstück der einen der
Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen zu solchen Zeiten zuzuführen,
wenn das Werkstück nicht durch eine andere der Anzahl
Verarbeitungsvorrichtungen stromaufwärts der einen
Verarbeitungsvorrichtung zugeführt wird; und eine zweite
Hilfsvorrichtung, die neben der einen
Verarbeitungsvorrichtung liegt und auf die Sensorvorrichtung
anspricht, um das Werkstück aufzunehmen, das durch die
eine Verarbeitungsvorrichtung in einer Richtung
verarbeitet wurde, die verschieden von der
Basisverarbeitungslinie ist, die sich zwischen der einen
Verarbeitungsvorrichtung und einer weiteren der Anzahl
der Verarbeitungsvorrichtungen stromabwärts der einen
Verarbeitungsvorrichtung erstreckt, zu solchen Zeiten,
wenn das Werkstück von der ersten Hilfsvorrichtung zugeführt
wird.
Eine typische Funktion des erfindungsgemäßen
Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystems ist nachfolgend
aufgeführt. Es sei angenommen, daß die gleiche vorstehend
beschriebene Verarbeitungsvorrichtung eine
UV-Bestrahlungsvorrichtung ist, die mit einer stromaufwärtigen
Trennvorrichtung verbunden ist, und daß keine
Werkstückaufnahmeanforderung an die UV-Bestrahlungsvorrichtung
seitens der Trennvorrichtung ausgegeben wird, da letztere
nicht betriebsfähig ist. Die erste Hilfsvorrichtung
arbeitet zur Zuführung eines Werkstückes, das beispielsweise
eine vorab gefertigte,aufgetrennte Halbleiterscheibe ist,
an die UV-Bestrahlungsvorrichtung über eine Verarbeitungslinie
die sich von der Basisverarbeitungslinie unterscheidet.
Das Werkstück wird nach Verarbeitung durch die
UV-Bestrahlungsvorrichtung über die Verarbeitungslinie,
die sich von der Basisverarbeitungslinie unterscheidet,
an die zweite Hilfsvorrichtung geliefert. Dieser Vorgang
kann andauern bis die Trennvorrichtung in der
Basisverarbeitungslinie betriebsfähig wird und eine
Werkstückaufnahmeanforderung an die UV-Bestrahlungsvorrichtung
für normalen Betrieb in der Basisverarbeitungslinie ausgibt.
Bei der Handhabung des Werkstückes, das eine getrennte
Halbleiterscheibe, wie vorausgehend beschrieben, aufweist,
ist vorzugsweise die Richtung der Werkstückausrichtung in
der zweiten Hilfsvorrichtung identisch mit der Richtung
der Werkstückausrichtung, wie sie von der ersten
Hilfsvorrichtung geliefert wird, um die Handhabung des
Werkstückes in nachfolgenden Verarbeitungsschritten zu
erleichtern.
Die Art der Erfindung, ihr Grundgedanke und ihre Brauchbarkeit
ergeben sich näher aus der nachfolgenden Einzelbeschreibung
in Verbindung mit den anliegenden Zeichnungen; es zeigen:
Fig. 1 einen Grundriß eines
Halbleiterscheiben-
Verarbeitungssystems gemäß
einer ersten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 2 eine schematische Darstellung
eines Steuersystems, das im
Verarbeitungssystem gemäß
Fig. 1 verwendet wird;
Fig. 3 eine Schnittdarstellung einer
UV-Bestrahlungsvorrichtung, die
im Verarbeitungssystem nach Fig. 1
verwendet wird;
Fig. 4 eine Schnittdarstellung einer
Beschickungsvorrichtung, die
im Verarbeitungssystem nach
Fig. 1 eingesetzt wird;
Fig. 5 eine Schnittdarstellung einer
Entnahmevorrichtung, die im
Verarbeitungssystem gemäß
Fig. 1 verwendet wird;
Fig. 6 eine Betriebsablaufdarstellung
bezüglich des Betriebes des
Steuersystems nach Fig. 2;
Fig. 7 eine perspektivische Ansicht
eines im Verarbeitungssystem
nach Fig. 1 verwendeten
Werkstückes;
Fig. 8 einen Grundriß eines
Halbleiterscheiben-
Verarbeitungssystems gemäß
einer zweiten Ausführungsform
der Erfindung; und
Fig. 9 einen Grundriß eines bekannten
Halbleiterscheiben-
Verarbeitungssystems.
Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung werden unter
Bezugnahme auf die anliegenden Zeichnungen näher erläutert.
Fig. 1 stellt ein Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem
gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung dar.
Eine Halbleiterscheibeverbindungsvorrichtung (1), eine
Trennvorrichtung (2), eine Ultraviolett (UV)-
Bestrahlungsvorrichtung (3) und eine Stapelvorrichtung (4)
sind aufeinanderfolgend in der angegebenen Reihenfolge
miteinander verbunden und bilden somit eine
Basisverarbeitungslinie zur Verarbeitung einer
Halbleiterscheibe in der in Fig. 1 dargestellten Reihenfolge.
Die Halbleiterscheibeverbindungsvorrichtung (1) liefert
gemäß Fig. 7 ein Werkstück (W). Insbesondere nimmt die
Halbleiterscheibeverbindungsvorrichtung (1) eine
Halbleiterscheibe (5) von einer
Halbleiterscheibenbeschickungsvorrichtung (1 a) auf und
verbindet ein Klebeband (6), das größer als die
Halbleiterscheibe (5) ist, mit dieser, so daß sich die
Halbleiterscheibe (5) etwa in der Mittelpunktsposition
des Klebebandes (6) befindet, und sie verbindet anschließend
die Halbleiterscheibe (5) mit dem daran haftenden
Klebeband (6) mit einem ringförmigen Rahmen (7), der von
einer Rahmenbeschickungsvorrichtung (1 b) aufgenommen wird.
Die Trennvorrichtung (2) schneidet das Werkstück (W) längs
vorgegebener Trennlinien auf, welcher Vorgang wohlbekannt ist.
Die UV-Bestrahlungsvorrichtung (3) unterzieht das
aufgetrennte Werkstück (W) von unterhalb des Werkstückes (W)
aus den UV-Strahlen, um die Klebekraft zwischen dem Klebeband
und der Halbleiterscheibe (5) zu verringern.
Fig. 3 stellt eine Schnittansicht der UV-Bestrahlungsvorrichtung
(3) dar. Die UV-Bestrahlungsvorrichtung (3) enthält einen
Werkstückaufnahmeabschnitt (A) zur Aufnahme eines
Werkstückes (W) aus der Trennvorrichtung (2), einen
UV-Bestrahlungsabschnitt (B), und einen
Werkstückentnahmeabschnitt (C) zur Abgabe des verarbeiteten
Werkstückes (W′) an die Stapelvorrichtung (4), die
aufeinanderfolgend in der angegebenen Reihenfolge entsprechend
der Richtung des Verarbeitungsflusses der
Basisverarbeitungslinie miteinander verbunden sind.
Der Werkstückaufnahmeabschnitt (A) hat Förderbänder (8)
zur Aufnahme des Werkstückes, die parallel zur Richtung
des Verarbeitungsablaufes der Basisverarbeitungslinie liegen
und eine Werkstückabgabebank (10) zur Abgabe eines
Werkstückes (W) auf dieselben. Die Werkstückabgabebank
(10) bewegt sich mittels eines Pneumatikzylinders (9) in
Vertikalrichtung gegenüber der Richtung des
Verarbeitungsablaufes nach oben oder unten.
Der Werkstückförderabschnitt (C) hat Förderbänder (11)
zur Werkstückablieferung, die sich längs der Richtung des
Verarbeitungsablaufes erstrecken, und eine Werkstückabgabebank
(11), die sich in Vertikalrichtung gegenüber der Richtung
des Verarbeitungsablaufes mittels eines Pneumatikzylinders
(12) aufwärts oder abwärts bewegt.
Der UV-Bestrahlungsabschnitt (B) enthält eine ringförmige
Werkstückhaltebank (14) zur Halterung des Rahmens des
Werkstückes (W), ein zylindrisches Gehäuse (15), das die
Werkstückhaltebank (14) aufnimmt, eine UV-Lampe (16), einen
UV-Strahlzylinder (17) und einen Verschluß (18). Die
UV-Lampe (16),der UV-Strahlzylinder (17) und der Verschluß
(18) sind unter dem zylindrischen Gehäuse (15) angeordnet.
Eine Vorschubeinrichtung (19) ist vorgesehen, um das
Werkstück (W) vom Werkstückaufnahmeabschnitt (A) zum
UV-Bestrahlungsabschnitt (B) und von letzterem zum
Werkstückentnahmeabschnitt (C) in Richtung des
Verarbeitungsablaufes zu bewegen, während das Werkstück (W)
im Luftraum hängt. Die Vorschubeinrichtung (19) enthält
einen bewegbaren Rahmen (24) mit einem Paar Saug- und
Pneumatikzylinder (25) zur Bewegung des bewegbaren Rahmens
(24) auf einer Führungsschiene (26) parallel zur Richtung
des Verarbeitungsablaufes in Vorwärts- und Rückwärtsrichtung.
Jede der Saug- und Haltevorrichtungen (22, 23) ist an
einem jeweiligen Ende des bewegbaren Rahmens (24) angeordnet
und ermöglicht das Festsaugen und Halten des Werkstückes (W)
auf dem bewgbaren Rahmen (24) zwecks Aufhängung des Werkstückes
(W) im Luftraum während der Bewegung des Werkstückes (W).
Jede der Saug- und Haltevorrichtungen (22, 23) bewegt sich
vertikal relativ zur Richtung des Verarbeitungsablaufes mit
Hilfe jeweils eines Luftzylinders (20, 21).
Die Vorschubeinrichtung (19) ist derart ausgeführt, daß
die Bewegung des Werkstückes (W) vom Werkstückaufnahmeabschnitt
Haltevorrichtung (22) für das Werkstück gleichzeitig mit
der Bewegung des verarbeiteten Werkstückes (W′) vom
UV-Bestrahlungsabschnitt (B) zum Werkstückentnahmeabschnitt
(C) seitens der Saug- und Haltevorrichtung (23) des
Werkstückes erfolgt.
Die Stapelvorrichtung (4) gemäß Fig. 1 enthielt einen
Strichcodeleser (28) zum Lesen eines (in Fig. 7 dargestellten)
Strichcodes (27), der an dem verarbeiteten Werkstück (W′),
das vom Werkstückentnahmeabschnitt (C) abgegeben wird,
vorgesehen ist. Das verarbeitete Werkstück (W′) wird
abhängig von dem abgelesenen Strichcode (27) an einen
jeweiligen der Speicherabschnitte für das verarbeitete
Werkstück abgegeben, beispielsweise an (28 a, 28 b, 28 c)
gemäß Fig. 1, die das verarbeitete Werkstück (W′) speichern.
Wie vorausgehend erläutert wurde, bilden die vorstehend
beschriebenen Verarbeitungsvorrichtungen die
Basisverarbeitungslinie für das erfindungsgemäße
Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem. Das Werkstück wird
zwischen den Verarbeitungsvorrichtungen, abhängig von den
Befehlen eines Hauptrechners (29) entsprechend einer
vorbestimmten Verfahrensweise gemäß Fig. 2 abgenommen.
Gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung weist
in der UV-Bestrahlungsvorrichtung (3) gemäß Fig. 1 der
Werkstückaufnahmeabschnitt (A) ferner eine
Beschickungsvorrichtung (30) auf, die ein Werkstück (Wa)
direkt zum Werkstückaufnahmeabschnitt (A) liefert, womit
eine Verarbeitungslinie gebildet wird, die sich von der
Basisverarbeitungslinie unterscheidet, und der
Werkstückentnahmeabschnitt (C) weist ferner eine
Entnahmevorrichtung (31) zur Entnahme eines verarbeiteten
Werkstückes (Wa′) vom Entnahmeabschnitt (C) zur
Entnahmevorrichtung (31) auf, die das Werkstück (Wa′)
speichert und somit eine Verarbeitungslinie bildet, die
sich von der Basisverarbeitungslinie unterscheidet. Daher
bildet die UV-Bestrahlungsvorrichtung (3) zusammen mit der
(31), die mit ihr verbunden sind, eine Verarbeitungslinie,
die von der Basisverarbeitungslinie verschieden ist.
Die Beschickungsvorrichtung (30) enthält gemäß Fig. 4
Zufuhrbänder (32), die sich senkrecht relativ zur Bewegung
der Förderbänder (8) zur Aufnahme des Werkstückes bewegen
und die normalerweise unter den Förderbändern (8) liegen
und die sich zu den Zeiten, wenn die Zufuhrbänder (32)
in Betrieb sind, mittels (nicht dargestellter) Pneumatikzylinder
über den Förderbändern (8) bewegen, eine Kassette (33),
die relativ zur Bewegung der Förderbänder (32, 8) vertikal
beweglich ist und in die durchtrennte Werkstücke (Wa) in
Form eines Stapels eingeführt werden, einen Schieber (34)
zur Abgabe durchgetrennter Werkstücke (Wa) aus der Kassette
(33) auf die Zufuhrbänder (32), jeweils ein Werkstück,
beginnend mit dem Werkstück (Wa) am Boden des Stapels, und
einen Pneumatikzylinder (35) zum Antrieb des Schiebers
(34) .
Die Entnahmevorrichtung (31) enthält gemäß Fig. 5
Entnahmebänder (36), die sich senkrecht relativ zur
Bewegung der Förderbänder (11) zur Werkstückablieferung
bewegen und die normalerweise unter den Förderbändern (11)
liegen, und die sich zu den Zeiten, wo die Förderbänder
(36) in Betrieb sind, mittels der (nicht dargestellten)
Pneumatikzylinder oberhalb der Förderbänder (11) bewegen,
eine vertikal bewegbare Kassette (37), in die verarbeitete
Werkstücke (Wa′) in Form eines Stapels eingeführt werden,
einen Schieber (38) zum Einführen eines verarbeiteten
Werkstückes (Wa′), das durch die Entnahmebänder (36)
entnommen wurde, in die Kassette (37), einen
Pneumatikzylinder (39), um den Schieber (38) vorwärts oder
rückwärts zu bewegen, in einer zur Bewegung der Entnahmebänder
(36) parallelen Richtung, und einen Pneumatikzylinder (40)
zur Bewegung des Schiebers (38) vertikal relativ zur
Bewegung der Förderbänder (36, 11).
Eine Steuerung (41) ist gemäß Fig. 2 an der
UV-Bestrahlungsvorrichtung (3) vorgesehen, um den Betrieb
des Werkstückaufnahmeabschnittes (A), des
UV-Bestrahlungsabschnittes (B), des Werkstückentnahmeabschnittes
(C), der Vorschubeinrichtung (19), der Beschickungsvorrichtung
(30) und der Entnahmevorrichtung (31), abhängig von den
vom Hauptrechner (29) erhaltenen Befehlen zu steuern.
Der Betrieb der UV-Bestrahlungsvorrichtung (3) wird unter
Bezugnahme auf eine Betriebsablaufdarstellung der Fig. 6
beschrieben.
Zuerst wird ein (nicht dargestellter) geeigneter Sensor
am Werkstückaufnahmeabschnitt (A) vorgesehen und stellt
fest, ob ein Werkstück (W) am Werkstückaufnahmeabschnitt (A)
vorhanden oder nicht vorhanden ist (Stufe (S 1)). Ist er
nicht vorhanden, so stellt der Sensor fest, ob eine
Werkstückaufnahmeanforderung von der Trennvorrichtung (2)
mittels des Hauptrechners (29) (Stufe (S 2)) an die
Steuerung (41) ausgegeben oder nicht ausgegeben wurde.
Ist die Verarbeitungslinie kontinuierlich in Betrieb, so
gibt der Hauptrechner (29) eine Werkstückaufnahmeanforderung
an die Steuerung (41) ab, um die Förderbänder (8) zur
Werkstückaufnahme in der UV-Bestrahlungsvorrichtung (3)
anzutreiben (Stufe (S 3)). In diesem Falle werden die
Zufuhrbänder (32) in einer unteren Position unter den
Förderbändern (8) gehalten, um die Bewegung der Förderbänder
(8) zu erleichtern. Wird ein Vorbereitungsbetrieb zur
Werkstückaufnahme bei laufenden Förderbändern (8) durchgeführt,
so wird dieser Umstand über den Hauptrechner (29) der
Trennvorrichtung (2) mitgeteilt. Darauf wird das
Werkstück (W) von der Trennvorrichtung an die Förderbänder
(8) zur Aufnahme des Werkstückes im Werkstückaufnahmeabschnitt
(A) abgegeben (Stufe (S 4)).
Erfaßt ein geeigneter Sensor die Ankunft des Werkstückes
(W) im Werkstückaufnahmeabschnitt (A) (Stufe (S 5)), so wird
die Beendigung des Werkstückaufnahmevorganges mittels der
Steuerung (41) dem Hauptrechner (29) mitgeteilt (Stufe (S 6)).
Anschließend bewegt die Vorschubeinrichtung (19) das
Werkstück (W) vom Werkstückaufnahmeabschnitt (A) zum
UV-Bestrahlungsabschnitt (B) und das Werkstück (W) wird
den UV-Strahlen ausgesetzt (Stufe (S 7)).
Nach Beendigung der UV-Bestrahlung bewegt die
Vorschubeinrichtung (19) das verarbeitete Werkstück (W′)
vom UV-Bestrahlungsabschnitt (B) zum Werkstückentnahmeabschnitt
(C). Anschliessend erfolgt die Bestimmung, ob ein
bearbeitetes Werkstück (W′) ursprünglich von der
Trennvorrichtung (2) (Stufe (S 8)) empfangen oder nicht
empfangen wurde, wie folgt: Ein Merker wird in einem (nicht
dargestellten) Register auf "1" gesetzt, wenn das Werkstück
(W) von der Trennvorrichtung (2) empfangen wurde, und er
wird auf "0" gesetzt, wenn dies nicht zutrifft. Somit
erfolgt die Bestimmung abhängig vom Zustand des im Register
gesetzten Merkers. Wird bestimmt, daß das verarbeitete
Werkstück (W′) von der Trennvorrichtung (2) aufgenommen
wurde, so wird die Beendigung des vorbereitenden
Betriebsvorganges für die Entnahme des verarbeiteten Werkstückes
(W′) der Stapelvorrichtung (4) durch die Steuerung (41)
(Stufe (S 9)) dem Hauptrechner (29) mitgeteilt.
Wird die Beendigung des vorbereitenden Betriebsvorganges für
die Werkstückaufnahme in der Stapelvorrichtung (4) der
Steuerung (41) über den Hauptrechner (29) mitgeteilt
(Stufe (S 10)), so werden die Förderbänder (11) zur
Werkstückablieferung angetrieben, um das verarbeitete
Werkstück (W′) der Stapelvorrichtung (4) zuzuführen (Stufe
(S 11)). Bei diesem Vorgang werden Entnahmebänder (36) für
das Werkstück in einer unteren Position unter den
Förderbändern (11) zur Werkstückablieferung gehalten, um
die Bewegung des Werkstückes (W′) in die Stapelvorrichtung
(4) zu erleichtern.
Wird in der Stufe (S 2) bestimmt, daß keine
Werkstückaufnahmeanforderung durch die Trennvorrichtung
(2) gemacht worden ist, so wird bestimmt, ob ein Werkstück
(Wa) in der Kassette (33) der Beschickungsvorrichtung
(30) vorhanden oder nicht vorhanden ist (Stufe (S 12)). Ist
ein Werkstück (Wa) in der Kassette (33) vorhanden, so
bewegen sich die Zufuhrbänder (32) für das Werkstück
mittels eines Pneumatikzylinders (35) nach oben in eine
hohe Position oberhalb der Förderbänder (8), so daß das
Werkstück (Wa) von der Kassette (33) auf die Zufuhrbänder
(32) für das Werkstück entladen wird und anschließend zum
Werkstückaufnahmeabschnitt (A) gelangt (Stufe (S 13)). Ein
entsprechender Sensor, der im Werkstückaufnahmeabschnitt
(A) angebracht ist, erfaßt die Aufnahme des Werkstückes
(Wa) durch den Werkstückaufnahmeabschnitt (A) (Stufe (S 14)).
Abhängig von dieser Erfassung bewegt sich die Kassette (33)
eine Stufe vertikal abwärts, um das nächste Werkstück in der
Kassette (33) auszugeben (Stufe (S 15)).
Nach Beendigung der Abnahme des Werkstückes (Wa) von der
Beschickungsvorrichtung (30) erfolgt die UV-Bestrahlung in
einer vorstehend in Stufe (S 7) beschriebenen Weise.
Falls in der Stufe (S 8) bestimmt wird, daß das Werkstück
(Wa) von der Beschickungsvorrichtung (30) erhalten wurde,
so bewegen sich die Zufuhrbänder (32) zum Entnehmen des
Werkstückes nach oben in eine hohe Position über den
Förderbändern (8) zur Aufnahme des Werkstückes und es wird
bestimmt, ob die Entnahmevorrichtung (31) zum Empfang des
verarbeiteten Werkstückes (Wa′) bereit oder nicht bereit
ist (Stufe (S 16)). Ein entsprechender Sensor ermittelt, um
zu gewährleisten, daß kein Werkstück in einer entsprechenden
Stellung im Stapel der Kassette (37) zur Aufnahme des
Entnahmevorrichtung (31) bereit zur Aufnahme des
verarbeiteten Werkstückes (Wa′) ist, so wird das
verarbeitete Werkstück (Wa′) im Werkstückentnahmeabschnitt
(C) mittels der in einer hohen Position gehaltenen
Entnahmebänder (36) für das Werkstück nach außen gegen
die Entnahmevorrichtung (31) zu bewegt, und durch den
Schieber (38) von den Entnahmebändern (36) weg in die
Kassette (37) gestoßen (Stufe (S 17)). Erfaßt ein
entsprechender Sensor das Einführen des Werkstückes (Wa′)
in die Kassette (37), so bewegt sich die Kassette (37)
der Entnahmevorrichtung (31) eine Stufe vertikal nach
oben, um das nächste Werkstück (Wa′) aufzunehmen (Stufe
(S 19)).
Wird ein verarbeitetes Werkstück (Wa′), das ursprünglich
durch die Beschickungsvorrichtung (30) angeliefert wurde,
in die Kassette (37) der Entnahmevorrichtung (31) eingeführt,
nachdem sie einer UV-Bestrahlung unterworfen wurde, so
bleibt die Oberflächenlage des Werkstückes (Wa′) gegenüber
ihrer ursprünglichen Oberflächenlage, in der sie ursprünglich
von der Kassette (33) der Beschickungsvorrichtung (30)
zugeführt wurde, unverändert.
Fig. 8 stellt ein Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem
gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung dar.
In Fig. 8 sind die Beschickungsvorrichtung (30) und die
Entnahmevorrichtung (31) am Werkstückaufnahmeabschnitt (A)
der UV-Bestrahlungsvorrichtung (3) angeordnet, so daß das
verarbeitete Werkstück (Wa′) vom UV-Bestrahlungsabschnitt
(B) dorthin zurückgebracht wurde, von wo es ursprünglich
zugeführt wurde. Die Ausrichtungsrichtung des verarbeiteten
Werkstückes (Wa′) bleibt gegenüber der Ausrichtungsrichtung
des Werkstückes (Wa) bei der Zuführung aus der
Beschickungsvorrichtung (31) unverändert.
Gemäß einer dritten Ausführungsform der Erfindung wird
das technische Konzept der Erfindung, das bei der
UV-Bestrahlungsvorrichtung (3) gemäß der ersten und zweiten
Ausführungsform angewandt wurde, bei der Trennvorrichtung
(2) angewandt, indem beispielsweise die
Beschickungsvorrichtung (30) und die Entnahmevorrichtung
(31) mit der Trennvorrichtung (2) verbunden werden und eine
Verarbeitungslinie bilden, die verschieden von
der Basisverarbeitungslinie ist, in welcher die
Halbleiterscheibeverbindungsvorrichtung (1), die
Trennvorrichtung (2) und die UV-Bestrahlungsvorrichtung
(3) aufeinanderfolgend in gleicher Weise wie bei der ersten
und zweiten Ausführungsform verbunden sind.
Das erfindungsgemäße Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem
ergibt mehrere Vorteile gegenüber dem bekannten System.
Beispielsweise wird in Situationen, wo keine
Werkstückaufnahmeanforderung von einer stromaufwärtigen
Verarbeitungsvorrichtung an eine stromabwärtige
Verarbeitungsvorrichtung ausgegeben wird, die Wartezeit der
stromabwärtigen Vorrichtung effektiv genützt, da ein
Werkstück der stromabwärtigen Verarbeitungsvorrichtung
direkt aus einer zusätzlichen Werkstückzufuhrvorrichtung
zugeführt werden kann, die eine Verarbeitungslinie bildet,
die gegenüber der Basisverarbeitungslinie verschieden ist,
womit die Wartezeit der stromabwärtigen Verarbeitungsvorrichtung
merklich verringert wird. Im Ergebnis wird die
Arbeitseffizienz des Systems beträchtlich vergrößert. Als
weiteres Beispiel bleibt die Ausrichtungsrichtung des
Werkstückes in einer zusätzlichen Entnahmevorrichtung nach
Verarbeitung mittels einer Verarbeitungslinie, die sich
gegenüber der Basisverarbeitungslinie unterscheidet, relativ
zur ursprünglichen Ausrichtungsrichtung des Werkstückes,
wie es von der zusätzlichen Zuführvorrichtung geliefert
wurde, unverändert. Dies erleichtert die Handhabung des
Werkstückes in nachfolgenden Verarbeitungsstufen. Andere
Ausführungsformen der Erfindung ergeben sich für den
Fachmann unter Berücksichtigung der Beschreibung und der
hier gezeigten Ausführung der Erfindung. Die Beschreibung
und die Beispiele sind lediglich beispielhaft zu betrachten,
während der Grundgedanke und der Rahmen der Erfindung
durch die folgenden Ansprüche angegeben werden.
Claims (6)
1. Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem,
gekennzeichnet durch:
eine Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4), die eine Basisverarbeitungslinie zur aufeinanderfolgenden Verarbeitung eines Werkstückes (W) bilden;
eine Sensorvorrichtung zur Erfassung der Zuführung eines Werkstückes an eine der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen;
eine erste Hilfsvorrichtung (30), die neben einer der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4) angeordnet ist und auf die Sensorvorrichtung anspricht, um ein Werkstück der einen der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen zu solchen Zeiten zuzuführen, wenn das Werkstück nicht durch eine andere der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen stromaufwärts der einen Verarbeitungsvorrichtung zugeführt wird; und
eine zweite Hilfsvorrichtung (31), die neben der einen Verarbeitungsvorrichtung liegt und auf die Sensorvorrichtung anspricht, um das Werkstück aufzunehmen, das durch die eine Verarbeitungsvorrichtung in einer Richtung verarbeitet wurde, die verschieden von der Basisverarbeitungslinie ist, die sich zwischen der einen Verarbeitungsvorrichtung und einer weiteren der Anzahl der Verarbeitungsvorrichtungen stromabwärts der einen Verarbeitungsvorrichtung erstreckt, zu solchen Zeiten, wenn das Werkstück von der ersten Hilfsvorrichtung (30) zugeführt wird.
eine Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4), die eine Basisverarbeitungslinie zur aufeinanderfolgenden Verarbeitung eines Werkstückes (W) bilden;
eine Sensorvorrichtung zur Erfassung der Zuführung eines Werkstückes an eine der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen;
eine erste Hilfsvorrichtung (30), die neben einer der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4) angeordnet ist und auf die Sensorvorrichtung anspricht, um ein Werkstück der einen der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen zu solchen Zeiten zuzuführen, wenn das Werkstück nicht durch eine andere der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen stromaufwärts der einen Verarbeitungsvorrichtung zugeführt wird; und
eine zweite Hilfsvorrichtung (31), die neben der einen Verarbeitungsvorrichtung liegt und auf die Sensorvorrichtung anspricht, um das Werkstück aufzunehmen, das durch die eine Verarbeitungsvorrichtung in einer Richtung verarbeitet wurde, die verschieden von der Basisverarbeitungslinie ist, die sich zwischen der einen Verarbeitungsvorrichtung und einer weiteren der Anzahl der Verarbeitungsvorrichtungen stromabwärts der einen Verarbeitungsvorrichtung erstreckt, zu solchen Zeiten, wenn das Werkstück von der ersten Hilfsvorrichtung (30) zugeführt wird.
2. Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das
Werkstück einen Rahmen (7) aufweist und eine
Halbleiterscheibe (5) enthält, die durch einen
Klebstoff mit dem Rahmen verbunden ist und daß eine
der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4)
eine Belichtungsvorrichtung (3) enthält, um das
Werkstück einem Lichtstrahl auszusetzen, um die
Bindekraft zwischen der Halbleiterscheibe (5) und dem
Rahmen (7) zu verringern, um dadurch die Entfernung
mindestens eines Teils der Halbleiterscheibe vom
Rahmen zu erleichtern.
3. Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste
Hilfsvorrichtung (30) an einer von der
Basisverarbeitungslinie entfernten Stelle angeordnet
ist und eine Vorrichtung (32) aufweist, um das
Werkstück in einer ersten quer zur Basisverarbeitungslinie
liegenden Richtung zuzuführen; und daß die zweite
Hilfsvorrichtung derart angeordnet ist, um das Werkstück
in einer zweiten, entgegengesetzt zur ersten Richtung,
verlaufenden Richtung an der gleichen entfernten Stelle
wie die erste Hilfsvorrichtung (30) aufzunehmen.
4. Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die
erste Hilfsvorrichtung (30) betrieben wird, um ein
Werkstück zuzuführen, das eine Ausrichtung in einer
ersten Richtung gegenüber einer der Anzahl
Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4) hat; und daß
die zweite Hilfsvorrichtung (31) betrieben wird, um
das Werkstück zu empfangen, das eine Ausrichtung in
einer zweiten Richtung nach Verarbeitung durch eine
der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen hat, und die
zweite Richtung identisch mit der ersten Richtung ist.
5. Halbleiterscheiben-Verarbeitungssystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4), die
eine Basisverarbeitungslinie zur aufeinanderfolgenden
Verarbeitung eines Werkstückes bilden, mindestens
eine Halbleiterscheibe-Verbindungsvorrichtung (1),
eine Trennvorrichtung (2) und eine
Ultraviolett-Bestrahlungsvorrichtung (3) aufweisen.
6. Halbleiterscheiben-Verarbeitungsvorrichtung, die in
einer Linie einer Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen
verwendet wird, die eine Basisverarbeitungslinie
zur aufeinanderfolgenden Verarbeitung eines Werkstückes
bilden, gekennzeichnet durch:
Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4) zur Verarbeitung eines Werkstückes (W);
Eine Sensorvorrichtung zur Erfassung der Zuführung eines Werkstückes an eine der Anzahl Bearbeitungsvorrichtungen;
eine erste Hilfsvorrichtung (30), die neben einer der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4) angeordnet ist und auf die Sensorvorrichtung anspricht, um ein Werkstück der einen der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen zu solchen Zeiten zuzuführen, wenn das Werkstück nicht durch eine andere der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen stromaufwärts der einen Verarbeitungsvorrichtung zugeführt wird; und
eine zweite Hilfsvorrichtung (31), die neben der einen Verarbeitungsvorrichtung liegt und auf die Sensorvorrichtung anspricht, um das Werkstück aufzunehmen, das durch die eine Verarbeitungsvorrichtung in einer Richtung verarbeitet wurde, die verschieden von der Basisverarbeitungslinie ist, die sich zwischen der einen Verarbeitungsvorrichtung und einer weiteren der Anzahl der Verarbeitungsvorrichtungen stromabwärts der einen Verarbeitungsvorrichtung erstreckt, zu solchen Zeiten, wenn das Werkstück von der ersten Hilfsvorrichtung (30) zugeführt wird.
Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4) zur Verarbeitung eines Werkstückes (W);
Eine Sensorvorrichtung zur Erfassung der Zuführung eines Werkstückes an eine der Anzahl Bearbeitungsvorrichtungen;
eine erste Hilfsvorrichtung (30), die neben einer der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen (1, 2, 3, 4) angeordnet ist und auf die Sensorvorrichtung anspricht, um ein Werkstück der einen der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen zu solchen Zeiten zuzuführen, wenn das Werkstück nicht durch eine andere der Anzahl Verarbeitungsvorrichtungen stromaufwärts der einen Verarbeitungsvorrichtung zugeführt wird; und
eine zweite Hilfsvorrichtung (31), die neben der einen Verarbeitungsvorrichtung liegt und auf die Sensorvorrichtung anspricht, um das Werkstück aufzunehmen, das durch die eine Verarbeitungsvorrichtung in einer Richtung verarbeitet wurde, die verschieden von der Basisverarbeitungslinie ist, die sich zwischen der einen Verarbeitungsvorrichtung und einer weiteren der Anzahl der Verarbeitungsvorrichtungen stromabwärts der einen Verarbeitungsvorrichtung erstreckt, zu solchen Zeiten, wenn das Werkstück von der ersten Hilfsvorrichtung (30) zugeführt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14029088A JP2598305B2 (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 半導体ウエハの処理システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3917895A1 true DE3917895A1 (de) | 1989-12-07 |
Family
ID=15265353
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3917895A Withdrawn DE3917895A1 (de) | 1988-06-06 | 1989-06-01 | Halbleiterscheiben-verarbeitungssystem |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5246524A (de) |
JP (1) | JP2598305B2 (de) |
KR (1) | KR930001495B1 (de) |
DE (1) | DE3917895A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0475435A1 (de) * | 1990-09-14 | 1992-03-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Halbleitersubstrat-Ätzgerät |
US6756598B2 (en) | 1999-12-22 | 2004-06-29 | Erwin Behr Automotive Gmbh | Unit for irradiating a workpiece with ultraviolet radiation |
WO2008061689A3 (de) * | 2006-11-20 | 2009-02-12 | Permatecs Gmbh | Produktionsanlage zur herstellung von solarzellen, inline-batch-umsetzeinrichtung, batch-inline-umsetzeinrichtung sowie das dazugehörige verfahren |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5868854A (en) * | 1989-02-27 | 1999-02-09 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for processing samples |
JPH06252241A (ja) * | 1993-03-02 | 1994-09-09 | Toshiba Corp | 半導体製造装置 |
US5474647A (en) * | 1993-11-15 | 1995-12-12 | Hughes Aircraft Company | Wafer flow architecture for production wafer processing |
JPH0917752A (ja) * | 1995-06-28 | 1997-01-17 | Sony Corp | 偏平な被切削物の切断方法及びその装置 |
CH691798A5 (fr) | 1996-06-19 | 2001-10-31 | Hct Shaping Systems Sa | Centre de découpage destiné à produire des tranches à partir de pièces à trancher. |
JP3560823B2 (ja) * | 1998-08-18 | 2004-09-02 | リンテック株式会社 | ウェハ転写装置 |
JP3348700B2 (ja) * | 1999-08-19 | 2002-11-20 | 株式会社東京精密 | エッチング装置 |
WO2015070222A1 (en) * | 2013-11-11 | 2015-05-14 | Howard Hughes Medical Institute | Workpiece transport and positioning apparatus |
US10186397B2 (en) * | 2013-11-11 | 2019-01-22 | Howard Hughes Medical Institute | Workpiece holder for workpiece transport apparatus |
US11211266B2 (en) * | 2016-09-21 | 2021-12-28 | Texas Instruments Incorporated | Universal load port for ultraviolet radiation semiconductor wafer processing machine |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2364790A1 (de) * | 1972-12-29 | 1974-07-04 | Ibm | Einrichtung zur herstellung und bearbeitung von werkstuecken |
DE2708954A1 (de) * | 1976-03-26 | 1977-10-06 | Ibm | Rechnergesteuertes system fuer die herstellung von integrierten schaltungen |
DE3425267A1 (de) * | 1983-07-19 | 1985-01-31 | Varian Associates, Inc., Palo Alto, Calif. | System zum transportieren und behandeln von duennen substraten wie platten oder wafer |
DE2036562C2 (de) * | 1969-07-29 | 1986-11-27 | Texas Instruments Inc., Dallas, Tex. | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen |
EP0242067A2 (de) * | 1986-04-17 | 1987-10-21 | Varian Associates, Inc. | System zum Behandeln von Plättchen |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1908487A (en) * | 1928-01-11 | 1933-05-09 | Frank T Powers | Continuous etching machine |
US3401068A (en) * | 1965-02-15 | 1968-09-10 | Chemcut Corp | Method and apparatus for uniformly etching printed circuits by control of the conveyor speed |
CH469618A (de) * | 1967-03-08 | 1969-03-15 | Hepp Rudolf | Verfahren zur Einfügung von Einlagen in gefaltete Druckerzeugnisse wie Zeitungen, Zeitschriften od. dgl. und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
US3620879A (en) * | 1968-08-15 | 1971-11-16 | Tokyo Shibaura Electric Co | Apparatus for continuously determining the diameter of mask apertures |
US3756898A (en) * | 1969-07-14 | 1973-09-04 | Buckbee Mears Co | Resistant system suitable for controlling etching without the aid of an etchant |
US4013498A (en) * | 1974-07-11 | 1977-03-22 | Buckbee-Mears Company | Etching apparatus for accurately making small holes in thick materials |
DE2434305C2 (de) * | 1974-07-17 | 1983-09-29 | Hans Höllmüller Maschinenbau GmbH & Co, 7033 Herrenberg | Ätzanlage |
JPS61140402A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-06-27 | Hitachi Ltd | 貨物入出庫方式 |
JPS62196346U (de) * | 1986-06-02 | 1987-12-14 | ||
JPS63165214A (ja) * | 1986-12-25 | 1988-07-08 | Tokyo Jido Kikai Seisakusho:Kk | 製品補給方法及びその装置 |
US4772357A (en) * | 1987-06-08 | 1988-09-20 | Robbins & Craig Welding & Mfg. Co. | System for automatically etching pieces |
JPS6411320A (en) * | 1987-07-06 | 1989-01-13 | Toshiba Corp | Photo-cvd device |
-
1988
- 1988-06-06 JP JP14029088A patent/JP2598305B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-05-09 US US07/349,542 patent/US5246524A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-01 DE DE3917895A patent/DE3917895A1/de not_active Withdrawn
- 1989-06-05 KR KR1019890007801A patent/KR930001495B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2036562C2 (de) * | 1969-07-29 | 1986-11-27 | Texas Instruments Inc., Dallas, Tex. | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen |
DE2364790A1 (de) * | 1972-12-29 | 1974-07-04 | Ibm | Einrichtung zur herstellung und bearbeitung von werkstuecken |
DE2708954A1 (de) * | 1976-03-26 | 1977-10-06 | Ibm | Rechnergesteuertes system fuer die herstellung von integrierten schaltungen |
DE3425267A1 (de) * | 1983-07-19 | 1985-01-31 | Varian Associates, Inc., Palo Alto, Calif. | System zum transportieren und behandeln von duennen substraten wie platten oder wafer |
EP0242067A2 (de) * | 1986-04-17 | 1987-10-21 | Varian Associates, Inc. | System zum Behandeln von Plättchen |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0475435A1 (de) * | 1990-09-14 | 1992-03-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Halbleitersubstrat-Ätzgerät |
US5176783A (en) * | 1990-09-14 | 1993-01-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor substrate etching apparatus |
US6756598B2 (en) | 1999-12-22 | 2004-06-29 | Erwin Behr Automotive Gmbh | Unit for irradiating a workpiece with ultraviolet radiation |
WO2008061689A3 (de) * | 2006-11-20 | 2009-02-12 | Permatecs Gmbh | Produktionsanlage zur herstellung von solarzellen, inline-batch-umsetzeinrichtung, batch-inline-umsetzeinrichtung sowie das dazugehörige verfahren |
DE102006054846C5 (de) * | 2006-11-20 | 2012-05-03 | Permatecs Gmbh | Produktionsanlage zur Herstellung von Solarzellen im Inline-Verfahren, sowie Verfahren zur Integration eines Batch-Prozesses in eine mehrspurige Inline-Produktionsanlage für Solarzellen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR900000999A (ko) | 1990-01-31 |
JPH01308045A (ja) | 1989-12-12 |
KR930001495B1 (ko) | 1993-03-02 |
US5246524A (en) | 1993-09-21 |
JP2598305B2 (ja) | 1997-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3081343B1 (de) | Plattenaufteilanlage sowie verfahren zum aufteilen von plattenförmigen werkstücken | |
EP0117557B1 (de) | Werkstückpalette an Werkzeugmaschinen | |
DE19736685B4 (de) | Bondgerät | |
DE19654172A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Montieren von Bauteilen | |
DE112005003685B4 (de) | Vorrichtung zum Handhaben von Werkstücken | |
DE3917895A1 (de) | Halbleiterscheiben-verarbeitungssystem | |
EP2783768B1 (de) | Verfahren zum Entnehmen von Werkstücken aus einer Bearbeitungsmaschine sowie Bearbeitungsmaschine | |
EP1470747A1 (de) | Chipentnahmevorrichtung, bestücksystem und verfahren zum entnehmen von chips von einem wafer | |
DE4301585A1 (en) | Mounting device for plugging electronic components into PCB - has mounting stations to position PCB in Y direction and mounting head movable in X direction and component stores at each station | |
CH668734A5 (de) | Transporteinrichtung fuer eine fertigungsstrasse mit parallelgeschalteten bearbeitungsstationen. | |
DE102017121557B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Förderung und Positionierung von Werkstücken | |
WO2006079230A1 (de) | Verfahren zum laserschneiden von rohblechen und laserschneidemaschine zur durchführung des verfahrens | |
DE3911639A1 (de) | Verfahren und einrichtung zum programmgesteuerten laengs- und queraufteilen von werkstueckplatten | |
DE69014350T2 (de) | Verfahren für eine numerisch gesteuerte Drehbank zur Bearbeitung des verbleibenden Stangenmaterials. | |
DE3872429T2 (de) | Fertigungssystem mit einer schnellen vorrichtung zum zufuehren und positionieren mit rechteckiger bewegung. | |
DE69020103T2 (de) | Vorrichtung zum Laden und Abschneiden einer Halbleiterscheibe. | |
DE102013103123B4 (de) | Verfahren zum Entnehmen von Werkstücken aus einer Bearbeitungsmaschine sowie Bearbeitungsmaschine | |
EP0500525B1 (de) | Anordnung zum Bohren von Leiterplatten | |
EP3713727A1 (de) | Verfahren zum verarbeiten plattenförmiger werkstücke | |
DE3906485A1 (de) | Verfahren zur wiederherstellung einer waehrend eines elektrischen entladungsbearbeitungs-betriebs gebrochenen drahtelektrode | |
DE69116936T2 (de) | Verfahren zum Herstellen und Handhaben von aus Zuschnitten ausgestanzten Platten. | |
DE19723461B4 (de) | Verfahren zur Drehbearbeitung von Werkstücken | |
WO2009062524A1 (de) | Verfahren zum rüsten einer bestückvorrichtung | |
EP0150662A2 (de) | Einrichtung zum Be- und Entladen von Bearbeitungseinrichtungen für Leiterplatten, insbesondere Bauelemente-Bestückungseinrichtungen | |
DE102020115230A1 (de) | Verfahren zum Verarbeiten plattenförmiger Werkstücke |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |