DE3907670A1 - Vorrichtung und verfahren zur bestrahlung von chemischen substanzen und verbindungen - Google Patents
Vorrichtung und verfahren zur bestrahlung von chemischen substanzen und verbindungenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Bestrahlungsvorrichtung für
chemische Substanzen und Verbindungen, deren Verwendung
sowie ein Verfahren zum Bestrahlen von chemischen Substan
zen.
Die Desorption von in die gasförmige Phase überführbaren
Substanzen aus festen oder flüssigen Materialien mittels
heißer Spülmedien ist bekannt. Die desorbierten Verbindun
gen werden danach üblicherweise entweder in Wäschern aus
der fluiden Phase bzw. dem Spülmedium gewaschen oder auch
durch Kondensation direkt abgetrennt. Die so konzentrier
ten Schadstoffe werden, soweit sie nicht verwertet werden
können, dann entweder deponiert oder einer Verbrennung
zugeführt. Die desorbierten Verbindungen können aber auch,
wie in der DE-PS 27 33 344 beschrieben, einer Bestrahlung
zugeführt werden, wobei die Bestrahlungsvorrichtung analog
der DE-OS 34 22 553 ausgestaltet sein kann.
Konzentrierte Schadstoffe können auch bei Deponierung die
Umwelt gefährden und verschärft im übrigen den allgemeinen
Mangel an Deponieraum, was in den nächsten Jahren aller
Voraussicht nach zu weiter steigenden Deponiekosten führen
dürfte. Eine ordnungs- und sachgemäße Verbrennung von
Schadstoffen belastet zusätzlich die bereits knappen Ver
brennungskapazitäten und ist darüber hinaus mit techni
schen und ökologischen Problemen behaftet.
Da kleinere Betriebe mit einer sachgerechten und ökolo
gisch verträglichen Entsorgung von Schadstoffen alleine
gelassen werden, verzichten diese aufgrund wirtschaft
licher Erwägungen und mangels erschwinglicher Entsorgungs
anlagen zumeist auf eine Abluftreinigung.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Be
strahlungsvorrichtung und ein Verfahren zur Verfügung zu
stellen, mit dem mit Spülmedien aus festen oder flüssigen
Material extrahierte chemische Substanzen entsorgt werden
können.
Diese Aufgabe wird durch eine Bestrahlungsvorrichtung mit
den Merkmalen nach Anspruch 1 gelöst. Weitere bevorzugte
Ausführungsformen der Erfindung sind in den Unteran
sprüchen dargelegt.
Die Bestrahlungsvorrichtung besteht aus a) mindestens
einer Kammer für extrahierbares Material mit Zu- und Ab
leitungen für Spülmedien, b) mindestens einem bevorzugt
innenverspiegelten Reaktionsraum mit einer Bestrahlungs
einrichtung, und c) einem Spülmedienkreislauf, der Kammer
und Reaktionsraum verbindet.
Im Reaktionsraum ist dabei eine Bestrahlungseinrichtung
bevorzugt, die Licht zwischen 50 nm und 450 nm, insbeson
dere zwischen 185 nm und 300 nm, liefert. Weiter geeignet
sind auch Strahlungsquellen für sichtbares Licht, für
Röntgenstrahlung, oder für kurze elektromagnetische Wel
len, wie bspw. Mikrowellen.
Bei bevorzugten Ausführungsformen der Bestrahlungsvorrich
tung können ein oder mehrere der nachfolgenden Elemente im
Medienkreislauf zwischengeschaltet sein: Pumpen, Filter,
Partikelabscheider, Adsorptionsfilter, Trocknungsanlagen,
insbesondere Molekularsiebe, Wärmetauscher, insbesondere
Rekuperatoren, Ventile, insbesondere Beschickungs- und
Ablaßventile, Wartungsöffnungen, Strömungsmeßgeräte,
Stromzuführungen sowie fakultativ Fluidverteiler an den
Ein-/Auslässen zu Kammern und Reaktionsräumen
Der Reaktionsraum ist bevorzugt verspiegelt, um die Licht
ausbeute zu erhöhen und weist in einer bevorzugten Aus
führungsform zur Reflektion des Lichtes poliertes Alumi
nium auf. Ferner ist bevorzugt, wenn der Reaktionsraum ein
oder mehrere Drainageventile und fakultativ einen schiefen
Boden aufweist, damit sich Kondensate und Reaktionsproduk
te an einer Stelle im Sumpf sammeln können.
In einer weiteren Ausführungsform sind Fühler und Meßein
richtungen vorhanden, mit denen der Reaktionsverlauf und
die Reaktionsbedingungen kontrolliert und ggf. mit Hilfe
einer elektronischen Rechenanlage, bevorzugt eines Mikro
computers, gesteuert werden können.
Ferner wird ein Verfahren zum Bestrahlen von chemischen
Substanzen zur Verfügung gestellt, das folgende Schritte
aufweist: a) Durchleiten von Spülmedien durch flüssige
und/oder feste Materialien in einer Kammer; b) Einleiten
der mit chemischen Substanzen beladenen Spülmedien in
einen innenverspiegelten Reaktionsraum; c) Bestrahlen der
mit chemischen Substanzen beladenen Spülmedien im Reak
tionsraum; d) kreisläufiges Rückführen der Spülmedien in
die Kammer.
Das Bestrahlen der chemischen Substanzen bzw. der Schad
stoffe erfolgt bevorzugt mit Licht einer Wellenlänge zwi
schen 50 nm und 450 nm, wobei der Spektralbereich zwischen
185 nm und 300 nm besonders bevorzugt ist. Die chemischen
Substanzen können aber auch mit normalem Licht, elektroma
gnetischen Wellen, wie Mikrowellen, oder auch mit Röntgen
strahlung bestrahlt werden.
In einer weiteren Ausgestaltung des Verfahrens werden die
mit chemischen Substanzen beladenen Spülmedien durch Fil
ter und/oder andere Absoptionsvorrichtungen geschickt, wie
bspw. Calciumcarbonatfilter zur Absorption von Chlorwas
serstoff. Ferner hat es sich als vorteilhaft erwiesen,
wenn die mit chemischen Substanzen beladenen Spülmedien
durch Trocknungsanlagen, bspw. Molekularsiebe, wasserfrei
gemacht werden.
Besonders vorteilhaft ist es auch, wenn die vorstehend
beschriebene Bestrahlungsvorrichtung mit folgenden Bedin
gungen betrieben wird: a) Temperaturen unter 333 K für die
beladenen Spülmedien vor Eintritt in den Photoreaktions
raum, wobei Temperaturen zwischen 280 und 320 K besonders
bevorzugt sind und b) Betriebsdrücke unter 105 Pa, damit
u.a. die Desorption der chemischen Substanzen erleichtert
wird.
Es ist ferner vorteilhaft, wenn als Spülmedien Inertgase
verwendet werden. Gegebenenfalls können in einer weiteren
Ausführungsform den Spülmedien Substanzen zugesetzt werden,
die (unter Bestrahlung) besonders reaktionsfähig sind und
mit den Schadstoffen in den Spülmedien zu weniger gefähr
lichen Verbindungen abreagieren. Solche Stoffe können
bspw. besonders reaktionsfähige Gase sein, wie Sauerstoff
und Wasserstoff, oder auch photosensitiv wirksame Radikal
starter und Radikalbildner etc.
Die Vorrichtung ist besonders zum Entsorgen und/oder Wie
deraufbereiten von schadstoffbeladenen festen oder flüssi
gen Materialien geeignet, wie bspw. Adsorptionssubstanzen,
insbesondere Aktivkohlen, Lösungsmittel, insbesondere
organische Lösungsmittel. Solche mit chemischen Substanzen
beladenen Sorptionsmaterialien fallen bspw. in Anlagen zur
Luftfilterung und -reinigung an, mit denen unerwünschte
Spurenstoffe, wie Formaldehyd und halogenhaltige Lösungs
mittel, aus der Raumluft entfernt werden. Entsprechende
Anlagen zur Luftreinigung sind in Privathaushalten oder
Gewerbebetrieben installiert, wie z.B. Druckereien, Reini
gungen, metallverarbeitenden und anderen Betrieben, in denen
die Raumluft üblicherweise mit solchen gesundheitsschäd
lichen und Allergien auslösenden Stoffen belastet ist. Bei
den zur Adsorption geeigneten Flüssigkeiten handelt es
sich je nach der zu adsorbierenden Stoffgruppe zumeist um
organische Lösungsmittel, wie Mineralöl oder Glykol, oder
auch um wäßrige Lösungen anorganischer und organischer
Substanzen.
Die vorstehend beschriebene Vorrichtung und das Verfahren
können insbesondere dazu verwendet werden, um photoche
misch beeinflußbare Schadstoffe, wie bspw. aromatische und
aliphatische Kohlenwasserstoffe, insbesondere halogenierte
Kohlenwasserstoffe, Cyanate, Isocyanate, Amine, Aldehyde
wie Formaldehyd, Atrazin und metallorganische Verbindungen
zu vernichten bzw. photochemisch in weniger gefährliche
Substanzen zu entsorgen.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird in vorteilhafter Weise
so durchgeführt, daß schadstoffbehaftete feste oder flüs
sige Materialien, wie Aktivkohle oder Lösungsmittel, in
eine geschlossene Vorrichtung eingebracht werden, in der
ein heißes Fluid als Spülmedium die festen oder flüssigen
(Sorptions)-Materialien extrahiert. Die desorbierten
Substanzen werden dann zusammen mit den Spülmedien der
Bestrahlungskammer zugeführt, wo diese entsprechend
behandelt werden. Die photolytisch umgewandelten Substan
zen werden dabei zumindest teilweise vom Spülmedium abge
trennt, welches im geschlossenen Kreislauf der Extrak
tionskammer mit den festen oder flüssigen Sorptionsmater
ialien zugeführt wird und erneut die zu desorbierenden
Materialien durchspült.
Beim Spülvorgang wird jedoch das in den festen oder flüs
sigen Sorptionsmaterialien enthaltene Wasser ebenfalls mit
ausgetrieben. Dieses Wasser kann zusammen mit dem ggf. bei
der Reaktion entstehenden Wasser zu unerwünschten (Ne
ben)-Reaktionen führen. Es ist daher vorteilhaft, wenn das
Wasser durch eine Trocknungsanlage, wie z.B. ein Moleku
larsieb, entfernt wird.
Andere gasförmige Verbindungen und Substanzen, wie z.B.
Chlorwasserstoff, die bei den Umwandlungen ggf. freige
setzt werden, können durch geeignete chemische Filter, im
Falle von Chlorwasserstoff beispielsweise durch Calcium
carbonatfilter, gebunden werden.
Atmosphärische Gase, insbesondere Sauerstoff und Stick
stoff, können in manchen Fällen die photolytische Umwand
lung der desorbierten chemischen Substanzen in unerwünsch
ter Weise beeinflussen; es ist daher vorteilhaft, diese ggf.
durch Inertgase, wie z.B. Argon oder andere Edelgase, zu
ersetzen. Stäube können gleichfalls die Quantenausbeute
verringern und werden daher bevorzugt durch Partikelfilter
aus dem Spülmediumkreislauf entfernt.
Zur Erleichterung der Desorption wird die Apparatur vor
zugsweise im Bereich unter 105 Pa gefahren. Der Reaktions
raum ist zur Erhöhung der Reaktionswahrscheinlichkeit
innen verspiegelt. Die Verspiegelung erfolgt durch be
schichtete Aluminiumreflektoren, die bei 250 nm ein Re
flektionsvermögen von wenigstens 70% aufweisen. Poliertes
beschichtetes Aluminium ist resistent gegen viele chemi
sche Stoffe und leicht zu reinigen. Sinkt der Wirkungsgrad
der Reflektoren zu sehr ab, werden diese ausgetauscht.
Die Leistungsabgabe der Bestrahlungsquellen muß der Aus
legung der Apparatur angepaßt sein. Um ein breites Wir
kungsspektrum zu erreichen, können die UV-Quellen aus
Quecksilbernieder- und hochdrucklampen bestehen; dadurch
wird ein erheblicher Teil der eingesetzten Energie im
Spektralbereich von 185 nm bis 300 nm frei.Es können auch
entsprechende Laser eingesetzt sein. Je nach Ausführung
der Apparatur können die UV-Quellen direkt durch den Spül
gasstrom gekühlt werden, oder, wenn dessen Temperatur in
Abhängigkeit von den ablaufenden Reaktionen zu hoch
steigt, als Tauchlampen mit Stickstoffkühlung ausgeführt
werden. In diesem Falle ist die Verwendung von Quarzrohren
zur Aufnahme der Lampen unerläßlich. Pro 1 kW eingesetzter
elektrischer Leistung werden bei den Niederdrucklampen pro
Sekunde 5 x 1020 Quanten (dem entsprechen 3 Molquanten/h)
im interessierenden Wellenlängenbereich freigesetzt, bei
den Hochdrucklampen etwa 2 x 1020 Quanten (entsprechend
1,2 Molquanten/h) pro Sekunde. Die tatsächliche Quantenaus
beute hängt von der Art der ablaufenden photochemischen
Primär- und Sekundärreaktionen ab und kann ggf. deutlich
über 1 liegen. Die Temperaturführung erfolgt bevorzugt
durch rekuperativen Wärmetausch, durch gezielte Dosierung
der Reaktionspartner oder auch durch Veränderung der Lam
penleistung. Das ggf. entstehende Kondensat im Reaktions
raum wird vorteilhafterweise durch ein Drainageventil im
Boden des Reaktionsraums abgeleitet.
Die mit der Erfindung erzielbaren Vorteile bestehen insbe
sondere darin, daß aus festen oder flüssigen Materialien
desorbierte Substanzen in der Anlage zu weniger gefähr
lichen oder ungefährlichen Materialien umgewandelt werden
können. Die Vorrichtung ist also geeignet, um chemische
Verbindungen durch photochemische Umwandlungen in er
wünschte oder weniger gefährliche Substanzen und Stoffe
umzuwandeln.
Das nachstehende Ausführungsbeispiel soll in Verbindung
mit der aus einer Figur bestehenden Zeichnung und den
verschiedenen Verwendungsformen die Erfindung näher er
läutern. Die Ausführungsbeispiele dienen dabei lediglich
zur Erläuterung und sollen die Erfindung nicht beschrän
ken.
Die Bestrahlungsvorrichtung besteht aus einem Bestrah
lungsraum 1 und einer Extraktionskammer 7 mit festen oder
flüssigen zu regenerierenden Sorptionsmaterialien 8, wie
Aktivkohlen oder Lösungsmitteln, die in die Strömungsphase
überführbare Substanzen, wie beispielsweise Kohlenwasser
stoffe, adsorbiert enthalten. Diese Substanzen werden
durch Spülmedien desorbiert und dem Reaktionsraum 1 zuge
führt. Durch Verspiegelung 2 des Reaktionsraumes 1 wird
die Reaktionswahrscheinlichkeit erhöht. Die Temperatur
führung wird auf dreifache Weise kontrolliert, a) durch
rekuperativen Wärmetausch 4 und 11, b) durch gezielte
Dosierung der Reaktionspartner sowie c) durch Veränderung
der Lampenleistung.
Zur Senkung des Wasserdampfgehaltes der fluiden Phase
dient eine Trocknungsanlage 12, z.B. ein Molekularsieb. Es
sind ferner verschiedene Hilfseinrichtungen 6, 10 a und 13
vorhanden, die beim Anfahren und bei der Außerbetriebnahme
der Apparatur benötigt werden.
Das innenverspiegelte 2 Reaktionsgefäß 1 mit einem Volumen
von 1,8 m3 umschließt die Strahlungsquellen 3, die vom
jeweiligen Fluid, z.B. schadstoffbeladenem Argon, umflos
sen werden, das sich dabei erwärmt. Zufuhr und Abfuhr der
Fluide erfolgt über spezielle, die Fluide gleichmäßig
verteilende Bauelemente 1 a. Das bestrahlte Fluid kann
durch rekuperativen Wärmetausch 4 je nach Bedarf erwärmt
oder abgekühlt werden. Auf der Abströmseite dieser Zone
sitzen Filter 5, die sowohl bestimmte Reaktionsprodukte,
z.B. Chlorwasserstoff, als auch Stäube aus den Spülmedien
entfernen können. Über die Rohrleitung 6 können unbelade
nes Spülmedium und andere Stoffe, z.B. Reaktionspartner,
zugeführt werden. Das aus Filter 5 ausströmende Fluid wird
über das Element 7 a in die Kammer 7 (Volumen etwa 0,35 m )
mit den beladenen festen oder flüssigen Materialien 8,
z.B. Aktivkohlen oder Lösungsmitteln, zugeführt und durch
strömt diese. Das beladene Fluid wird dann über das Fil
ter 9 (Partikelabscheider), die Pumpe 10 und die Trock
nungsanlage 12 (Molekularsieb) wieder dem Reaktionsraum 1
zugeführt. Der Betriebsdruck liegt vorzugsweise unter 105
Pa, um die Desorption der adsorbierten Substanzen und
Verbindungen zu erleichtern. Die Kühlung 11 senkt im Be
darfsfalle die Temperatur der fluiden Phase vor Eintritt
in den Reaktionsraum 1 auf unter 333 K, idealerweise auf
Temperaturen um 300 K. Der Boden des Reaktionsraumes 1 ist
in etwa 3° bis 8°, vorzugsweise 5°, geneigt und als Spie
gelfläche ausgestaltet; das Kondensat, das sich bei be
stimmten Betriebszuständen, wie etwa dem Abfahren der
Anlage, bildet, wird zum Sumpf 13 mit dem Drainageventil
geleitet, wo es abgezogen werden kann. Die Rohrleitung
10 a hat die Aufgabe, im Bedarfsfalle vor dem Anfahren der
Apparatur mittels der Pumpe 10 atmosphärische Gase, ins
besondere Sauerstoff und Stickstoff, aus der Apparatur
abzuführen.
Hilfseinrichtungen, wie z.B. Temperaturfühler, Strömungs
meßgeräte, Stromzuführungen, Wartungsöffnungen, Bedie
nungselemente, Nebenanlagen im Zusammenhang mit den Ven
tilen 6, 10 a und 13 und Vorrichtungen zur Analyse des
jeweiligen Spülmediums und zur Kontrolle der UV-Quellen
sind im Rahmen des dem Fachmann geläufigen Wissens ein
setzbar.
In ein Gefäß 7 mit einem Volumen von 350 l wurden 80 kg
einer verbrauchten Filteraktivkohle, die als hauptsäch
liche Verunreinigung 50 Mol Formaldehyd enthielt, einge
bracht. Dieses Material wurde mit Argon, dessen Temperatur
sich im stätionären Zustand bei einem Druck von 8 x 104
Pa auf etwa 325 K einstellt, durchspült. Die Desorption
erfolgte über einen Zeitraumes von circa 130 bis 160 Minu
ten, wobei das Desorptionsfluid im Kreislauf geführt wur
de. Der Filter 5 und die Trocknungsanlage 12 wurden bei
diesem Schadstoff durch einen by-pass überbrückt. Die
Strahlungsquellen waren Quecksilberniederdrucklampen, die
zusammen eine Leistung von 7,0 kW besaßen. Die Gesamt
strahlungsintensität lag bei 21 Molquanten/h. Abhängig von
der desorbierten Menge Formaldehyd wurden nach und nach 50
Mol Sauerstoff dem Argon zugefügt, um in einer kontrol
lierten Reaktion das Formaldehyd zu Wasser und Kohlen
dioxid abreagieren zu lassen.
Selbstverständlich ist die Erfindung nicht auf die hier
beschriebenen und erläuterten Ausführungsformen begrenzt,
die lediglich die Erläuterung einer vorteilhaften Art der
Verwirklichung der Erfindung darstellen und Modifikationen
in Form, Größe, Anordnungen von Teilen und Betriebedetails
unterworfen sein können. Die Erfindung soll derartige
Abänderungen umfassen.
Bezugszeichenliste
1 Reaktionsgefäß, Bestrahlungskammer, Reaktionsraum
1 a Fluidverteiler
2 Innenverspiegelung
3 Bestrahlungseinrichtung, Strahlungsquelle (UV-Quelle)
4 Wärmeaustauscher (Rekuperator)
5 Filter
6 Ventil
7 Kammer, Extraktions-, Desorptionsraum
7 a Fluidverteiler
8 festes oder flüssiges Material
9 Filter, Partikelabscheider
10 Pumpe
10 a Ventil
11 Wärmeaustauscher (Rekuperator)
12 Trocknungsanlage
13 Drainageventil zum Abfluß
1 a Fluidverteiler
2 Innenverspiegelung
3 Bestrahlungseinrichtung, Strahlungsquelle (UV-Quelle)
4 Wärmeaustauscher (Rekuperator)
5 Filter
6 Ventil
7 Kammer, Extraktions-, Desorptionsraum
7 a Fluidverteiler
8 festes oder flüssiges Material
9 Filter, Partikelabscheider
10 Pumpe
10 a Ventil
11 Wärmeaustauscher (Rekuperator)
12 Trocknungsanlage
13 Drainageventil zum Abfluß
Claims (13)
1. Vorrichtung zum Bestrahlen von chemischen Substanzen
und Verbindungen, gekennzeichnet durch
- a) mindestens eine Kammer (7) für extrahierbares Material mit Zu- und Ableitungen für Fluide,
- b) einen bevorzugt innenverspiegelten Reaktionsraum (1) mit einer Bestrahlungseinrichtung (3), und
- c) einen Fluidkreislauf, der Kammer (7) und Reaktionsraum (1) verbindet.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Bestrahlungseinrichtung (3) Licht mit einer Wel
lenlänge zwischen 50 nm und 450 nm und bevorzugt zwischen
185 nm und 300 nm aussendet.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Vorrichtung ggf. Pumpen (10),
Filter (5, 9), Partikelabscheider (9), Absorptionsfil
ter (5), insbesondere Calciumcarbonatfilter, Trocknungsan
lagen (I 12),insbesondere Molekularsiebe, Wärmetauscher
(4, 11), insbesondere Rekuperatoren, Ventile (6, 10 a, 13),
insbesondere Beschickungs-und Ablaßventile, Wartungsöff
nungen, Strömungsmeßgeräte, Stromzuführungen, Fluidvertei
ler (1 a, 7 a) aufweist.
4. Verfahren zum Bestrahlen von chemischen Substanzen
und Verbindungen gekennzeichnet durch folgende Schritte:
- a) Durchleiten von Fluiden durch flüssige und/oder feste Materialien (8) in einer Kammer (7),
- b) Einleiten des Fluids in einen innenverspiegelten Reak tionsraum (1),
- c) Bestrahlen des eingeleiteten Fluids im Reaktionsraum (1) mit Licht, und
- d) Rückführen mindestens eines Teils des Fluids in die Kammer (7).
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die Bestrahlung mit Licht einer Wellenlänge zwischen 50 nm
und 450 nm, bevorzugt zwischen 185 nm und 300 nm, durchge
führt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 und 5, dadurch
gekennzeichnet, daß das mit chemischen Substanzen beladene
Fluid durch Filter (5, 9, 12) geschickt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das Fluid vor Eintritt in den Reak
tionsraum (1) gekühlt wird, bevorzugt auf Temperaturen
unter 333 K und besonders bevorzugt auf Temperaturen zwi
schen 280 und 320 K.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß der Betriebsdruck unter 105 Pa liegt.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß als Fluid Inertgase eingesetzt werden,
bevorzugt CO2, N2, Argon.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß dem Fluid reaktionsfähige Substanzen
zugesetzt werden.
11. Verwendung der Vorrichtung zum Entsorgen und/oder
Wiederaufbereiten von schadstoffbehafteten festen oder
flüssigen Materialien.
12. Verwendung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die aufzubereiteten Materialien ausgewählt sind aus:
Adsorptionssubstanzen, insbesondere Aktivkohlen, Lösungs
mitteln, insbesondere organischen und wäßrigen Lösungs
mitteln.
13. Verwendung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Schadstoffe aromatische und aliphatische
Kohlenwasserstoffe, insbesondere halogenierte Kohlenwas
serstoffe, Cyanate, Isocyanate, Amine, Aldehyde wie Form
aldehyd, Atrazin, metallorganische Verbindungen sind.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19893907670 DE3907670A1 (de) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | Vorrichtung und verfahren zur bestrahlung von chemischen substanzen und verbindungen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19893907670 DE3907670A1 (de) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | Vorrichtung und verfahren zur bestrahlung von chemischen substanzen und verbindungen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3907670A1 true DE3907670A1 (de) | 1990-09-13 |
| DE3907670C2 DE3907670C2 (de) | 1991-06-20 |
Family
ID=6375940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19893907670 Granted DE3907670A1 (de) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | Vorrichtung und verfahren zur bestrahlung von chemischen substanzen und verbindungen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE3907670A1 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993016761A1 (en) * | 1992-02-27 | 1993-09-02 | Process Technologies, Incorporated | Method and apparatus for use in photochemically oxidizing gaseous halogenated organic compounds |
| US5397552A (en) * | 1992-02-27 | 1995-03-14 | Process Technologies, Inc. | Method and apparatus for use in photochemically oxidizing gaseous organic compounds |
Families Citing this family (2)
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|---|---|---|---|---|
| DE4410747A1 (de) * | 1994-03-28 | 1995-10-05 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zum Entsorgen einer Lösung, die eine organische Säure enthält |
| US5958247A (en) * | 1994-03-28 | 1999-09-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for disposing of a solution containing an organic acid |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3006886C2 (de) * | 1979-02-28 | 1982-04-08 | Asahi-Dow Ltd., Tokyo | Verfahren zur Behandlung von Systemen, die Schadstoffe und/oder schädliche Organismen enthalten, durch Einwirkung von sichtbarem Licht in Gegenwart von Sauerstoff, und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| US4780287A (en) * | 1984-07-03 | 1988-10-25 | Ultrox International | Decomposition of volatile organic halogenated compounds contained in gases |
-
1989
- 1989-03-09 DE DE19893907670 patent/DE3907670A1/de active Granted
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| WO1993016761A1 (en) * | 1992-02-27 | 1993-09-02 | Process Technologies, Incorporated | Method and apparatus for use in photochemically oxidizing gaseous halogenated organic compounds |
| US5374404A (en) * | 1992-02-27 | 1994-12-20 | Process Technologies, Incorporated | Method and apparatus for use in photochemically oxidizing gaseous halogenated organic compounds |
| US5397552A (en) * | 1992-02-27 | 1995-03-14 | Process Technologies, Inc. | Method and apparatus for use in photochemically oxidizing gaseous organic compounds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3907670C2 (de) | 1991-06-20 |
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