DE3833091A1 - Piezoelektrische mikro-positioniereinrichtung - Google Patents
Piezoelektrische mikro-positioniereinrichtungInfo
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- G12—INSTRUMENT DETAILS
- G12B—CONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G12B5/00—Adjusting position or attitude, e.g. level, of instruments or other apparatus, or of parts thereof; Compensating for the effects of tilting or acceleration, e.g. for optical apparatus
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine piezoelektrische Mikro-
Positioniereinrichtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Auf bestimmten Gebieten der Technik werden zunehmend
hochpräzise Positioniereinrichtungen mit Stellwegen von wenigen
µm bei niedrigen Stellkräften ( < 1N) benötigt, die eine kleine
Bauform, große mechanische Robustheit und elektronische
Regelbarkeit besitzen müssen.
Nach dem derzeitigen Stand der Technik werden entweder rein
mechanische, nicht - oder nur sehr aufwendig - regelbare
Positionierer oder piezokeramische Stellglieder, die wegen
ihrer notwendigen hohen Steuerspannung von mehreren 100 V teure
elektronische Ansteuerung benötigen, benutzt. Desweiteren sind
auch Bimetall-Anordnungen bekannt, die allerdings eine große
Ansprechzeit, einen hohen Stromverbrauch und eine starke
Temperaturabhängigkeit besitzen sowie eine unerwünschte Wärme
quelle darstellen. Desweiteren weisen Bimetall-Anordnungen
in aller Regel eine Restauslenkung (Hysterese) auf.
Die bekannten Positionierer eignen sich aufgrund ihrer Größe
und Verbindungstechnik wenig für mikromechanische Anwendungen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Positionier
einrichtung der eingangs genannten Art und gemäß dem Oberbe
griff des Patentanspruchs 1 zu schaffen, die bei einfachem
und damit kostengünstigem Aufbau eine hochpräzise Mikro-Posi
tionierung mit geringen Stellkräften ( < 1N) ermöglicht, kleine
Abmessungen aufweist und elektronisch angesteuert und geregelt
werden kann.
Im folgenden wird die Erfindung anhand mehrerer Figuren im
einzelnen beschrieben, wobei die Figuren jeweils bevorzugte
Ausführungsbeispiele verschiedener Lösungsmöglichkeiten gemäß
der Erfindung betreffen.
Fig. 1 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer Positionierein
richtung für eine longitudinale Auslenkung.
Fig. 2 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer Posi
tioniereinrichtung für eine Biegeauslenkung senkrecht zur
Stack-Fläche.
Fig. 3 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel einer Posi
tioniereinrichtung für eine Biegeauslenkung senkrecht zur
Stack-Fläche.
Fig. 4 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer Positionier
einrichtung für eine Biegeauslenkung parallel zur Stack-Fläche.
Fig. 5 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel einer Posi
tioniereinrichtung für eine Biegeauslenkung parallel zur
Stack-Fläche.
Fig. 6 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer Positioniereinrich
tung für eine mehrdimensionale Positionierung.
Fig. 7 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer Positioniereinrich
tung für eine mehrdimensionale Positionierung mit zusätzlicher
Drehwinkelfeinpositionierungs-Möglichkeit.
Fig. 8 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer Positioniereinrich
tung gemäß Fig. 6, wobei zusätzlich eine optische Positions
kontrolleinrichtung vorgesehen ist.
Fig. 9 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer Positionier
einrichtung mit einem Kompensations-Dehnungsmeßstreifen DMS.
Fig. 10 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel einer Positio
niereinrichtung mit einem Kompensations-Dehnungsmeßstreifen DMS.
Die Mikro-Positioniereinrichtung, bestehend aus einer Halterung
und einem oder mehreren piezoelektrischen Positionierelementen,
ist dadurch gekennzeichnet, daß
- - die Positionierelemente monolithische Vielschicht-Piezostacks sind, bei denen die Dicke einer Schicht so gewählt ist, daß die erforderlichen Auslenkungen und Stellkräfte mit Spannungen unter 42 V, sinnvollerweise aber unter 18 V (IC-Speisespannung), erreicht werden, wodurch sich Dicken von unter 80 µm ergeben und bei denen die Zahl der Piezoschicht zwischen 4 und 36 liegt,
- - der mechanische Träger eine nichtleitende Oberfläche besitzt und bei Bedarf auch photolithographisch strukturierbar ausge führt werden kann,
- - sich die notwendigen elektronischen Schaltungen in Dickschicht- Hybrid-Technologie auf dem Träger befindet und elektrische An schlüsse vorhanden sind,
- - ein Ende des Piezostacks mit dem Träger fest verbunden ist und ein Ende oder eine Ecke für die Befestigung des zu positionier enden Bauteils vorgesehen ist,
- - die Piezostacks im wesentlichen parallel zur Trägeroberfläche ausgerichtet sind und
- - die für die Piezostacks und die elektronische Miniaturhybrid schaltung benötigte Flächen des Trägers kleiner als 20 cm2 ist.
Mit einer optischen Positionskontrolle ist eine Linearisierung
möglich. Hierzu werden mindestens eine Lichtquelle, die ent
weder auf dem Träger oder dem piezokeramischen Positionierele
ment angebracht wird oder bei Glasfaserpositionierungen als
speisende Lichtquelle vorhanden ist und mindestens drei Photo
detektoren benötigt, die in geeigneter Weise gegenüber der
Lichtquelle angeordnet werden, so daß aus der detektierten
Lichtmenge die Auslenkung bestimmt werden kann.
Mit Dehnungsmeßstreifen ist eine absolute Messung und damit
eine Linearisierung der Position sowie eine Positionsregelung
möglich. Für die eindimensionale Längenänderung benötigt man
hierzu mindestens einen DMS sowie einen Temperaturkompensa
tions-DMS. Da Biegungen, die Stellkräfte erfordern, einen Ver
lauf der Auslenkung entsprechend einer Potenzfunktion dritter
Ordnung besitzen, benötigt man zur Bestimmung der Biegeaus
lenkung mindestens vier OMS sowie einen Kompensations-OMS.
Mit diesen sind dann durch entsprechende Beschaltung Biege
auslenkung und Längenänderung gleichzeitig bestimmbar.
Die aus den Funktionsteilen und einem Objekthalter bestehende
Funktionseinheit kann auch nichtparallel zu dem Träger durch
zwei Abstandshalter gleicher Höhe gehalten sein.
Zur Erfassung einer Auslenkung in der dritten Dimension kann
ein weiterer Dehnungsmeßstreifen DMS vorgesehen sein.
Claims (17)
1. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung, dadurch ge
kennzeichnet, daß ein aus zumindest einem
piezoelektrischen Positionierelement bestehendes, vorzugsweise
rechteckig blattförmig ausgebildetes, über Steueranschlüsse
(3 a, 3 b, 3 c) elektrisch über eine Kontaktfläche elektrisch
ansteuerbares Funktionsteil (3) vorgesehen ist, das an
zumindest einem seiner Enden an einem auf einer elektrisch
nichtleitenden Oberfläche eines Trägers (1) angeordneten
Abstandshalter (2) derart befestigt ist, daß die Oberfläche
des Trägers (1) und die dem Träger (1) zugewandte Oberfläche
des Funktionsteils (3) im wesentlichen planparallel liegen,
und das mit seinem anderen Ende oder einer Ecke an einem zu
positionierenden Bauteil einer betreffenden Einrichtung
befestigbar ist, daß die Schichtdicke der in einem Schicht
verbund enthaltenen piezoelektrischen Positionierelemente derart
gewählt ist, daß die erforderliche Auslenkung und die erforder
liche Stellkraft zum Positionieren mit einer Ansteuerspannung < 42 V,
vorzugsweise < 18 V, erreicht werden, und daß für die
Ansteuerung erforderliche elektronische Schaltkreise oder
Schaltelemente mit den erforderlichen Anschlußelementen in
Dickschicht-Hybrid-Technologie auf dem Träger (1) ausgebildet
sind.
2. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die
elektrisch nichtleitende Oberfläche des Trägers (1) aus einem
auf photolithographischem Wege strukturierbaren Material
besteht.
3. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Schichtdicke < 80 µm beträgt und daß die Anzahl von zu dem
Funktionsteil (3) übereinandergeschichteten Positionier
elementen größer vier ist.
4. Piezoelektrische Mikro-Positionierung nach einem der
Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß das nicht
an dem Abstandshalter (2) befestigte Ende des Funktionsteils
(3) mittels einer an dem Träger befestigten Feder (4) derart
elastisch gehalten wird, daß eine die im wesentlichen vorgesehene
Planparallelität von Träger (1) und Funktionsteil (3) aufhebende
Auslenkung des Funktionsteils (3) behindert und eine longitudinale,
zur Oberfläche des Trägers (1) parallelverlaufende Auslenkung des
selben bewirkt wird (Fig. 1).
5. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach einem
der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß das nicht
an dem Abstandshalter (2) befestigte Ende des Funktionsteils (3)
frei beweglich ist, so daß eine Biegeauslenkung in der einen
oder der anderen Richtung senkrecht zu der Oberfläche des
Trägers (1) bewirkt werden kann (Fig. 2).
6. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach einem
der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß das
Funktionsteil (3) eine im wesentlichen quadratische Form hat und
daß drei der vier Ecken des Funktionsteils (3) an einem jeweils
zugeordneten Abstandshalter (2 a, 2 b, 2 c) befestigt sind und die
vierte Ecke frei beweglich ist, so daß eine Biegeauslenkung der
vierten Ecke in der einen oder der anderen Richtung senkrecht
zu der Oberfläche des Trägers (1) bewirkt werden kann (Fig. 3).
7. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach einem
der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Kontaktfläche in zwei getrennt voneinander ansteuerbare Teil-
Kontaktflächen (5 a, 5 b) unterteilt ist, mittels derer bei ent
sprechender Ansteuerung eine Biegeauslenkung des Funktionsteils (3)
in der einen oder der anderen Richtung parallel zu der Ober
fläche des Trägers (1) bewirkt werden kann (Fig. 4).
8. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine mit ihrem einen Ende in einem Lagerblock (7) verankerte
und mit ihrem anderen Ende mit dem nicht an dem Abstandshalter (2)
befestigten Ende des Funktionsteils (3) verbundene Feder (6) vorge
sehen ist, die eine Biegung des Funktionsteils (3) in einer Richtung
senkrecht zu der Oberfläche des Trägers (1) behindert (Fig. 4).
9. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine in dem Träger (1) verankerte, senkrecht stehende und
koaxial mit dem Funktionsteil (3) orientierte Blattfeder (6 a)
als Auflager für das nicht an dem Abstandshalter (2) befestigte
Ende des Funktionsteils (3) vorgesehen ist, die eine Biegung
des Funktionsteils (3) in einer Richtung senkrecht zu der Ober
fläche des Trägers (1) behindert (Fig. 5).
10. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß zwei Ab
standshalter (10 a, 10 b) vorgesehen sind, an denen jeweils ein
Ende des Funktionsteils (3) befestigt ist, daß die Kontaktfläche
in vier getrennt voneinander ansteuerbare Teil-Kontaktflächen
(9 a, 9 b, 9 c, 9 d) unterteilt ist, mittels derer bei entsprechen
der Ansteuerung eine Positionierung in allen Dimensionen bewirkt
werden kann, und daß ein Stützteil (11) auf dem Träger (1) ange
ordnet ist, mit dem ein durch das Funktionsteil (3) zu posi
tionierendes Objekt (12), beispielsweise eine Glasfaser eines
Lichtwellenleiterkabels, abstützbar ist (Fig. 6).
11. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß ein erster Ab
standshalter (2 1) mit einem daran befestigtem ersten Funktions
teil (3 1) und ein zweiter Abstandshalter (2 2) mit einem daran be
festigten zweiten Funktionsteil (3 2) in einer Anordnung vorge
sehen sind, bei der sich die jeweils freien Enden der zwei
mit verschiedenen Abständen von der Oberfläche des Trägers (1)
angeordneten und vertikal in Flucht miteinander ausgerichteten
Funktionsteile (3 1, 32) überlappen, und daß in dem Bereich der
Überlappung eine das Objekt (12) aufnehmende Halterung zwischen
den freien Enden angeordnet ist, so daß durch entsprechende An
steuerung der Funktionsteile (3 1, 32) zusätzlich zur der
Positionierung des Objekts (12) in allen Dimensionen eine Dreh
winkel-Feinpositionierung desselben durch Drehung um einen
Drehwinkel (ρ) durchführbar ist, wobei der Drehwinkel (ρ) durch
die Beziehung
bestimmt ist, mit x 1 bzw. x 2= Dehnungsbetrag des ersten bzw.
des zweiten Funktionsteils (3 1 bzw. 32) und a= Abstand zwischen
den freien Enden derselben in dem Überlappungsbereich (Fig. 7).
12. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die Funktions
einheit, bestehend aus den Funktionsteilen (3 1, 32) und einem
Objekthalter (13) nichtparallel zu dem Träger (1) von zwei
Abstandshaltern gleicher Höhe gehalten ist.
13. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß eine optisch
arbeitende Positionskontrolleinrichtung (14 a, 14 b, 14 c, 15, 16) mit
vorzugsweise drei um 120° gegeneinander versetzt angeordneten,
dicht an den Umfang des Objekts (12) anlegbaren Photodetektoren
(14 a, 14 b, 14 c), einer Lichtquelle (15), die vorzugsweise als
Licht emittierende Diode LED realisiert ist, und einer Halterung
(16) für die Lichtquelle (15) vorgesehen ist, wobei die Licht
quelle koaxial mit dem Objekt (12) in dessen Sollposition
orientiert ist, so daß durch Verarbeitung der Ausgangssignale der
Photodetektoren, die die jeweils einfallende Lichtmenge reprä
sentieren, die Istposition des Objekts (12) erkennbar ist, und
daß die Istposition betreffende Daten zur Nachregelung der Ist
position in die Sollposition benutzt werden (Fig. 8).
14. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach einem
der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß zum Zwecke
einer absoluten Messung einer eindimensionalen Längenänderung
des Funktionsteils (3, 3′) und damit einer Linearisierung der
Positonierung zumindest ein Dehnungsmeßstreifen DMS auf einer
der Oberflächen des Funktionsteils angeordnet ist, dessen die
Längenänderung repräsentierendes Ausgangssignal zu einer Nach
regelung benutzt wird.
15. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet, daß
zusätzlich ein Temperatur-Kompensations-Dehnungsmaßstreifen auf
dem Funktionsteil angeordnet ist, dessen Ausgangssignal zusammen
mit demjenigen des Dehnungsmeßstreifens DMS zu einer
Nachregelung benutzt wird (Fig. 9, Fig. 10).
16. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach An
spruch 14 oder 15,
dadurch gekennzeichnet, daß zumindest
vier Dehnungsmeßstreifen DMS in derart vorbestimmten Positionen
auf der oberen und der unteren Oberfläche des Funktionsteils
(3, 3′) zur Bestimmung der Biegeauslenkung desselben angeordnet
sind, daß eine absolute Positionierung in zwei Dimensionen vor
genommen werden kann.
17. Piezoelektrische Mikro-Positioniereinrichtung nach einem
der Ansprüche 14 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, daß zumindest
ein weiterer Dehnungsmeßstreifen DMS zum Erfassen einer Aus
lenkung in der dritten Dimension vorgesehen ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19883833091 DE3833091A1 (de) | 1988-09-29 | 1988-09-29 | Piezoelektrische mikro-positioniereinrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19883833091 DE3833091A1 (de) | 1988-09-29 | 1988-09-29 | Piezoelektrische mikro-positioniereinrichtung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3833091A1 true DE3833091A1 (de) | 1990-04-05 |
Family
ID=6363985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19883833091 Withdrawn DE3833091A1 (de) | 1988-09-29 | 1988-09-29 | Piezoelektrische mikro-positioniereinrichtung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3833091A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4201937A1 (de) * | 1991-01-25 | 1992-07-30 | Murata Manufacturing Co | Piezoelektrisches laminiertes stellglied |
DE4223841A1 (de) * | 1992-07-20 | 1994-01-27 | Ems Technik Gmbh | Justiervorrichtung |
DE4307974C1 (de) * | 1993-03-15 | 1994-08-25 | Piezosystem Jena Praezisionsju | Vorrichtung zur hochgenauen Drehung rotationssymmetrischer Bauteile, insbesondere von Lichtwellenleitern |
DE19517204A1 (de) * | 1995-05-11 | 1996-11-14 | Karlsruhe Forschzent | Mikromechanischer Aktor |
-
1988
- 1988-09-29 DE DE19883833091 patent/DE3833091A1/de not_active Withdrawn
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE19517204A1 (de) * | 1995-05-11 | 1996-11-14 | Karlsruhe Forschzent | Mikromechanischer Aktor |
DE19549353A1 (de) * | 1995-05-11 | 1996-11-21 | Karlsruhe Forschzent | Mikromechanischer Aktor |
DE19549353C2 (de) * | 1995-05-11 | 1998-05-07 | Karlsruhe Forschzent | Mikromechanischer Aktor |
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Legal Events
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---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |