DE3825782A1 - Verfahren zur herstellung eines trockenfilm-photoresists - Google Patents

Verfahren zur herstellung eines trockenfilm-photoresists

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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Trockenfilm-Photoresists, die zur Ver­ wendung bei der Fertigung von Platten mit gedruckten Schaltungen (Leiterkarten) geeignet sind.
Bei der Fertigung einer Leiterkarte ist es wohlbekannt, Trockenfilm-Photoresists dadurch herzustellen, daß eine photopolymerisierbare Zusammensetzung auf eine biegsame Polymer-Trägerfolie, etwa eine Polyester-Folie von 23,4 µm (92 gauge), aufgetragen wird und die beschich­ tete Folie auf eine schützende entfernbare Polymer-Deck­ folie (typischerweise eine Folie von 25,4 µm (100 gauge) aus einem Polyethylen niederer Dichte (LDPE)) laminiert wird. Das fertige Produkt wird dann auf eine Rolle ge­ wickelt, so daß sich die Trägerfolie auf der Außenseite und die Deckfolie auf der Innenseite der Rolle befinden. Bei diesen bekannten Photoresists, wie sie beispiels­ weise in den US-PSen 34 69 982, 35 26 504 und 36 15 435 und in der GB-PS 14 40 281 beschrieben sind, haftet die photopolymerisierbare Schicht fester an der Trägerfolie als an der Deckfolie. Wenn der Photoresist bei der Fertigung von Leiterkarten verwendet wird, wird die LDPE-Deckfolie (vom Verwender als "Trennfolie" bezeich­ net) entfernt und verworfen, und die photopolymerisier­ bare Schicht wird mit Hilfe einer Laminierwalze auf einen Träger, etwa eine kupferplattierte Fiberglas- Platte, laminiert. Die Träger-Folie (nun vom Verwender als "Deckfolie" bezeichnet) bleibt während der Laminie­ rung an Ort und Stelle, wobei sie als Sauerstoff-Sperre wirkt und die photopolymerisierbare Schicht gegen physi­ kalische Beschädigungen schützt. Die photopolymerisier­ bare Schicht kann dann durch die "Deckfolie" hindurch belichtet werden.
Der Hauptfaktor bei der Auswahl von LDPE für die ur­ sprüngliche Deckfolie sind die niedrigen Kosten, da sie vom Verwender als "Trennfolie" verworfen wird. Ungeach­ tet ihrer niedrigen Kosten hat jedoch die LDPE-Folie viele Nachteile. Ihre Dicke kann bei ein und derselben Folie um immerhin bis zu 20% schwanken, so daß das Erscheinungsbild der Rolle mit dem fertigen Produkt nicht gleichmäßig ist. LDPE ist weich und schwieriger sauber zu schneiden als die steifere Polyester-Folie, so daß die photopolymerisierbare Schicht zum Abblättern neigt, wenn die Produkt-Rolle auf einer Hochgeschwindig­ keits-Schneidemaschine aufgeschnitten wird. Außerdem besitzt die billige LDPE-Folie Gel-Teilchen und andere Einschlüsse, die Einkerbungen im fertigen Photoresist verursachen können, wenn dieser auf die Rolle gewickelt wird. Abschnitte des fertigen Produkts, die diese Ein­ schlüsse enthalten, müssen verworfen werden, was die Kosten erhöht.
Die Trägerfolie muß mehrere kritische Bedingungen er­ füllen: Sie muß in der Lage sein, hohe Spannung, die Einwirkung von Lösungsmitteln und die Einwirkung hoher Ofen-Temperaturen während des Fertigungsverfahrens auszuhalten und trotzdem die hohe optische Klarheit behalten, die während des Schrittes der Belichtung erforderlich ist. Frühere Versuche, die herkömmliche Trägerfolie durch eine dünnere Folie zu ersetzen, um eine bessere Auflösung während des Belichtungsschrittes zu erzielen oder die Kosten zu senken, waren erfolglos, und es besteht Bedarf an einer Trägerfolie, die sämt­ liche der oben genannten Bedingungen erfüllt.
Erfindungsgemäß ist ein Trockenfilm-Photoresist, der zur Verwendung bei der Fertigung von Leiterkarten geeignet ist und eine Rolle bildet, die eine zwischen eine Deckfolie und eine Trägerfolie laminierte photopolyme­ risierbare Schicht umfaßt, die an einer der genannten Folien fester haftet als an der anderen, um die Ent­ fernung der anderen Folie zu erleichtern, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Schicht an der Deckfolie fester haftet als an der Trägerfolie und die Trägerfolie sich auf der Innenseite der Rolle be­ findet.
Bei dem erfindungsgemäßen Trockenfilm-Photoresist wird eher die Trägerfolie die "Trennfolie", die entfernt und verworfen wird, als die herkömmliche Deckfolie, und die Deckfolie wird die "Deckfolie", durch die die photopoly­ merisierbare Schicht während der Fertigung des Photo­ resists belichtet wird.
Vorzugsweise hat die erfindungsgemäße Trockenfilm-Photo­ resist-Deckfolie eine Dicke von weniger als 20,32 µm (80 gauge), besonders bevorzugt von etwa 10,06 µm (40 gauge) bis etwa 15,09 µm (60 gauge), und sie kann eine Polyamid-, Polyester- Vinyl-Folie oder eine Folie aus Celluloseester sein.
Ebenfalls vorzugsweise besitzt die Deckfolie (sofern sie nicht von Natur aus stärker haftend ist als die Träger­ folie) eine mit einer Corona-Entladung behandelte oder mit ultravioletter Strahlung behandelte, die Haftung fördernde Oberfläche oder eine Beschichtung mit einem Haftvermittler auf der Seite, die sich in Kontakt mit der photopolymerisierbaren Schicht befindet, um die be­ vorzugte Haftung der photopolymerisierbaren Schicht an der Deckfolie gegenüber derjenigen an der Trägerfolie sicherzustellen. Speziell hat die Deckfolie eine Ab­ reißfestigkeit (der Delaminierung) zwischen etwa 1,96 und etwa 9,8 cN/cm (etwa 2 und etwa 10 g/cm) und beson­ ders bevorzugt von etwa 3,92 bis etwa 5,88 cN/cm (etwa 4 bis etwa 6 g/cm).
Die Möglichkeit, eine Deckfolie mit einer Dicke von weniger als 20,32 µm (80 gauge) einzusetzen, ermöglicht die Erzielung einer verbesserten Auflösung während des Schrittes der Belichtung, da die Strecke, die das Licht zurücklegen muß, verkürzt wird (die Auflösung ist im wesentlichen die Fähigkeit eines belichteten und ent­ wickelten Photoresists, feine Linien und Zwischenräume aufzulösen). Im Vergleich zu bekannten Trockenfilm- Photoresists wurde für Photoresists gemäß der Erfindung eine Verbesserung der Auflösung von 20 bis 25% beob­ achtet.
Die Behandlung mittels einer Corona-Entladung und die Behandlung mit ultravioletter Strahlung zur Verbesserung der Haftung ist allgemein gängige Praxis, und auch die Behandlung mit einem Haftvermittler ist wohlbekannt, beispielsweise aus den US-PSen 44 86 483 und 45 54 200. Die Abreißfestigkeit ist die Haftung der photopolymeri­ sierbaren Schicht an der oberflächenbehandelten Deck­ folie, ausgedrückt in g/cm (bzw. cN/cm), gemessen nach dem 180°-Abreißtest in ASTM D 903. Die untere Grenze ist der niedrigste Wert, bei dem die behandelte Deckfolie an dem Photoresist verbleibt, wenn die entfernbare Träger­ folie entfernt wird, und die obere Grenze ist der höchste Wert, bei dem die Deckfolie von dem belichteten Photoresist entfernt werden kann, ohne daß Reißen (Splittern) ausgelöst wird.
Die erfindungsgemäße Trockenfilm-Photoresist-Trägerfolie hat vorzugsweise eine Dicke von etwa 10,06 µm bis etwa 100,6 µm (400 gauge), und besonders bevorzugt ist sie eine Polyester-Folie mit einer Dicke von etwa 21,6 µm (90 gauge) bis etwa 25,4 µm. Sie kann aus beliebigen Folien-Typen bestehen, wie sie im Vorstehenden für die Deckfolie erwähnt sind.
Ebenfalls gemäß der Erfindung ist ein Verfahren zur Her­ stellung eines Trockenfilm-Photoresists, der eine photo­ polymerisierbare Schicht umfaßt, die zwischen eine Poly­ mer-Folie, die während eines nachfolgenden Laminierungs- Schrittes verworfen wird, und eine Polymer-Folie, durch die die photopolymerisierbare Schicht nach dem nachfol­ genden Laminierungs-Schritt belichtet wird, laminiert ist, das
  • (A) die Ablagerung einer unbelichteten photopolymeri­ sierbaren Schicht auf einer biegsamen Trägerfolie,
  • (B) das Laminieren einer biegsamen Deckfolie auf die photopolymerisierbare Schicht und
  • (C) das Aufwickeln des Photoresists zur Erzeugung einer Rolle des fertigen Produkts
umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckfolie eine Dicke von weniger als 20,32 µm (80 gauge) besitzt, sie einer Oberflächenbehandlung unterzogen wurde, um eine bevorzugte Haftung der photopolymerisierbaren Schicht an der Deckfolie sicherzustellen, und das Aufwickeln in der Weise erfolgt, daß die Deckfolie sich auf der Außenseite der Rolle und die Trägerfolie sich auf der Innenseite befinden, wodurch die Trägerfolie diejenige Folie wird, die während des nachfolgenden Schrittes der Laminierung verworfen wird, und die Deckfolie diejenige Folie ist, durch die die photopolymerisierbare Schicht nach dem nachfolgenden Schritt der Laminierung belichtet wird.
Die Vermeidung der Verwendung einer LDPE-Folie geringer Qualität bei den Photoresists der vorliegenden Erfindung ergibt mehrere Vorteile.
  • (1) Die Produkt-Rolle hat wegen der höheren Ebenheit der in der vorliegenden Erfindung verwendeten Poly­ mer-Folie ein gleichmäßigeres Aussehen.
  • (2) In der Deckfolie kommen weniger Gele und andere Einschlüsse vor, was eine geringere Zahl von Ein­ kerbungen im Resist zur Folge hat.
  • (3) Der Photoresist ist leichter zuzuschneiden, und während des Arbeitsganges der Laminierung der Leitkarte werden glattere Kanten erhalten.
Außerdem bleiben die Vorteile des Einsatzes einer relativ dicken Folie als Träger während der Fertigung des Photoresists erhalten, wodurch Rißbildung vermieden wird und Wärme- und Lösungsmittelbeständigkeit aufrecht­ erhalten werden.
Die beigefügten Zeichnungen dienen zur Erläuterung der vorliegenden Erfingung.
Fig. 1a zeigt die Anordnung der verschiedenen Schichten der Rolle des fertigen Produkts eines Trockenfilm-Photo­ resists, der nach dem Verfahren hergestellt ist, das herkömmlich für die Herstellung von Trockenfilm-Photo­ resists angewandt wird.
Fig. 1b erläutert das herkömmlich angewandte Verfahren zum Laminieren eines Trockenfilm-Photoresists auf einen Träger während der Fertigung einer Leiterkarte, wiederum nach bekannten Methoden.
Fig. 2a zeigt die Anordnung der verschiedenen Schichten der Rolle des fertigen Produkts eines Trockenfilm-Photo­ resists, der gemäß der vorliegenden Erfindung erzeugt wurde.
Fig. 2b erläutert das Verfahren zum Laminieren eines nach dem Verfahren der vorliegenden Erfindung herge­ stellten Trockenfilm-Photoresists auf einen Träger während der Fertigung einer Leiterkarte.
In den ersten Schritten des herkömmlichen Verfahrens nach dem Stand der Technik zur Herstellung von Trocken­ film-Photoresists wird die photopolymerisierbare Zusam­ mensetzung 2 typischerweise auf eine flexible Polymer- Trägerfolie 1, etwa eine Polyester-Folie, aufgetragen, und die beschichtete Folie wird dann auf eine schützende entfernbare Polymer-Deckfolie 3, typischerweise eine Folie aus einem Polyethylen niederer Dichte (LDPE) laminiert. Die Rolle des fertigen Produkts wird ent­ sprechend der Darstellung in Fig. 1a aufgewickelt, so daß die Trägerfolie 1 sich auf der Außenseite befindet und die Deckfolie 3 sich auf der Innenseite befindet. In diesen Photoresists haftet die photopolymerisierbare Schicht 2 stärker an der Trägerfolie 1 als an der Deck­ folie 3.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird eine geeignete Trägerfolie 6 mit einer Lösung einer photopolymerisier­ baren Zusammensetzung beschichtet, und die beschichtete Folie wird dann durch einen Ofen geführt, um das Lösungsmittel zu verdampfen. Die photopolymerisierbare Schicht 7 hat typischerweise eine Dicke der trockenen Beschichtung von etwa 13 µm bis etwa 100 µm. Eine schützende Polymer-Deckfolie 8, die normalerweise ober­ flächenbehandelt wird, wird dann unter Einwirkung von Wärme und Druck auf die Oberfläche der photopolymeri­ sierbaren Schicht 7 laminiert.
Nach dem Schritt des Laminierens und etwaigen erforder­ lichen Schritten des Aufwickelns und Abwickelns, je nach Art der eingesetzten Anlagen, wird die fertige Rolle des Photoresist-Produkts so aufgewickelt, daß die ober­ flächenbehandelte Deckfolie 8 sich auf der Außenseite befindet und die Trägerfolie 6 sich auf der Innenseite befindet, wie in Fig. 2a dargestellt ist. Wie Fig. 2b zeigt, wird die Folie, die ursprünglich die Trägerfolie 6 war, anschließend verworfen, d.h. sie wird die "Trenn"-Folie, wenn der Photoresist mit Hilfe einer Laminierwalze 10 auf einen festen Träger wie eine kupferplattierte Fiberglas-Platte 9 laminiert wird. Die oberflächenbehandelte Polymer-Folie 8, die während der Fertigung die Deckfolie war, verbleibt als Deckfolie während der Laminierung und Belichtung des Photoresists.
Wie im Vorstehenden angegeben ist, wird die Deckfolie vorzugsweise auf der Seite oberflächenbehandelt, die sich in Kontakt mit der photopolymerisierbaren Schicht befindet, um sicherzustellen, daß die photopolymerisier­ bare Schicht vorzugsweise an der Deckfolie haftet. Der Grad der Haftung der photopolymerisierbaren Schicht an der Deckfolie kann dadurch gesteuert werden, daß man die Energiedichte der Behandlung in der Corona-Entladung, die Einwirkungsdauer der Ultraviolett-Behandlung oder das Beschichtungs-Gewicht des Haftvermittlers einstellt. Der niedrigste wirksame Grad der Haftvermittlung wird bevorzugt. Folien, die mit unnötigem Haftvermittler be­ handelt werden, neigen zum Reißen und Splittern, wenn sie von einem belichteten Photoresist entfernt werden. Der Grad der für eine bevorzugte Haftung der Deckfolie an der photopolymerisierbaren Schicht erforderlichen Oberflächenbehandlung kann quantitativ anhand der oben definierten Abreißfestigkeit ausgedrückt werden.
Jede beliebige herkömmliche photopolymerisierbare Zusammensetzung, die auf die Trägerfolie 6 in Form einer Lösung aufgetragen und anschließend zur Entfernung des Lösungsmittels getrocknet werden kann, kann für die photopolymerisierbare Schicht 7 in dem Photoresist der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Solche Zusammensetzungen sind wohlbekannt, beispielsweise aus der US-PS 42 68 610, und enthalten typischerweise ein oder mehrere additionspolymerisierbare Monomere, ein polymeres Bindemittel und einen Photopolymerisations- Initiator. Kleinere Mengen Farbstoffe, Haftvermittler, Antioxidationsmittel, Weichmacher, Füllstoffe und dergleichen können ebenfalls einbezogen werden.
Da die während des Belichtungsschrittes als Deckfolie dienende Folie 8 dünner als die Deckfolie herkömmlicher Trockenfilm-Photoresists ist, ist die Strecke, die das Licht zwischen dem Photowerkzeug und dem Resist durch­ laufen muß, verkürzt, und die Auflösung wird demgemäß verbessert. Technisch wird die Auflösung als engster Zwischenraum zwischen zwei konvergierenden feinen Linien auf einem Testmuster gemessen, der sauber ausgewaschen wird.
Die folgenden Beispiele erläutern die vorliegende Erfin­ dung und sind nicht in irgendeiner Weise als Beschrän­ kung ihres Umfangs zu verstehen.
Beispiel 1
Dieses Beispiel erläutert die bevorzugte Haftung der photopolymerisierbaren Schicht an einer Deckfolie, die mit einem Haftvermittler oberflächenbehandelt wurde.
Eine Lösung einer eigentumsrechtlich geschützten photo­ polymerisierbaren Zusammensetzung, die bei der Herstel­ lung eines wäßrig verarbeitbaren Trockenfilm-Photo­ resists AQUA MER® (erhältlich bei Hercules Incorporated) verwendet wird, wird in einer Dicke von 38 µm auf eine 23,36 µm (92 gauge) dicke Polyester-Trägerfolie, die nicht oberflächenbehandelt ist, aufgetragen und mit heißer Luft getrocknet. Handelsübliche Polyesterfolien, die mit verschiedenen eigentumsrechtlich geschützten Haftvermittlern behandelt wurden, werden auf den Photo­ resist auf einer technischen Folienstraße bei 60°C und 2,45 bar (2,5 kg/cm2) laminiert. Die Haftung der photo­ polymerisierbaren Schicht an der oberflächenbehandelten Deckfolie wird unter Anwendung des 180°-Abreißtests (ASTM D 903) gemessen. Streifen der Folie für die Tests werden auf eine Breite von 25,4 mm (1 inch) präzisions­ geschnitten. Die Messungen erfolgen auf einem Instron- Tester unter Anwendung einer Kreuzkopf-Geschwindigkeit von 13 cm/min. Die Haftung der 23,36 µm-Trägerfolie an der photopolymerisierbaren Schicht wird in gleicher Weise gemessen.
Beispiel 2
Dieses Beispiel erläutert die verstärkte Haftung der photopolymerisierbaren Schicht an der Polyester-Deck­ folie nach Corona-Behandlung der Deckfolie. Eine 11,68 µm-Polyester-Deckfolie, die keinen Haftvermittler enthält, wird auf einem Corona-Behandlungsgerät mit rotierender Trommel bei verschiedenen Energie-Dichten mit einer Corona-Entladung behandelt. Das Corona-Behand­ lungsgerät wird mit einer Geschwindigkeit von 30,48 m/min (100 feet/min) betrieben. Eine Photoresist- Folie wird hergestellt, wie in Beispiel 1 beschrieben ist. Die behandelte Polyester-Folie wird dann auf einem Laminex-Heißschuh-Laminator bei 52°C und 1,2 m/min auf die photopolymerisierbare Schicht der Photoresist-Folie laminiert. Die Haftung der behandelten Polyester-Deck­ folie an dem Photoresist wird unter Anwendung des in Beispiel 1 beschriebenen 180°-Abreißtests gemessen. Die Haftung der 23,36 µm-Polyester-Trägerfolie an der photo­ polymerisierbaren Schicht wird in gleicher Weise ge­ messen und zu 1,77 cN/cm (1,8 g/cm) gefunden.
Beispiel 3
Dieses Beispiel erläutert die verstärkte Haftung der photopolymerisierbaren Schicht an der Polyester-Deck­ folie nach Ultraviolett-Behandlung der Deckfolie. Eine 11,68 µm-Polyester-Deckfolie (48 gauge), die keinen Haftvermittler enthält, wird in einer handelsüblichen Belichtungseinheit COLIGHT® DMVL A⁺, vertrieben von der Colight Division von Canrad, Inc., mit einer Mittel­ druck-Quecksilber-Lampe während unterschiedlicher Zeit­ räume der Einwirkung von ultraviolettem Licht ausge­ setzt. Eine Photoresist-Folie wird hergestellt, wie in Beispiel 1 beschrieben ist. Die behandelte Polyester- Folie wird dann entsprechend den Angaben in Beispiel 2 auf die Photoresist-Folie laminiert.
Die Haftung der behandelten Polyester-Folie an dem Photoresist wird unter Anwendung des in Beispiel 1 be­ schriebenen 180°-Abreißtests gemessen. Die Haftung der 23,36 µm-Polyester-Trägerfolie ist die gleiche wie in Beispiel 2.
Beispiel 4
Eine Photoresist-Folie wird hergestellt, wie in Beispiel 1 beschrieben ist. Eine 11,68 µm-Polyester-Deckfolie, die mit einem niedrigen Beschichtungsgewicht eines Haft­ vermittlers (Polyester-Folie HOSTAPHAN® Serie 2500, American Hoechst Corporation) beschichtet wurde, wird auf die photopolymerisierbare Schicht des in Beispiel 2 beschriebenen Photoresists laminiert. Die Photoresist- Folie wird dann mit Hilfe eines du Pont-Heißwalzen- Laminators bei 107°C und unter 1,08 bar (1,1 kg/cm2) auf eine FR-4-Kupfer-Laminatplatte laminiert, wobei gleichzeitig die Trägerfolie entfernt wird. Die Kupfer- Platte war vorher durch Schrubben mit einem Scotch- Brite-Reiniger gereinigt worden.
Der Resist wird durch die 11,68 µm-Polyester-Deckfolie, mit einem Stouffer-Auflösungskeil und einem Stouffer­ 41-Stufen-Empfindlichkeits-Hilfsgerät in einer handels­ üblichen Belichtungseinheit COLIGHT® DMVL A⁺ mit einer Mitteldruck-Quecksilber-Lampe belichtet. Die Platte wird bei 29°C in einem handelsüblichen Ätzmittel DEA 2401, vertrieben von DEA Equipment Division, entwickelt, das eine 0,75-proz. Natriumbicarbonat-Monohydrat-Lösung enthielt. In ähnlicher Weise wird ein Kontroll-Laminat hergestellt, bei dem eine unbehandelte 23,36 µm-Poly­ ester-Folie als Deckfolie verwendet wurde. Diese Art Folie wird typischerweise als Deckfolie bei Trocken­ film-Photoresists des Standes der Technik verwendet. Die Kontrolle wird belichtet und entwickelt, wie dies im Vorstehenden beschrieben wurde. Die Auflösung in mil (25,4 µm) wird gegen die Stouffer-Stufe sowohl für die 11,68 µm-Folie als auch für die Kontrolle aufgetragen. Die optimale Belichtung für die Erzeugung des geeigneten Polymerisationsgrades fällt zwischen die Stufen 22 und 28. Ein Vergleich der Werte der Auflösung bei Stufe 22 und Stufe 28 zeigt eine Verbesserung der Auflösung von 20% bzw. 25% für die 11,68 µm-Deckfolie im Vergleich zu der Kontrolle.
Der verbesserte Trockenfilm-Photoresist der vorliegenden Erfindung kann bei sämtlichen Anwendungen eingesetzt werden, wo ein Photoresist hoher Güte und hoher Auf­ lösung erforderlich ist, z.B. beim chemischen Abtragen (Formätzen) und bei der Fertigung von Leiterkarten.

Claims (12)

1. Trockenfilm-Photoresist, der zur Verwendung bei der Fertigung von Platten mit gedruckten Schaltungen (Leiterkarten) geeignet ist und eine Rolle bildet, die eine zwischen eine Deckfolie und eine Trägerfolie laminierte photopolymerisierbare Schicht umfaßt, die an einer der genannten Folien fester haftet als an der anderen, um die Entfernung der anderen Folie zu er­ leichtern, dadurch gekennzeichnet, daß die photopoly­ merisierbare Schicht an der Deckfolie fester haftet als an der Trägerfolie und die Trägerfolie sich auf der Innenseite der Rolle befindet.
2. Trockenfilm-Photoresist nach Anspruch 1, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Deckfolie eine Dicke von weniger als 20,32 µm besitzt.
3. Trockenfilm-Photoresist nach Anspruch 2, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Deckfolie eine Dicke von etwa 10,06 µm bis etwa 15,09 µm besitzt.
4. Trockenfilm-Photoresist nach Anspruch 1, 2 oder 3, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Deckfolie eine Polyamid-, Polyester- Vinyl-Folie oder eine Folie aus Celluloseester ist.
5. Trockenfilm-Photoresist nach irgendeinem der vorher­ gehenden Ansprüche, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Deckfolie eine mit einer Corona-Entladung behandelte oder mit ultravioletter Strahlung behandelte, die Haftung fördernde Oberfläche oder eine Beschichtung mit einem Haftvermittler auf der Seite besitzt, die sich in Kontakt mit der photopolymerisierbaren Schicht befindet, um die bevorzugte Haftung der photopolymerisierbaren Schicht an der Deckfolie sicherzustellen.
6. Trockenfilm-Photoresist nach irgendeinem der vorher­ gehenden Ansprüche, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Abreißfestigkeit (der Delaminierung) der Deckfolie zwischen etwa 1,96 und etwa 9,8 cN/cm (etwa 2 und etwa 10 g/cm) liegt.
7. Trockenfilm-Photoresist nach Anspruch 6, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Abreißfestigkeit der Deckfolie zwischen etwa 3,92 und etwa 5,88 cN/cm (etwa 4 und etwa 6 g/cm) liegt.
8. Trockenfilm-Photoresist nach irgendeinem der vorher­ gehenden Ansprüche, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerfolie eine Dicke von etwa 10,06 µm bis etwa 100,6 µm besitzt.
9. Trockenfilm-Photoresist nach Anspruch 8, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerfolie eine Polyester-Folie ist und eine Dicke von etwa 21,6 µm bis etwa 25,4 µm besitzt.
10. Trockenfilm-Photoresist nach irgendeinem der vorher­ gehenden Ansprüche, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerfolie eine Polyamid-, Polyester- Vinyl-Folie oder eine Folie aus Celluloseester ist.
11. Verfahren zur Herstellung eines Trockenfilm-Photo­ resists nach irgendeinem der vorhergehenden Ansprüche, umfassend
  • (A) die Ablagerung einer unbelichteten photopolymeri­ sierbaren Schicht auf einer biegsamen Trägerfolie,
  • (B) das Laminieren einer biegsamen Deckfolie auf die photopolymerisierbare Schicht und
  • (C) das Aufwickeln des Photoresists zur Erzeugung einer Rolle des fertigen Produkts,
dadurch gekennzeichnet, daß die Deckfolie eine Dicke von weniger als 20,32 µm (80 gauge) besitzt, sie einer Ober­ flächenbehandlung unterzogen wurde, um eine bevorzugte Haftung der photopolymerisierbaren Schicht an der Deck­ folie sicherzustellen, und das Aufwickeln in der Weise erfolgt, daß die Deckfolie sich auf der Außenseite der Rolle und die Trägerfolie sich auf der Innenseite be­ finden, wodurch die Trägerfolie diejenige Folie wird, die während des nachfolgenden Schrittes der Laminierung verworfen wird, und die Deckfolie diejenige Folie ist, durch die die photopolymerisierbare Schicht nach dem nachfolgenden Schritt der Laminierung belichtet wird.
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