DE3634935C2 - - Google Patents
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- DE3634935C2 DE3634935C2 DE19863634935 DE3634935A DE3634935C2 DE 3634935 C2 DE3634935 C2 DE 3634935C2 DE 19863634935 DE19863634935 DE 19863634935 DE 3634935 A DE3634935 A DE 3634935A DE 3634935 C2 DE3634935 C2 DE 3634935C2
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/67303—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vertikalhorde mit Quarz
glas-Profilstäbchen für die horizontale Lagerung mehrerer runder, quadratischer
oder rechteckiger Substratscheiben konstanter Dicke mit Abstand übereinander,
wobei jede Substratscheibe auf vier durch in etwa horizontal verlaufende
Schlitze in den Profilstäben gebildeten Auflageflächen aufliegt, und mit
einer Grundplatte, an der die Profilstäbe fest angeordnet sind und sich in
vertikaler Richtung erstrecken, und wobei zwei Profilstäbe einen Abstand
voneinander aufweisen, der der Breite einer Substratscheibe quer zu ihrer Ein
führrichtung in die Horde entspricht.
Vertikale Rohröfen für die Durchführung von halbleitertechnischen Prozessen
sind seit einigen Jahren bekannt und werden in kleinem Umfang weltweit
eingesetzt.
Die Substratscheiben, überwiegend Silizium-Wafer, werden in diesen Öfen in
horizontaler oder leicht schräg geneigter Lage in sogenannten Horden gehalten.
Die Horden werden im wesentlichen aus eingeschlitzten Quarzglas-Stäben gebil
det, die in einer oberen und einer unteren Abschlußplatte münden. Sie formen
um die runden Substrate einen Halbbogen aus typisch vier oder fünf Stäben.
Eine halbbogenförmige Anordnung ist erforderlich, damit die Stäbe die Substrate von der
offenen Seite in die Horde eingelegt werden können; eine an sich wünschens
werte weitere Umspannung der Substrate ist nicht möglich.
Vertikalhorden der eingangs genannten Art sind aus der US-PS 45 50 239
bekannt. In dieser US-PS wird eine Anordnung zur Behandlung von runden Halb
leiterscheiben beschrieben, bei der die Substratscheiben in einem zylindri
schen Prozeßrohr mit vertikaler Erstreckung mittels einer Trageanordnung
horizontal gelagert sind. Diese Trageanordnung oder Vertikalhorde weist vier
sich vertikal erstreckende runde Stäbe auf, die an einer Grundplatte befestigt
sind. An ihrem oberen Ende sind diese Stäbe über einen U-förmigen Rahmen
miteinander verbunden. Die runden Halbleiterscheiben liegen in horizontalen
Schlitzen der Stäbe auf. Während zwei Stäbe etwa so angeordnet sind, daß die
runden Halbleiterscheiben mit ihrer breitesten Stelle aufliegen, sind die zwei
anderen Stäbe in einem von der Einschiebrichtung der Horde aus gesehenen
hinteren Randbereich positioniert. Bei einer solchen Vertikalhorde ist nicht
auszuschließen, daß die horizontal gelagerten Scheiben aufgrund ihres Gewichts
diejenigen Stäbe wesentlich stärker thermisch-plastisch verformen, auf denen
die Hauptbelastung ruht, während die nahezu lastfreien Stäbe im hinteren Rand
bereich der Scheiben unverformt bleiben. Im Hochtemperatureinsatz verbiegen
sich solche Horden und werden frühzeitig unbrauchbar.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vertikalhorde
anzugeben, bei der eine Deformation der Horden, wie sie bei den beschriebenen
Vertikalhorden zu beobachten ist, vermieden wird.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Auflageflächen durch Schlitze
entweder in den freien Schenkeln zweier Profilstäbe mit U-förmigem Quer
schnitt, wobei jeweils ein Profilstab auf jeder Seite der Einführöffnung an
geordnet ist, oder durch Schlitze in zwei einander benachbarten Profilstäben,
wobei jeweils zwei ein Paar bildende Profilstäbe auf jeder Seite der Einführ
öffnung angeordnet sind, gebildet werden und daß die Profilstäbe symmetrisch zu zwei senkrecht
aufeinanderstehenden Ebenen angeordnet sind, deren Schnittlinien die Vertikal
achse der Horde bildet und durch den Schwerpunkt jeder in der Horde angeord
neten Substratscheibe verläuft. Eine derartige Horde hat die Besonderheit, daß
sie eine Symmetrie zu der Vertikalachse in zwei Raumrichtungen besitzt. In
dieser Anordnung werden runde Substratscheiben so gelagert, daß der Gewichts
schwerpunkt solcher Scheiben mit konstanter Dicke, der in einem solchen Fall
dem Mittelpunkt enspricht, auf der Schnittlinie der beiden Symmetrieebenen
liegt. Entsprechend sind quadratische oder rechteckige Scheiben mit konstanter
Dicke so gelagert, daß die Stäbe symmetrisch zum Verlauf der Seiten
halbierenden zweier gegenüberliegender Seiten der Scheiben angeordnet sind.
Am hinteren, freien Rand der Scheiben kann ein zusätzlicher Profilstab vorge
sehen sein, der parallel zur Vertikalachse der Horde verläuft und einen
Anschlag bildet.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnungen
näher beschrieben. In den Zeichnungen zeigt
Fig. 1 eine Seitenansicht einer erfindungsgemäßen Vertikalhorde mit
U-Profilstäben,
Fig. 2 einen Schnitt entlang der Schnittlinie II-II in Fig. 1,
Fig. 3 eine der Fig. 1 ähnliche Anordnung, jedoch mit vier runden
Vertikalstäben und
Fig. 4 einen Schnitt entlang der Schnittlinie IV-IV in Fig. 3.
Die Vertikalhorde weist eine Grundplatte 1 auf, an der, sich vertikal er
streckend, zwei U-Profilstäbe 2 angeordnet sind. Diese beiden U-Profilstäbe 2
verlaufen symmetrisch zu zwei senkrecht zueinander stehenden Ebenen, durch die
strich-punktierten Linien 3, 4 angedeutet, wobei die Schnittlinie der beiden
Ebenen mit der Vertikalachse 5 zusammenfällt. Bei den U-Profilstäben 2 handelt
es sich bevorzugt um flache Profile mit kurzen Schenkeln 6, die mit ihren
Öffnungen nach innen weisend sich gegenüberstehen. Die Schenkel 6 der
U-Profile 2 sind zur Aufnahme von Substratscheiben 7 mit in etwa horizontal
verlaufenden Schlitzen 8 versehen. Zur Aussteifung der Anordnung kann, wie in
dem Ausführungsbeispiel gezeigt, eine obere Abschlußplatte 9 an den Profil
stäben befestigt sein. In der Anordnung nach den Fig. 3 und 4 sind die
U-Profile gemäß der Ausführungsform nach den Fig. 1 und 2 durch jeweils
zwei geschlitzte runde Profilstäbe 10 ersetzt, die im Vergleich zu den Aus
führungsformen nach Fig. 1 und 2 im Bereich der dortigen Schenkel angeordnet
sind.
Beide Ausführungsformen weisen in Einschiebrichtung A der Substratscheiben 7
gesehen einen am hinteren Ende der Grundplatte 1 befestigten zusätzlichen
Profilstab 11 auf, der einen Anschlag für die Substratscheiben bildet. Dieser
Stab ist insbesondere dann von Vorteil, wenn die Substratscheiben 7 gering
fügig aus der Horizontalen geneigt in die Vertikalhorde eingesetzt werden, wie
dies in den Fig. 1 und 3 durch die strich-punktierten Linien angedeutet ist.
Wie in Fig. 4 gezeigt ist, sind die Vertikalhorden sowohl für die Aufnahme
von runden als auch rechteckigen oder quadratischen Substratscheiben 7, 12
geeignet. Hinsichtlich der rechteckigen oder quadratichen Substratscheiben 12
bilden die durch die strich-punktierten Linien 3, 4 angedeuteten Ebenen im
Schnitt die Seitenhalbierenden der Seitenkanten, so daß die runden Profil
stäbe 10 bzw. die Profilstäbe 2 symmetrisch sowohl zu der einen strich-
punktierten Linie 3 als auch zu der anderen strich-punktierten Linie 4 ver
laufen. Der Gewichtsschwerpunkt, der bei Substratscheiben konstanter Dicke dem
Mittelpunkt bzw. Schwerpunkt entspricht, liegt in der Mitte zwischen den
vier Stäben 10 bzw. den Profilen 2, so daß das Gewicht der Substratscheiben
gleichmäßig auf die vier Stäbe bzw. die beiden U-Profile verteilt ist, so daß
eine asymmetrische Deformation infolge einer ungleichmäßigen Lastverteilung
nicht auftritt.
Claims (2)
1. Vertikalhorde mit Quarzglas-Profilstäben für die horizontale Lagerung
mehrerer runder, quadratischer oder rechteckiger Substratscheiben
konstanter Dicke mit Abstand übereinander, wobei jede Substratscheibe auf
vier durch in etwa horizontal verlaufende Schlitze in den Profilstäben
gebildeten Auflageflächen aufliegt und mit einer Grundplatte, an der die
Profilstäbe fest angeordnet sind und sich in vertikaler Richtung
erstrecken, und wobei zwei Profilstäbe einen Abstand voneinander auf
weisen, der der Breite einer Substratscheibe quer zu ihrer Einführrichtung
in die Horde entspricht, dadurch gekennzeichnet, daß die Auflageflächen
durch Schlitze (8) entweder in den freien Schenkeln (6) zweier Profil
stäbe (2) mit U-förmigem Querschnitt, wobei jeweils ein Profilstab (2) auf
jeder Seite der Einführöffnung angeordnet ist, oder durch Schlitze (8) in
zwei einander benachbarten Profilstäben (10), wobei jeweils zwei ein Paar
bildende Profilstäbe (10) auf jeder Seite der Einführöffnung angeordnet
sind, gebildet werden und daß die Profilstäbe (2; 10) symmetrisch zu zwei senkrecht auf
einanderstehenden Ebenen (3, 4) angeordnet sind, deren Schnittlinie (5)
die Vertikalachse der Horde bildet und durch den Schwerpunkt jeder in der
Horde angeordneten Substratscheibe (7, 12) verläuft.
2. Vertikalhorde nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein zusätz
licher Profilstab (11) zwischen zwei Profilstäben (2; 10) angeordnet ist,
der parallel zu der Vertikalachse (5) verläuft und einen Anschlag für die
Substratscheiben (7, 12) in Einschieberichtung gesehen bildet.
Priority Applications (3)
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Publications (2)
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ID=6311688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (3)
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DE3419866C2 (de) * | 1984-05-28 | 1986-06-26 | Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Trägerhorde aus Quarzglas für scheibenförmige Substrate |
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- 1986-10-14 DE DE19863634935 patent/DE3634935A1/de active Granted
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1987
- 1987-04-10 EP EP87105385A patent/EP0263913A3/de not_active Withdrawn
- 1987-05-28 JP JP62130072A patent/JPS63104418A/ja active Pending
Also Published As
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DE3634935A1 (de) | 1988-04-28 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
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