DE3447001A1 - Verfahren zur herstellung einer feuchtigkeitsdurchlaessigen elektrode fuer feuchtigkeitsmessfuehler - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer feuchtigkeitsdurchlaessigen elektrode fuer feuchtigkeitsmessfuehler

Info

Publication number
DE3447001A1
DE3447001A1 DE19843447001 DE3447001A DE3447001A1 DE 3447001 A1 DE3447001 A1 DE 3447001A1 DE 19843447001 DE19843447001 DE 19843447001 DE 3447001 A DE3447001 A DE 3447001A DE 3447001 A1 DE3447001 A1 DE 3447001A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
film
moisture
humidity
permeable
mbar
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19843447001
Other languages
English (en)
Other versions
DE3447001C2 (de
Inventor
Hisatoshi Yamatokoriyama Nara Furubayashi
Junichi Tenri Nara Tanaka
Masanori Tenri Nara Watanabe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Publication of DE3447001A1 publication Critical patent/DE3447001A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3447001C2 publication Critical patent/DE3447001C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
    • G01N27/121Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid for determining moisture content, e.g. humidity, of the fluid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Description

  • BESCHREIBUNG
  • Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines feuchtigkeitsdurchlässigen, elektrisch leitenden Films, der insbesondere als feuchtigkeitsdurchlässige Elektrode für Feuchtigkeitsmeßfühler geeignet ist.
  • Es sind Feuchtigkeitsmeßfühler entwickelt worden, die einen feuchtigkeitsempfindlichen Dickfilm oder feuchtigkeitsempfindlichen Dünnfilm aus beispielsweise einer Polymerschicht oder einer Metalloxidschicht umfassen.
  • Auf einander gegenüberlietenden Hauptoberflächen des feuchtigkeitsempfindlichen Films ist ein Elektrodenpaar aufgebracht, um die für die Feuchtigkeit repräsentative Impedanz zu messen. Bei einem solchen Aufbau muß mindestens eine der Elektroden des Elektrodenpaars eine feuchtigkeitsdurchlässige Elektrode sein, um die Feuchtigkeitsmessung zu ermöglichen.
  • Für Feuchtigkeitsmeßfühler werden in großem Umfang Goldfilme als Elektroden verwendet. Der Goldfilm besitzt einen geringen Widerstand, eine hohe Wasserbeständigkeit und auch eine hohe chemische Beständigkeit. Wenn der Feuchtigkeitsmeßfühler ein Keramiksubstrat, beispielsweise ein Substrat aus Aluminiumoxid aufweist, führen die Unregelmäßigkeiten des Keramiksubstrats unabhängig von der Art des Materials zur Ausbildung des feuchtigkeitsempfindlichen Films zu Unregelmäßigkeiten in der Oberfläche des feuchtigkeitsempfindlichen Films. Die in dieser Weise erzeugte unregelmäßige Oberfläche führt zu Öffnungen zwischen dem feuchtigkeitsempfindlichen Film und dem darauf ausgebildeten Elektrodenfilm, so daß in dieser Weise die Feuchtigkeitsdurchlässigkeit sichergestellt wird.
  • Wenn der feuchtigkeitsempfindliche Film aus einer Keramik, wie einem Metalloxid, besteht, besitzt der feuchtigkeitsempfindliche Film als solcher eine unregelmäßige Oberfläche. Daher ist es möglich, auf dem feuchtigkeitsempfindlichen Film eine feuchtigkeitsdurchlässige Elektrode auszubilden. Dies ergibt sich dadurch, daß wenn der feuchtigkeitsempfindliche Film eine unregelmäßige Oberfläche aufweist, sich auf dem feuchtigkeitsempfindlichen Film eine feuchtigkeitsdurchlässige Elektrode ergibt. In diesem Fall müssen das Material für den Elektrodenfilm, die Dicke des Elektrodenfilms und die Abscheidungsbedingungen des Elektrodenfilms nicht genau gesteuert werden.
  • Wenn jedoch der Feuchtigkeitsmeßfühler ein ebenes oder flaches Substrat, wie ein Glassubstrat, und einen flachen oder ebenen feuchtigkeitsempfindlichen Film, wie einen Polymerfilm, aufweist, kann die bevorzugte Feuchtigkeitsdurchlässigkeit nicht sichergestellt werden, wenn die Elektrode aus einem Goldfilm oder einem Film aus einer Goldlegierung gebildet wird. Wenn die Dicke des Elektrodenfilms in ausreichendem Maße dünn gehalten wird, ergeben sich in dem Elektrodenfilm Öffnungen, wodurch die Feuchtigkeitsdurchlässigkeit sichergestellt-wird. Es ergibt sich jedoch eine deutliche Steigerung des spezifischen Widerstandes auch dann, wenn die Dicke des Goldelektrodenfilms, der eine Dicke von weniger als 10 nm (100 A) aufweist, nur geringfügig verringert wird. Daher ist es schwierig, den spezifischen Widerstand eines dünnen Goldfilms genau zu steuern, so daß auch die Reproduzierbarkeit des Elektrodenfilms sehr schlecht ist.
  • Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht somit darin, ein Verfahren zur Herstellung eines feuchtigkeitsdurchlässigen, elektrisch leitenden Films, vorzugsweise eines Goldfilms für einen Feuchtigkeitsmeßfühler zu erzeugen, namentlich auf einem flachen feuchtigkeitsempfindlichen Film.
  • Diese Aufgabe wird nun gelöst durch die kennzeichnenden Merkmale des Verfahrens gemäß Hauptanspruch. Die Unteransprüche betreffen besonders bevorzugte Ausführungsformen dieses Erfindungsgegenstandes.
  • Nach einer ersten Ausführungsform betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Elektrodenfilms auf einem feuchtigkeitsempfindlichen Film mit Hilfe eines Vakuumaufdampfverfahrens, welches in Gegenwart einer Gasatmosphäre aus Helium, Neon, Argon, Stickstoff, Sauerstoff oder einer Mischung aus diesen Gasen durchgeführt wird. Dabei ergeben sich um so mehr Öffnungen und damit eine um so größere Feuchtigkeitsdurchlässigkeit, je höher der Gasdruck ist. Somit wird es erfindungsgemäß möglich, die Struktur des Elektrodenfilms über den Gasdruck beim Vakuumaufdampfen zu steuern. Erfindungsgemäß arbeitet man bei einem Gasdruck im Bereich von 1,33 x 10 3 mbar bis 1,33 x 10 mbar (1,0 x 10 bis 1,0 x 10 Torr). In dieser Weise erhält man einen Elektrodenfilm mit der angestrebten Feuchtigkeitsdurchlässigkeit.
  • Die Erfindung sei im folgenden näher unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung erläutert.
  • Die Zeichnung zeigt in der einzigen Figur eine Kurvendarstellung, die die Eigenschaften eines Feuchtigkeitsmeßfühlers in Abhängigkeit von dem bei der Ausbildung des Goldelektrodenfilms angewandten Stickstoffgasdruck verdeutlicht.
  • Der typische Aufbau eines Feuchtigkeitsmeßfühlers ist in der DE-OS 34 10 578 beschrieben. Die vorliegende Erfindung betrifft nun ein Verfahren zur Herstellung einer feuchtigkeitsdurchlässigen Elektrode für einen solchen Feuchtigkeitsmeßfühler.
  • Der erfindungsgemäß hergestellte Feuchtigkeitsmeßfühler umfaßt ein Glassubstrat und einen darauf abgeschiedenen feuchtigkeitsempfindlichen Film. Der feuchtigkeitsempfindliche Film besteht beispielsweise aus Polyvinylalkohol, welcher bei 250"C eingebrannt wird. Auf dem feuchtigkeitsempfindlichen Film wird durch Vakuumaufdampfen ein Goldfilm abgeschieden. Dabei wird das Aufdampfen in einer Stickstoffgasumgebung mit einem Druck im Bereich von vorzugsweise 8,0 x 10 3 bis 1,33 x 10 2 mbar (6,0 x 10 3 bis 1,0 x 10 2 Torr) und einer Abscheidungsbeschwindigkeit von 0,05 nm/s (0,5 Ä/s) durchgeführt. Während der Abscheidung wird das Substrat nicht erhitzt und es wird ein Goldfilm mit einer Dicke von 10 nm (100 Å) erzeugt.
  • Die in der beigefügten Zeichnung dargestellte Kurve a verdeutlicht die Ansprechgeschwindigkeit, die in Abhängigkeit von dem Stickstoffgasdruck variiert, der bei der Abscheidung des Goldelektrodenfilms auf dem feuchtigkeitsempfindlichen Film angewandt wird. Die Ansprechgeschwindigkeit wird durch Messen der Zeitdauer bestimmt, während der die Impedanz des Feuchtigkeitsmeßfühlers einen Wert erreicht, der 90% der spezifischen Impedanz ist, die der relativen Feuchtigkeit von 90% entspricht, wenn die relative Feuchtigkeit der Umgebung von 30% auf 90% verändert wird. Die Kurve b in der beigefügten Zeichnung verdeutlicht den spezifischen Widerstand des Goldelektrodenfilms, der ebenfalls in Abhängigkeit von dem Stickstoffgasdruck variiert, der bei der Abscheidung des Goldelektrodenfilms auf dem feuchtigkeitsempfindlichen Film angewandt wird. Aus der Kurvendarstellung ist ersichtlich, daß die Öffnungen in dem Goldelektrodenfilm mit zunehmendem Stickstoffgasdruck zunehmen. Dies bedeutet, daß die Feuchtigkeitsdurchlässigkeit und der spezifische Widerstand mit steigendem Stickstoffgasdruck zunehmen.
  • Wenn der Stickstoffgasdruck größer als 1,33 x 10 2 mbar (1 x 10 2 Torr) ist, sind die in dem Goldelektrodenfilm gebildeten Öffnungen derart zahlreich, daß der Elektrodenfilm nicht die erforderliche Festigkeit aufweist. Wenn andererseits der £Stickstoffgasdruck weniger als 1,33 x 10 3 mbar (1,0 x 10 3 Torr beträgt), ergeben sich so wenige Öffnungen in dem Goldelektrodenfilm, daß die gewünschte Feuchtigkeitsdurchlässigkeit nicht erreicht wird.
  • Wenn andererseits der Goldelektrodenfilm eine Dicke von mehr als 20 nm (200 Å) aufweist, läßt sich die angestrebte Feuchtigkeitsdurchlässigkeit nicht erreichen, auch dann nicht, wenn man einen Stickstoffgasdruck von 1,33 x 10 2 mbar (1 x 10 2 Torr) anwendet. Wenn der Goldelektrodenfilm andererseits eine Dicke von weniger als 10 nm (100 Å) aufweist, ergibt sich eine deutliche Steigerung des spezifischen Widerstandes wenn die Dicke des Goldelektrodenfilms geringfügig verringert wird. Daher ergibt sich eine sehr schlechte Reproduzierbarkeit des Goldelektrodenfilms.
  • Demzufolge wird erfindungsgemäß der feuchtigkeitsdurchlässige Goldelektrodenfilm bei einem Stickstoffgasdruck von 1,33 x 10 3 mbar bis 1,33 x 10 2 mbar (1 x 10 3 bis 1 x 10 2 Torr) gebildet. Weiterhin weist der feuchtigkeitsdurchlässige Goldelektrodenfilm mit Vorteil eine Dicke von 10 bis 20 nm (100 bis 200 Å) auf.
  • Das folgende Beispiel dient der weiteren Erläuterung der Erfindung.
  • BEISPIEL Man erzeugt auf einem Glassubstrat einen feuchtigkeitsempfindlichen Film aus Polyvinylalkohol, welcher bei 250"C eingebrannt wird. Auf dem feuchtigkeitsempfindlichen Polyvinylalkoholfilm erzeugt man einen feuchtigkeitsdurchlässigen Goldelektrodenfilm durch Aufdampfen in einer Stickstoffgasatmosphäre mit einem Druck von 11,98 x 10 mbar (9,0 x 10 3 Torr). Man wendet eine Abscheidungsgeschwindigkeit von 0,05 nm/s (0,5 Ä/s) an und erhitzt das Substrat während der Abscheidung nicht. Man erhält in dieser Weise einen feuchtigkeitsdurchlässigen Goldelektrodenfilm mit einer Dicke von 12,5 nm (125 Å).
  • Der in dieser Weise gebildete feuchtigkeitsdurchlässige Goldelektrodenfilm zeigt eine feste Haftung an dem feuchtigkeitsempfindlichen Film und besitzt einen stabilen spezifischen Widerstand auch bei einem Lagerungstest bei hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit (600C, 90 bis 95% Feuchtigkeit) oder auch nach dem Wassereintauchtest.
  • Ähnliche Ergebnisse erzielt man dann, wenn man zur Bildung der feuchtigkeitsdurchlässigen Elektrode einen Film aus einer Goldlegierung anwendet. Der Aufdampfvorgang muß nicht notwendigerweise in Gegenwart einer Stickstoffgasumgebung durchgeführt werden, da man auch eine Gasatmosphäre aus Helium, Neon, Sauerstoff, Argon oder einer Mischung aus diesen Gasen anwenden kann.
  • - L e e r s e i t e -

Claims (9)

  1. Verfahren zur Herstellung einer feuchtigkeitsdurchlässigen Elektrode für Feuchtigkeitsmeßfühler Priorität: 27. Dezember 1983, Japan, Nr. 58-247175 (P) PATENTANSPRÜCHE 1. Verfahren zur Herstellung eines feuchtigkeitsdurchlässigen, elektrisch leitenden Films, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß man auf einem Glassubstrat durch Vakuumaufdampfen in einer Gasatmosphäre aus Helium, Neon, Argon, Stickstoff, Sauerstoff oder einer Mischung aus diesen Gasen, die bei einem Druck von 1,33 x 10 3 mbar bis 1,33 x 10 2 mbar gehalten wird, einen feuchtigkeitsdurchlässigen, elektrisch leitenden Film abscheidet.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, d a d u r c h ' -.
    g e k e n n z e i c h n e t , daß man als feuchtigkeitsdurchlässigen, elektrisch leitenden Film einen Goldfilm abscheidet.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 2, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß man einen Goldfilm mit einer Dicke von 10 bis 20 nm abscheidet.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß man als feuchtigkeitsdurchlässigen, elektrisch leitenden Film einen Film aus einer Goldlegierupg abscheidet.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 4, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß man einen Film aus der Goldlegierung mit einer Dicke von 10 bis 20 nm abscheidet.
  6. 6. Verfahren zur Herstellung eines Feuchtigkeitsmeßfühlers, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß man auf einem Glassubstrat einen feuchtigkeitsempfindlichen Film aufbringt und auf diesem feuchtigkeitsempfindlichen Film durch Vakuumaufdampfen in einer Stickstoffgasatmosphäre mit einem Gasdruck von 1,33 x 10 3 einem bar bis 1,33 x 10 2 mbar einen feuchtigkeitsdurchlässigen Elektrodenfilm abscheidet.
  7. 7. Verfahren nach Anspruch 6, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß man als feuchtigkeitsdurchlässigen Elektrodenfilm einen Goldfilm mit einer Dicke von etwa 12,5 nm abscheidet.
  8. 8. Verfahren nach Anspruch 6, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß man den feuchtigkeitsdurchlässigen Elektrodenfilm bei einem Stickstoffgasdruck von etwa 11,98 x 10 3 mbar und einer Abscheidungsgeschwindigkeit von etwa 0,05 nm/s abscheidet.
  9. 9. Verfahren nach Anspruch 8, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß man als feuchtigkeitsempfindlichen Film einen Polyvinylalkoholfilm abscheidet.
DE19843447001 1983-12-27 1984-12-21 Verfahren zur herstellung einer feuchtigkeitsdurchlaessigen elektrode fuer feuchtigkeitsmessfuehler Granted DE3447001A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58247175A JPS60140609A (ja) 1983-12-27 1983-12-27 透湿性導電膜の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3447001A1 true DE3447001A1 (de) 1985-09-12
DE3447001C2 DE3447001C2 (de) 1987-02-19

Family

ID=17159551

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19843447001 Granted DE3447001A1 (de) 1983-12-27 1984-12-21 Verfahren zur herstellung einer feuchtigkeitsdurchlaessigen elektrode fuer feuchtigkeitsmessfuehler

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5087480A (de)
JP (1) JPS60140609A (de)
DE (1) DE3447001A1 (de)
GB (1) GB2153390B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012014915A1 (de) * 2012-07-29 2014-01-30 Hochschule München Druckgesteuerte Abscheiderate

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI98861C (fi) * 1994-01-18 1997-08-25 Vaisala Oy Menetelmä mikrohuokoisen, kaasua läpäisevän elektrodin valmistamiseksisekä mikrohuokoinen kaasua läpäisevä elektrodi

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2115679A5 (en) * 1970-11-30 1972-07-07 Air Liquide Ultra-fine sinter fabrication - by deposition of a metal on a substrate
US4143177A (en) * 1977-01-31 1979-03-06 Panametrics, Inc. Absolute humidity sensors and methods of manufacturing humidity sensors
GB2016527A (en) * 1978-01-25 1979-09-26 Euratom Preparation of selective surfaces for high temperature solar energy collectors

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5487959A (en) * 1977-12-19 1979-07-12 Ibm Base plate for cooling
FR2486656A1 (fr) * 1980-07-09 1982-01-15 Commissariat Energie Atomique Hygrometre capacitif
US4496648A (en) * 1982-03-26 1985-01-29 Sperry Corporation Method of making high reliability lead-alloy Josephson junction
US4486464A (en) * 1982-09-27 1984-12-04 Sperry Corporation Method of making planarizing non-conductive layers employing conductive metals
US4437227A (en) * 1982-10-28 1984-03-20 Sperry Corporation Method of making improved tunnel barriers for superconducting Josephson junction devices

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2115679A5 (en) * 1970-11-30 1972-07-07 Air Liquide Ultra-fine sinter fabrication - by deposition of a metal on a substrate
US4143177A (en) * 1977-01-31 1979-03-06 Panametrics, Inc. Absolute humidity sensors and methods of manufacturing humidity sensors
GB2016527A (en) * 1978-01-25 1979-09-26 Euratom Preparation of selective surfaces for high temperature solar energy collectors

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012014915A1 (de) * 2012-07-29 2014-01-30 Hochschule München Druckgesteuerte Abscheiderate
DE102012014915B4 (de) 2012-07-29 2021-11-18 Hochschule München Verfahren zum Abscheiden eines Aufdampfmaterials auf einem Substrat über eine druckgesteuerte Abscheiderate

Also Published As

Publication number Publication date
US5087480A (en) 1992-02-11
GB8432298D0 (en) 1985-01-30
GB2153390B (en) 1987-03-25
DE3447001C2 (de) 1987-02-19
GB2153390A (en) 1985-08-21
JPS60140609A (ja) 1985-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3724966C2 (de)
DE4023778C2 (de) Kapazitiver Feuchtigkeitssensor und Verfahren zur Herstellung des Sensors
DE69822770T2 (de) Dickschicht-Piezoresistive-Fühleranordnung
DE3630393C2 (de) Widerstandsthermometer
DE68914464T2 (de) Metallisierungssysteme für heiz-/sensorelemente.
DE2507731B2 (de) Messwiderstand fuer widerstandsthermometer und verfahren zu seiner herstellung
EP1236038A1 (de) Kapazitiver sensor
EP0806656A2 (de) Gassensor und Verfahren zur Herstellung eines Gassensors
DE3416108C2 (de)
DE4300084C2 (de) Widerstandsthermometer mit einem Meßwiderstand
EP0046989B1 (de) Selektiver Dünnschicht-Gassensor hoher Empfindlichkeit und Stabilität zum Nachweis und zur Messung von gasförmigen Kohlenwasserstoff-Verunreinigungen in der Luft auf der Basis von Wolframoxid (WOx)-Halbleitern, sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung
DE2436911B2 (de) Verfahren zur herstellung von duennschicht-heissleiterelementen auf der basis von vanadiumoxidmaterial
DE2706070C2 (de) Sonde zum selektiven Detektieren polarer Moleküle in einem Gasgemisch
DE2920446A1 (de) Duennfilm-waermedrucker
DE3519576C2 (de)
CH493909A (de) Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Schichtwiderstandes
DE68903098T2 (de) Verfahren zur herstellung eines sensors zur gasaufspuerung und derartig hergestellter sensor.
DE3504575A1 (de) Feuchtigkeitsempfindliches material und verwendung desselben
EP0278021B1 (de) Dehnungsmessstreifen mit einer dünnen diskontinuierlichen Metallschicht
DE3447001A1 (de) Verfahren zur herstellung einer feuchtigkeitsdurchlaessigen elektrode fuer feuchtigkeitsmessfuehler
EP0366687B1 (de) Herstellung von inerten, katalytisch wirksamen oder gassensitiven keramikschichten für gassensoren
DE1953070C3 (de) Verfahren zum Herstellen eines Tantaloxinitridschicht- widerstandelements
DE3603785C2 (de)
DE3603784A1 (de) Platinwiderstand
DE3410578C2 (de) Dünnfilm-Feuchtigkeitsmeßfühler

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: PATENTANWAELTE MUELLER & HOFFMANN, 81667 MUENCHEN

8339 Ceased/non-payment of the annual fee