DE3318293A1 - Verfahren und vorrichtung zum messen von aberrationen - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zum messen von aberrationenInfo
- Publication number
- DE3318293A1 DE3318293A1 DE19833318293 DE3318293A DE3318293A1 DE 3318293 A1 DE3318293 A1 DE 3318293A1 DE 19833318293 DE19833318293 DE 19833318293 DE 3318293 A DE3318293 A DE 3318293A DE 3318293 A1 DE3318293 A1 DE 3318293A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- lens
- tested
- light
- light beam
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 230000004075 alteration Effects 0.000 title claims description 85
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 21
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 16
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 16
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 1
- 206010073261 Ovarian theca cell tumour Diseases 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 208000001644 thecoma Diseases 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/0257—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested
- G01M11/0264—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested by using targets or reference patterns
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
Verfahren und Vorrichtung zum Messen von Aberrationen
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Messen von Aberrationen in einem Linsensystem.
Das in Fig. 1 der beigefügten Zeichnungen dargestellte Verfahren ist als ein Verfahren zum Messen der
Aberrationen, nämlich der sphärischen Aberration, der . Koma, des Astigmatismus und der Bildfeldkrümmung, in
einem Linsensystem bekannt. In Fig. 1, die ein Beispiel des Standes der Technik zum Messen der sphärischen
Aberration zeigt, bezeichnen die Bezugsziffer 1 eine Punktlichtquelle und die Bezugsziffer 2 ein Kollimatorlinsensystem
zur Kollimation des Lichtes der Lichtquelle 1. Bei 3 ist eine sogenannte Hartmann1sehe Platte angeordnet,
die zur Festlegung der Einfallshöhe des in die Eintrittspupille einer zu prüfenden Linse 4 eintretenden
Lichtes dient. Mit 5 sind lichtempfindliche Flächen bezeichnet, die zur Registrierung des aus der Linse
austretenden Lichtes dienen. Die sphärische Aberration wird unter Verwendung des mit der lichtempfindlichen
Fläche vor der Bildebene der Linse registrierten Lichtes und des mit der lichtempfindlichen Fläche 5, die hinter
jenem Ort um die endliche Strecke d entfernt gelegen
ist, registrierten Lichtes gemessen. D. h., die konjugierten Belichtungspunkte auf den beiden lichtempfindlichen
Flächen sind miteinander verknüpft, wie dieses in Fig. 2 dargestellt ist, wobei die Lichtstrahlverfolgung
bewerkstelligt wird von einer Stellung, bei der die Lichtstrahlen die optische Achse oder die
Bildebene kreuzen, und wobei die resultierenden Daten zur Errechnung der Kurve 6 für die sphärische Aberration
interpoliert worden sind. Dieses Verfahren erfordert jedoch eine genaue Einstellung der beiden Orte für die
lichtempfindlichen Flächen und erfordert auch die Notwendigkeit einer hochgenauen Ablesung der Position
jedes Lichtstrahls zur Lichtstrahlpositionsbestimmung. Darüberhinaus müssen zwei Lichtstrahlpositionen abgelesen
werden, um einen einzelnen Lichtstrahl zu bestimmen. Dieses hat den Nachteil, daß für die Messung
viel Zeit erforderlich ist und daß das Resultat der Messung instabil wird.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Aberrationsmeßverfahren und eine Aberrationsmeßvorrichtung bereitzustellen,
das bzw. die die beschriebenen Nachteile des Standes der Technik nicht besitzen. Insbesondere soll
dabei die Möglichkeit eröffnet werden, das Resultat der Messung durch einen Computer zu verarbeiten.
Die erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist in den Ansprüchen 1 bis 5 alternativ gekennzeichnet.
Beim erfindungsgemäßen Aberrationsmeßverfahren wird eine Punktlichtquelle bei der im Falle einer regulären
Projektion vorhandenen Bildebene der zu prüfenden Linse vorgesehen. Diese Bildebene ist nachstehend einfach
als die Bildebene der zu prüfenden Linse bezeichnet. Es ist dieses also der Ort, wo das Bild eines Objektes
im Vergleich zur tatsächlichen Größe des Objektes verkleinert wiedergegeben wird.
Das durch die zu prüfende Linse gegangene Lichtstrahlenbündel wird in eine Vielzahl vorbestimmter Lichtstrahlen
getrennt, und diese Lichtstrahlen werden an einer Stelle nachgewiesen, die im Abstand gelegen ist von der zur
Positionier Bildebene optisch konjugierten Position und an der die Vielzahl Lichtstrahlen voneinander separiert
und identifiziert werden könne, wodurch Aberrationen gemessen werden. Wenn die Aberrationen der zu prüfenden
Linse bei einer Abbildung ins Endliche zu messen sind, kann ein vergrößertes Bild der Punktlichtquelle
durch die zu prüfende Linse erhalten werden. Sollen aber die Aberrationen der zu prüfenden Linsen bei einer
Abbildung ins Unendliche gemessen werden, dann wird das die prüfende Linse passierende Lichtstrahlenbündel
ein paralleles Bündel, es ist daher eine Kollimatorlinse zum konvergieren dieses parallelen Bündels erforderlich.
In einem solchen Fall kann ein vergrößertes Bild der Punktlichtquelle erhalten werden durch Größermachen der
Kollimatorlinsenbrennweite als die der zu prüfenden Linse,
Wenn das durch die zu prüfende Linse gegangene Lichtstrahlenbündel
in eine Vielzahl Lichtstrahlen getrennt wird/ dann sind diese von einem Hauptstrahl in der hierzu
senkrechten Ebene um eine vorbestimmte Entfernung getrennt oder sind diese von der optischen Achse der zu
prüfenden Linse in der hierzu senkrechten Ebene um einen vorbestimmten Abstand getrennt.
Die Tatsache, daß die erwähnten Lichtstrahlen voneinander getrennt und identifiziert werden können, bedeutet daß
ihre Positionen ermittelt und entsprechend zugeordnet werden können.
Nachstehend ist die Erfindung an Hand der Figuren 3 ff. im einzelnen beschrieben; es zeigen:
Fig. 3 ein Ausführungsbeispiel zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur
Aberrationsmessung im Falle einer Abbildung ins Unendliche,
Fig. 4 bis 7 die Ansichten zur Erläuterung des erfindungsgemäßen Verfahrens unter Verwendung
der Vorrichtung nach Fig. 3,
Fig. 8 eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer automatischen Meßapparatur, die
nach dem erfindungsgemäßen Meßverfahren arbeitet,
Fig. 9 und 10 eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen Meßverfahrens zur Bestimmung der
Aberrationen im Falle einer Abbildung ins Endliche,
Fig.11 eine Ausführungsform für das erfindungsgemäße
Verfahren zum Bestimmen der Aberrationen in einer Linse im Falle einer endlichen Abbildungsentfernung
,
Fig.12 A und 12 B je eine Ansicht, wie eine Hartmann'sehe Platte relativ zur Pupille angeordnet
wird, wenn außeraxiale Aberrationen zu messen sind,
Fig.13 A und 13 B eine Darstellung, wie eine Hartmann'sehe Platte vorgesehen wird,
wenn außeraxiale Aberrationen zu messen sind.
Fig. 3 zeigt eine Ausführungsform des Aberrationsmeßverfahrens und illustriert den Fall einer Aberrationsmessung an einer Linse, die ins Unendliche abbildet,
d. h. das Objekt befindet sich während einer regulären Projektion im Unendlichen. Die Lichtquelleneinheit
11 dieser Apparatur ist eine monochromatische Punktlichtquelle oder Linienlichtquelle. Sie wird durch
eine Glühlampe oder eine Niederdruckentladungslampe, einem monochromatisierenden Filter und einer Nadellochoder
Spaltblende gebildet. Die monochromatische Punkt- oder Linienlichtquelle kann auch mit Hilfe eines
Lasers und eines kurzbrennweitigen Linsensystems gebildet werden. Im Falle einer Linienlichtquelle verläuft
deren Linie senkrecht zur Zeichenebene. Die zu prüfende Linse 12 befindet sich in Abbildungsposition, d. h.
ihre Bildebenenposition fällt mit der Lichtquelle 11
zusammen. Hinter der zu prüfenden Linse 12 ist eine Hartmann'sehe Platte angeordnet. Sie dient zum Trennen
der Lichtstrahlenbündels der Linse 12 in eine Vielzahl
Lichtstrahlen, die von der optischen Achse um einen vorbestimmten Betrag in der zur optischen Achse der
Linse 12 senkrechten Richtung entfernt sind. Die Hartmann'sehe Platte enthält eine Nadelloch-Reihe und
ist in der Nähe der Pupille der die optische Achse
enthaltenden Linse 12 angeordnet. Demgemäß trennt sie
das aus der Linse 12 austretende Lichtstrahlenbündel in eine Vielzahl zu prüfender Lichtstrahlen, die auf
vorbestimmte Höhen gegen die optische Achse begrenzt sind. Hinter der Hartmann'sehen Platte 13 befindet sich
eine Linse 14, deren Aberrationen gut korrigiert sind. Diese Linse wird nachstehend als Kollimatorlinse bezeichnet.
Die Brennweite f der Kollimatorlinse 14 ist
ausreichend größer als die Brennweite f. der zu prüfenden Linse 12. Eine lichtempfindliche Fläche 15 ist ausreichend
weit von der. Kondensierposition der Kollimatorentfernt
linse 14Λ und zwar entweder davor oder dahinter, so daß
die Lichtstrahlen voneinander ausreichend separiert und identifiziert werden können. Das von der Lichtquelle 11
emittierte Lichtstrahlenbündel wird durch die zu prüfende Linse 12 rückwärts projiziert und wird zu einem parallelen
Lichtstrahlenbündel. Aus diesem parallelen Lichtstrahlenbündel werden mit Hilfe der Hartmann'sehen Platte 13 Lichtstrahlen
entsprechend der Höhe der Eintrittspupille der Linse 12 gebildet. Die Eintrittspupille der Linse 12 bedeutet
die Eintrittspupille bei Verwendung der Linse 12 bei der tatsächlich benutzten regulären Projektion, d. h.
derart, daß das Bild des Objektes gegenüber der tatsächlichen Objektgröße verkleinert wird. Die solcherart erzeugten
Lichtstrahlen werden durch die hinter der Hartmann'sehen Platte 13 angeordnete Kollimatorlinse 14
kondensiert und treten in die lichtempfindliche Fläche
15 ein, die vor oder hinter der Bildebene der Kollimatorlinse 14 angeordnet ist. Wenn man annimmt, daß die
Kollimatorlinse 14 im Vergleich zur zu prüfenden Linse
ausreichend gut korrigiert ist, die Linse 12 keine Aberrationen besitzt und die Hartmann'sehe Platte
äquidistant angeordnete öffnungen aufweist, dann werden die auf der lichtempfindlichen Fläche 15 registrierten
Lichtstrahlpunkte je gleich weit voneinander entfernt sein, wie dieses in Fig. 4 dargestellt ist. Wenn aber
eine Aberration (sphärische Aberration) in der zu prüfenden Linse 12 vorhanden ist, werden die Lichtstrahlpunkte
in ungleichen Abständen voneinander liegen, wie dieses in Fig. 5 dargestellt und der Fall beim oben
beschriebenen Stand der Technik ist. Die Größe der Verschiebung dieser ungleichen Intervalle gegenüber den
gleichen Intervallen entspricht der lateralen Aberration, dem Querfehler, der zu prüfenden Linse 12. Das oben
beschriebene Beispiel aus dem Stand der Technik ist vom regulären Projektionstyp, und die Empfindlichkeit,
die die Positionen der Lichtstrahlen bestimmt, muß der geforderten Meßgenauigkeit der lateralen Aberration
entsprechen. Das vorliegende Verfahren ist vom umgekehrten Projektionstyp, wobei eine Punktlichtquelle
bei der Bildebenenposition der zu prüfenden Linse vorgesehen ist.und deshalb die Bestimmung der
Positionen der Lichtstrahlen um die Projektionsver-
größerung vervielfacht wird, also das Bild der Punktlichtquelle generell vergrößert ist. Bei einem System,
bei dem eine Kollimatorlinse wie bei der vorliegenden Ausführungsform benutzt wird, ist, wenn die Brennweite
der Kollimatorlinse f und die Brennweite der zu
prüfenden Linse f. ist, die Größe der Verschiebung gegen gleiche Intervalle der Lichtstrahlen gleich
dem f /f -fachen der zu prüfenden Linse. D. h., wenn die Nachweisempfindlichkeiten der Lichtstrahlpositionen
dieselben sind, liefert das erfindungsgemäße Verfahren eine höhere Nachweisgenauigkeit für die laterale
Aberration. Wenn daher die Nachweisgenauigkeit der sphärischen Aberration dieselbe ist wie bei dem oben
beschriebenen Beispiel des Standes der Technik, dann kann die Koordinatennachweisgenauigkeit von Licht auf
der lichtempfindlichen Fläche 15 entsprechend niedriger
sein. Es gibt auch ein Verfahren zur Bestimmung der sphärischen Aberration, bei dem die lichtempfindliche
Fläche in vorbestimmtem Abstand D von der Kollimatorlinse 14 angeordnet und geometrisch die sphärische
Aberration der zu prüfenden'Linse errechnet wird. Die Genauigkeit, mit der diese lichtempfindliche Fläche
angeordnet wird, ist im Vergleich zu der Genauigkeit, mit der die lichtempfindliche Fläche des vorerwähnten
Beispieles des Standes der Technik angeordnet wird, um einen Betrag größer, der der Längsvergrößerung entspricht,
weil eine Vergrößerungsprojektion bewirkt wird.
D. h., erstere Genauigkeit kann entsprechend niedriger als letztere gewählt werden.
Bei der vorliegenden Erfindung wird das Lichtstrahlenbündel im Rückwärtsprojektionsverfahren nachgewiesen,
und darüber hinaus in einer defokussierten Stelle. Deshalb muß die Lage des Lichtstrahls im Falle einer regulären
Projektion auf der Basis des festgestellten Wertes errechnet werden. Es sei nun als ein Beispiel eines
solchen Verfahrens zur Feststellung der sphärischen Aberration ein Verfahren zum geometrischen Feststellen
der sphärischen Aberration mit in vorbestimmter Lage angeordneter lichtempfindlicher Fläche an Hand von Fig.
beschrieben. In Fig. 6 bedeuten f die Brennweite der Kollimatorlinse, R die Hohe des Loches der Hartmann'sehen
Platte von der optischen Achse, D den Abstand zwischen der Fokuslage der Kollimatorlinse 14 und der lichtempfindlichen
Fläche 15 und L die Lage des Lichtstrahls (strichpunktierte Linie) auf der lichtempfindlichen Fläche 15
wenn keine Aberration in der zu prüfenden Linse vorhanden ist. Bei vorhandener sphärischer Aberration trifft der
Lichtstrahl um eine Strecke.1 gegen den Auftreffpunkt
des idealen Lichtstrahls versetzt auf. Die sphärische Aberration der zu prüfenden Linse wärend der Rückwärtsprojektion,
die diesem Lichtstrahl entspricht, wird durch die Vergrößerung vervielfacht. Der Betrag der
longitudinalen Aberration (Längsfehler) ist als ß und
der Betrag der lateralen Aberration ist als T bezeichnet Die laterale Aberration T kann wie folgt ausgedrückt wer
den:
r= —
f x(L + 1 + R)
f + D
c
c
Hierin haben f , D und R die angegebene Bedeutung und L + 1 ist die Höhe des gemessenen Lichtstrahls. Aus diesem
Wert der lateralen Aberration T kann die Größe der lateralen Aberration γ1 während der regulären Projektion
berechnet werden wie folgt:
Y1= - f1 Y (2)
wobei das Vorzeichen hiervon mitberücksichtigt ist. In dieser Gleichung ist f_, die Brennweite der zu prüfenden
Linse. Auch die Größe der longitudinalen Aberration ß wärend einer Rückwärtsprojektion kann ausgedrückt
werden als
γχ (f
Von dem Wert dieser Größe der longitudinalen Aberration ß kann die Größe der longitudinalen Aberration ß1
während der regulären Projektion gerechnet werden wie folgt:
β« _ -(^i) a χ β (4)
wobei das Vorzeichen hiervon berücksichtigt ist.
Die vorstehenden Erörterungen ist die Beschreibung für einen einzelnen Lichtstrahl, dasselbe gilt aber
auch für alle anderen Lichtstrahlen, die die Hartmann1sehe Platte passiert haben. Es ist daher
durch Verbinden der einzelnen Aberrationspunkte durch eine entsprechende Kurve möglich, die sphärische
Äberrationskurve für die reguläre Projektion zu finden.
In Fig. 6 erfolgte die Beschreibung an Hand des Beispieles der sphärischen Aberration, in ähnlicher
Weise kann aber auch die Koma für außeraxiales paralleles Licht gemessen werden.
Das Verfahren zum Messen der Aberrationsgröße entsprechend Fig. 6 ist eine geometrische Methode. Jedoch
kann die Größe der Aberration während der regulären Projektion auch durch ein Verfahren unter Verwendung
einer Berechnungsformel gefunden werden. Ein Beispiel hierfür ist nachstehend an Hand von Fig. 7 beschrieben.
In Fig. 7 stellt die Ordinate den Wert von L + 1 dar, der der gemessene Wert jedes Lichtstrahls ist, während
auf der Abszisse die Höhe der durch die Hartmann1sehe
Platte gegebenen Pupille gegen die optische Achse ist. Die ausgezogene Kurve gibt die laterale
Aberration für den Fall wieder, bei dem die Größe der lateralen Aberration der zu prüfenden Linse
bei regulärer Projektion mit der Vergrößerung multipliziert wird und wobei ein Defokussierfehler
um D enthalten ist. Die gestrichelte Linie gibt die Lage des Lichtstrahls auf der Defokus-Ebene
wieder, wenn die zu prüfende Linse aberrationsfrei ist. Bezeichnet man den Wert von L + 1 mit
Y (x) und bezeichnet man die Bupillenhöhe mit x, dann kann die Lage jedes Lichtstrahls in polynomer
Annäherung ausgedrückt werden durch:
Y(x) = a,x + a„x + a3x + a.x ... + a χ (5)
Hier stellt der Term erster Ordnung den Defokus dar und ist deshalb im paraxialen Bildpunkc gleich
Null. Weiterhin befindet sich die sphärische Aberration in Berührung mit der x-Achse beim paraxialen BiIdpunkt.
Deshalb ist auch der Term zweiter Ordnung Null. Demgemäß ergibt sich für die laterale
Aberration in der Brennebene der Kollimatorlinse f während einer Rückwärtsprojektion der Ausdruck
3 4 η
(χ) = a3x + a4x + ... + anx . (6)
Aus dieser lateralen Aberration Y(x), errechnet sich
die laterale Aberration Y' (x) für reguläre Projektion wie folgt;
In ähnlicher Weise kann die longitudinale Aberration ß'(x) für reguläre Projektion ausgedrückt werden wie
folgt:
ß' (x) =^ I1 (χ). (8)
Auf diese Weise können laterale und longitudinale
Aberration für reguläre Projektion auch rechnerisch in polynomer Näherung aufgefunden werden.
Bei der vorliegenden Erfindung wird mit Rückwärtsprojektion
gearbeitet, d. h. mit Vergrößerungsprojektion, die Ablesegenauigkeit und die Installationsgenauigkeit
der lichtempfindlichen Fläche 15 kann daher wie erwähnt auch kleiner bleiben„ Demgemäß kann die lichtempfindliche
Fläche 15 durch ein Fotodiodenfela oder dergleichen
gebildet werden, deren Rasterfeinheit geringer ist als die Abbildungseigenschaften der zu prüfenden Linse.
Dieses ermöglicht es, die Ausgangsdaten in einen Mikrocomputer oder dergleichen einzuführen und eine
automatische iiessung durchzuführen, bei der die vox~-
stehend erwähnte Operation ausgeführt wird. Fig. 8 zeigt schematisch eine solche automatische Meßvorrichtung. In Fig. 3 bezeichnen die Bezugsziffer 20
einen Fotodetektor beispielsweise ein Fotodiodenfeld, die Bezugsziffer 21 eine Operationsschaltung, z. B.
ein Mikrocomputer, und die ßezugsziffer 22 ein äußeres
Ausgangsinstrument, beispielsweise eine Kathodenstrahlröhre
oder ein Drucker, der das Resultat der Operation anzeigt. Im Falle einer solchen automatischen rlessung
können Wellenfrontaberrationen insbesondere von geometrisch optischen Aberrationen abgeleitet werden,
Messung und Bewertung des Linsensysteras können daher bezüglich zahlreicher Parameter durchgeführt werden.
Ist die Wellenfrontaberration W(x) zu untersuchen, dann kann die folgende Gleichung benutzt werden:
W(x) = —- ■' Y' (x)dx. (9)
Jo
D. h. die oben erwähnte Polynomgleichung kann in Richtung der Pupillenhöhe integriert werden.
Das erfindungsgemäße Meßverfahren ist im vorstehenden
an Hand des Beispiels einer Messung axialer Aberrationen bei der Objektentfernung unendlich unter Verwendung
einer Kollimatorlinse beschrieben worden. Andererseits
-"2V-
ist die Kollimatorlinse nicht erforderlich, wenn die
Messung bei endlicher Objektentfernung und Vergrößerung durchgeführt wird. Fig. 9 zeigt die Messung axialer
Aberrationen bei Abbildung mit einer endlichen Vergrößerung, und Fig. 10 zeigt die Messung von Aberrationen
für ein außeraxiales Lichtstrahlenbündel bei endlicher Vergrößerung. Die Hartmann'sehe Platte 13 befindet sich
zwischen der zu prüfenden Linse 12 und dem von ihr entworfenen Bild der Punktlichtquelle 11, und zwar ausreichend
dicht bei der zu prüfenden Linse 12, Die Linse
12 entwirft ein vergrößertes Bild der Punktlichtquelle 11. Eine lichtempfindliche Fläche 15 befindet sich in
ausreichend großem Abstand vom Bild der Punktlichtquelle, so daß die von der Hartmann'sehen Platte getrennten Lichtstrahlen
ausreichend weit voneinander separiert sind und identifiziert werden können.
Wachstehend sei nun beschrieben, wie der Wert im Falle
einer regulären Projektion vom in Rückwürtsprojektion
gemessenen Wert der zu prüfenden Linse ermittelt werden kann, wenn das Objekt in endlicher Entfernung liegt,
Fig. 11 zeigt eine Anordnung zum Kessen der Aberrationen der Linse 12 bei endlicher Objektentfernung. In Fig. 11
bedeuten H die Hauptebene der zu prüfenden Linse, f deren Brennweite, y' den Abstand von der einen Brennpunktlage
der Linse 12 zur Punktlichtquelle 11 und y den
Abstand von der anderen Brennpunktlage der Linse zur Kondensierungsstelle G. Die Lageinformation jedes Lichtstrahles
, die an der lichtempfindlichen Fläche 15 gemessen
wird, kann in eine Information über die Konvergenzlage des Lichtstrahls bei der Kondensierungsstelle
G umgesetzt werden, und zwar mit Hilfe des Abstandes zwischen der Hartmann1sehen Platte 13 und
der Kondensierungsstelle G und des Abstandes D zwischen der Kondensierungsstelle G und der lichtempfindlichen
Fläche wie im Falle einer Abbildung ins Unendliche. Wenn die Größe der lateralen Aberration und die Größe der
longitudinalen Aberration an der Kondensierungsstelle G /bzw. ß sind, dann kann die Größe der lateralen
Aberration T1 für reguläre Projektion errechnet werden aus:
während die Größe der longitudinalen Aberration ß'
bei regulärer Projektion errechnet werden kann aus:
ß1 = - i-~)2 ß. (11)
Auch die Polynom-iJäherungsrechnung kann in ähnlicher
iveise wie oben beschrieben durchgeführt werden.
Bei dem vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel sind der in Fig. 3 und 3 dargestellte Fall, bei dem
die Objektentfernung unendlich ist, und der in Fig. und 10 dargestellte Fall, bei dem die Objektentfernung
endlich ist, gesondert dargestellt worden, die Aberrationen müssen aber, wenn die Objektentfernung
geändert wird, in einer einzigen Apparatur gemessen werden. Demgemäß ist die Kollimatorlinse 14 aus dem
optischen Strahlengang herausschwenkbar angeordnet und wird nur in den Strahlengang eingeschwenkt, wenn
die Aberrationen der zu prüfenden Linse für die Objektentfernung unendlich gemessen werden. Auch die Lichtquelle
11, die bei der Bildebenenposition der zu
prüfenden Linse 12 vorgesehen ist, muß in ihrer Lage entsprechend der Änderung der Bildebenenposition geändert
werden, wenn sich die Objektentfernung ändert. Es ist daher notwendig, eine Einrichtung zum Ändern des Abstandes
zwischen Lichtquelle 11 und der zu prüfenden Linse 12 in Richtung der optischen xAchse entsprechend
der Änderung der Bildebenenlage vorzusehen. Ebenfalls ist es notwendig, sowohl die axialen als auch die
außeraxialen Aberrationen der Linse zu messen, und dieses führt zu der iSIotwendigkeit, Mittel zum Ändern
der gegenseitigen Lage zwischen Lichtquelle 11 und Linse 12 in zur optischen Achse senkrechter Richtung
vorzusehen. Die Konvergenzlage der gemessenen Lichtstrahlen ändert sich ebenfalls mit dem Typ der zu
prüfenden Linse und mit einer Änderung der Objektentfernung,
es ist daher wünschenswert, daß die lichtempfindliche Fläche 15 längs des Strahlenganges verschieblich
angeordnet ist.
Wenn ein außeraxiales Lichtstrahlenbündel zu messen ist, wobei der Ort, der den sagittalen Lichtstrahl
bestimmt, durch die Hartmann1sehe Platte begrenzt ist,
wird einerseits der Maximalwert des Durchmessers der Pupille 23 gewählt, wie dieses in Fig. 12A dargestellt
ist und wird andererseits der Hauptstrahl 24 benutzt, wie dieses in Fig. 12B dargestellt ist.
Eine solche Auswahl muß entsprechend den jeweiligen Meßbedingungen getroffen werden.
Figuren 13A und 13B zeigen die Positionen der
Hartmann.1 sehen Platte wenn ein außera:iiales Lichtstrahlenbündel
gemessen wird. Fig. 13A bezieht sich auf den Fall, daß die Hartmann1sehe Platte senkrecht
zur optischen Achse OA der zu prüfenden Linse 12 angeordnet ist, während Fig. 13B den Fall darstellt, daß
die Hartmann1sehe Platte 13 senkrecht zum Hauptstrahl
PA verläuft. In jedem dieser Fälle sind die Öffnungen der Hartmann1sehen Platte so vorgesehen, daß Lichtstrahlen
in vorbestimmten Höhen durchgehen. Anstelle der Hartmann1sehen Platte kann jede Vorrichtung benutzt
werden, die die Funktion einer selektiven
Erzeugung einer Vielzahl Lichtstrahlen vorbestimmter Höher aus einem Lichtstrahlenbündel auszuführen vermag.
Üblicherweise wird, wie oben beschrieben, so vorgegangen,
daß die Lichtstrahlnachweisposition, wobei die Lichtstrahlen ausreichend voneinander separiert
und identifiziert werden können, so gewählt wird,
daß die gegenseitigen Beziehungen zwischen den Lichtstrahlen ebenso wie in dem Fall festgestellt werden
können, wenn das Lichtstrahlenbündel in eine Vielzahl Lichtstrahlen durch die Hartmann'sehe Platte getrennt
wird. Wenn aber die Korrespondenzverknüpfung zwischen jedem Lichtstrahl bei separiertem Lichtstrahlenbündel
und jedem Lichtstrahl an seiner nachgewiesenen Position identifiziert werden kann, dann können die
Lichtstrahlen an jedem Ort nachgewiesen werden, wo sie separiert sind.
Wie beschrieben, erfordert die Aberrationsmessung bei Abbildung ins Unendliche und die Aberrationsmessung bei Abbildung ins Endliche eine bzw.
keine Kollimatorlinse. Es ist deshalb bei der nach dem vorliegenden Verfahren arbeitenden Meßapparatur
bevorzugt, daß die Kollimatorlinse aus dem optischen ileßstrahlengang ausschwenkbar angeordnet ist.
Beim erfindungsgeraäßen Aberrationsmeßverfahren ist
demgemäß das optische System ein Rückwärtsprojektionssystem,
und eine Lichtquelle ist bei der Bildebene der zu prüfenden Linse vorgesehen, wobei die konver-gierenden
oder divergierenden Strahlen, die das vergrößerte und projizierte, durch das vorerwähnte
optische System erzeugte Bild der Lichtquelle liefern, an einer Stelle beobachtet werden, die ausreichend weit
vom Bild der Lichtquelle entfernt ist, so daß die Aberrationen der zu prüfenden Linse geraessen werden
können. Das Verfahren liefert eine hohe Meßgenauigkeit und eignet sich ausgezeichnet für eine Automatisierung
der Messung.
Der Ausdruck Linse, wie er hiern gebraucht wird, umfaßt
selbstverständlich nicht nur Einzellinsen, sondern auch aus mehreren Linsen zusammengesetzte Systeme. Als
typisches Beispiel seien hier nur Kameraobjaktive
genannt.
Claims (6)
1.) Aberrationsmeßverfahren,
gekennzeichnet durch
gekennzeichnet durch
- Anordnen einer Lichtquelle in der Position der Bildebene einer zu prüfenden Linse und Einfallenlassen des Licht-.Strahlenbündels
der Lichtquelle auf die zu prüfende Linse,
- Trennen des durch die zu prüfende Linse gegangenen Lichtstrahlenbündels
in eine Vielzahl von Lichtstrahlen in einer zu einem Hauptstrahl oder der optischen Achse der zu
prüfenden Linse senkrechten Ebene und
- Feststellen dar Position jedes Lichtstrahlenbündels an einer Stellung., die im Abstand gelegen ist von der zur
Bildebenenposition bezüglich der zu prüfenden Linse optisch konjugierten Position und bei der die Vielzahl
von Lichtstrahlen voneinander separiert werden können.
Radeckestraüe 43 8000 München 60 Telefon (OS?) 883603/883604 Telex 5212313 Telegramme Patentconsuit
Sorinenberger Straße 43 6200 Wiesbaden Telefon (06121) 562943/561998 Telex 4186237 Telegramme Patentconsuit
Teletex (CCITT 2) Wiesbaden und München (089) 8344618 Attention Patentconsuit
2. Aberrationsmeßverfahren,
gekennzeichnet durch
gekennzeichnet durch
- Vorsehen einer Lichtquelle in der Bildebenenposition einer zu prüfenden Linse und Umformen des Licht«
Strahlenbündels der Lichtquelle in ein paralleles Lichtstrahlenbündel durch die zu prüfende Linse,
- Trennen des durch die zu prüfende Linse gegangenen . Lichtstrahlenbündels in eine Vielzahl von Lichtstrahlen
in einer zu einem Hauptstrahl oder der optischen Achse der zu prüfenden Linse senkrechten
Ebene,
- Konvergieren der Vielzahl paralleler Lichtstrahlen durch eine Kollimatorlinse, deren Brennweite größer
ist als die der zu prüfenden Linse und deren Aberrationen gut auskorrigiert sind, und
- Feststellen der Position jedes Lichtstrahls in einer Stellung, die im Abstand gelegen ist von der
zur Bildebenenposition bezüglich eines die zu prüfende Linse und die Kollimatorlinse enthaltenden
optischen Systems optisch konjugierten Position und in der die Vielzahl Lichtstrahlen voneinander
separiert werden können.
3. Aberrationsmeßvorrichtung,
gekennzeichnet durch
gekennzeichnet durch
- eine Lichtquelle in der Bildebenenposition einer zu prüfenden Linse, um ein Lichtstrahlenbündel
auf die zu prüfende Linse einfallen zu lassen, Mittel zum Trennen des durch die zu prüfende Linse
gegangenen Lichtstrahlenbündels in eine Vielzahl Lichtstrahlen in einer zu einem Hauptstrahl oder
zur optischen Achse der zu prüfenden Linse senkrechten Ebene und
- einen Lichtstrahlpositions-Detektor in einer Stellung, die im Abstand gelegen ist von der zur
Bildebenenposition bezüglich der zu prüfenden Linse optisch konjugiert ist und in der die Vielzahl
Lichtstrahlen voneinander separiert werden können.
4. Aberrationsmeßvorrichtung,
gekennzeichnet durch
gekennzeichnet durch
- eine Lichtquelle in der Brennebenenlage der zu prüfenden
Linse zu deren Beaufschlagung mit einem Lichtstrahlenbündel
,
■- eine Einrichtung zum Trennen des durch die zu prüfende
Linse in ein Parallelstrahlenbündel umgeformten Lichtstrahlenbündels in eine Vielzahl von Lichtstrahlen in
einer zu einem Hauptstrahl oder der optischen Achse der zu prüfenden Linse senkrechten Ebene,
- eine Lichtstrahlenkondensoreinrichtung zum Kondensieren
der die Lichtstrahlentrenneinrichtung verlassenden Lichtstrahlen, wobei die Lichtstrahlkondensoreinrichtung
eine Brennweite größer als die der zu prüfenden
Linse hat und in ihren Linsenfehlern gut auskorrigiert ist, und
- eine Lichtstrahlpositionsdetektoreinrichtung in einer Stellung, die von der Brennebene der Lichtstrahlkondensoreinrichtung
im Abstand liegt und an der die Lichtstrahlen voneinander separiert werden können.
5. Aberrationsmeßvorrichtung,
gekennzeichnet durch
gekennzeichnet durch
- eine Lichtquelle zum Beaufschlagen der zu prüfenden
Linse mit einem Meßlichtstrahlenbündel, wobei die Lichtquelle bei regulärer Projektion in der Bildebenenposition
der zu prüfenden Linse vorgesehen ist,
- eine Einrichtung zum Ändern des Abstandes zwischen der zu prüfenden Linse und der Lichtquelle entsprechend
einer Änderung der Bildebenenposition der zu prüfenden Linse bei jeder Objektentfernung,
- eine Einrichtung zum Trennen des durch die zu prüfende Linse gegangenen Lichtstrahlenbündels in eine Vielzahl
Lichtstrahlen in einer zu' einem Hauptstrahl oder zur optischen Achse der zu prüfenden Linse senkrechten
Ebene,
- eine Lichtstrahlenbündel-Sammeleinrichtung, die im Strahlengang zurückziehbar angeordnet ist, und zwar
auf der anderen Seite der zu prüfenden Linse bezüglich
der Lichtstrahlenbündeltrenneinrichtung, wobei die Lichtstrahlenbündelsammeleinrichtung im Strahlengang
gelegen ist, wenn das Abbildungsverhalten der zu prüfenden Linsen bei einer Abbildung ins Unendliche
zu prüfen ist, die Aberrationen der Lichtstrahlenbündelsammeleinrichtung gut auskorrigiert sind, die
Brennweite der Lichtstrahlenbündelsammeleinrichtung groß ist im Vergleich zur Brennweite der zu prüfenden
Linse, und
- eine Lichtstrahlpositionsdetektoreinrichtung an einer
. Stelle, die im Abstand gelegen ist von der durch die zu prüfende Linse oder von der zu prüfenden Linse
und der Lichtstrahlenbündelsammeleinrichtung kondensierten Stelle des Lichtstrahlenbündels, und bei der
die Vielzahl Lichtstrahlen voneinander separiert werden können.
6. Aberrationsmeßvorrichtung nach Anspruch 5, gekennzeichnet durch eine Einrichtung zum Errechnen
der Aberrationen für reguläre Projektion auf der Basis der von der Lichtstrahlenpositionsdetektoreinrichtung
gelieferten Information.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57088429A JPS58205834A (ja) | 1982-05-25 | 1982-05-25 | 収差測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3318293A1 true DE3318293A1 (de) | 1983-12-01 |
Family
ID=13942537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19833318293 Ceased DE3318293A1 (de) | 1982-05-25 | 1983-05-19 | Verfahren und vorrichtung zum messen von aberrationen |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4641962A (de) |
| JP (1) | JPS58205834A (de) |
| DE (1) | DE3318293A1 (de) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3629676A1 (de) * | 1986-09-01 | 1988-03-10 | Rodenstock Instr | Einrichtung zur messung der refraktionseigenschaften von brillenglaesern |
| DE4003698A1 (de) * | 1990-02-07 | 1991-08-14 | Wild Heerbrugg Ag | Wellenfrontsensor |
| DE4003699A1 (de) * | 1990-02-07 | 1991-08-22 | Wild Heerbrugg Ag | Verfahren und anordnung zur pruefung optischer komponenten oder systeme |
| WO1995034800A1 (en) * | 1994-06-14 | 1995-12-21 | Visionix Ltd. | Apparatus for mapping optical elements |
| US6515739B2 (en) | 2000-03-24 | 2003-02-04 | Carl-Zeiss-Stiftung | Apparatus and process for spatially resolved refractive power determination |
| DE102007043390A1 (de) | 2007-09-12 | 2009-03-19 | Uvex Arbeitsschutz Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Schutzbrillen mit einer optisch nicht aktiven Sichtscheibe und danach hergestellte Schutzbrille |
| US9442006B2 (en) | 2014-07-18 | 2016-09-13 | Berliner Glas Kgaa Herbert Kubatz Gmbh & Co. | Method and apparatus for measuring the shape of a wave-front of an optical radiation field |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0519162A (ja) * | 1991-05-02 | 1993-01-29 | Asahi Optical Co Ltd | 対物レンズ及び対物レンズの測定方法 |
| JP3140498B2 (ja) * | 1991-05-13 | 2001-03-05 | 旭光学工業株式会社 | レンズの測定方法 |
| US5331394A (en) * | 1992-04-10 | 1994-07-19 | Metaphase Corporation | Automated lensometer |
| US6693704B1 (en) * | 2000-09-26 | 2004-02-17 | Nikon Corporation | Wave surface aberration measurement device, wave surface aberration measurement method, and projection lens fabricated by the device and the method |
| WO2004055472A2 (en) * | 2002-12-13 | 2004-07-01 | Smith Bruce W | Method for aberration detection and measurement |
| US8027813B2 (en) * | 2004-02-20 | 2011-09-27 | Nikon Precision, Inc. | Method and system for reconstructing aberrated image profiles through simulation |
| JP5105719B2 (ja) * | 2004-06-30 | 2012-12-26 | オリンパス株式会社 | 光学部品の評価装置、評価方法及びそれを用いた光軸調整装置 |
| FR2880118B1 (fr) * | 2004-12-23 | 2007-03-02 | Essilor Int | Procede et appareil de mesure locale des caracteristiques de refraction d'une lentille en un ou plusieurs points specifiques de cette lentille |
| EP1785714B1 (de) * | 2005-11-15 | 2017-02-22 | Olympus Corporation | Linsenbewertungsvorrichtung |
| DE102007003681B4 (de) * | 2006-02-10 | 2017-11-30 | Hochschule Bremen | Verfahren und Vorrichtung zur Analyse einer optischen Einrichtung |
| FR2919052B1 (fr) * | 2007-07-19 | 2009-11-06 | Onera (Off Nat Aerospatiale) | Procede d'estimation d'au moins une deformation du front d'onde d'un systeme optique ou d'un objet observe par le systeme optique et dispositif associe |
| JP2008135745A (ja) * | 2007-11-22 | 2008-06-12 | Nikon Corp | 波面収差測定機及び投影露光装置 |
| RU2680657C1 (ru) * | 2018-04-10 | 2019-02-25 | АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО "Научно-исследовательский институт оптико-электронного приборостроения" (АО "НИИ ОЭП") | Способ определения волновых аберраций оптической системы |
| JP6989475B2 (ja) * | 2018-11-09 | 2022-01-05 | 株式会社東芝 | 光学検査装置及び光学検査方法 |
| US10627309B1 (en) * | 2018-12-25 | 2020-04-21 | Newmax Technology Co., Ltd. | Micro-distance lens detection device |
| CN110375964B (zh) * | 2019-07-18 | 2021-01-01 | 浙江大学 | 一种基于扩展奈波尔-泽尼克模式优化相位恢复的波前误差检测装置及检测方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3007125A1 (de) * | 1979-05-18 | 1980-11-20 | Rodenstock Instr Corp | Vorrichtung und verfahren zur bestimmung der brechungseigenschaften einer testlinse |
| US4281926A (en) * | 1978-07-03 | 1981-08-04 | Rodenstock Instruments Corp. | Method and means for analyzing sphero-cylindrical optical systems |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3891322A (en) * | 1973-11-27 | 1975-06-24 | Leitz Ernst Gmbh | Method of locating the plane of sharp focussing of an image and apparatus therefor |
| US4139305A (en) * | 1977-03-28 | 1979-02-13 | Acuity Systems, Incorporated | Apparatus and method for measuring the vertex power of an optical system |
-
1982
- 1982-05-25 JP JP57088429A patent/JPS58205834A/ja active Pending
-
1983
- 1983-05-19 DE DE19833318293 patent/DE3318293A1/de not_active Ceased
- 1983-05-19 US US06/496,208 patent/US4641962A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4281926A (en) * | 1978-07-03 | 1981-08-04 | Rodenstock Instruments Corp. | Method and means for analyzing sphero-cylindrical optical systems |
| DE3007125A1 (de) * | 1979-05-18 | 1980-11-20 | Rodenstock Instr Corp | Vorrichtung und verfahren zur bestimmung der brechungseigenschaften einer testlinse |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| ABC der Optik, Karl Mütze et al., Hrsg., Leipzig f1961, S. 606 * |
| Applied Optics, Vol. 18, No. 22, 15. Nov. 1979, S. 3866-3871 * |
| J. Picht, Meß- und Prüfmethoden der optischen Fertigung, Bd. I, Berlin 1953, S. 104-105 * |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3629676A1 (de) * | 1986-09-01 | 1988-03-10 | Rodenstock Instr | Einrichtung zur messung der refraktionseigenschaften von brillenglaesern |
| DE4003698A1 (de) * | 1990-02-07 | 1991-08-14 | Wild Heerbrugg Ag | Wellenfrontsensor |
| DE4003699A1 (de) * | 1990-02-07 | 1991-08-22 | Wild Heerbrugg Ag | Verfahren und anordnung zur pruefung optischer komponenten oder systeme |
| US5294971A (en) * | 1990-02-07 | 1994-03-15 | Leica Heerbrugg Ag | Wave front sensor |
| WO1995034800A1 (en) * | 1994-06-14 | 1995-12-21 | Visionix Ltd. | Apparatus for mapping optical elements |
| US5825476A (en) * | 1994-06-14 | 1998-10-20 | Visionix Ltd. | Apparatus for mapping optical elements |
| EP1248093A1 (de) * | 1994-06-14 | 2002-10-09 | Visionix Ltd. | Gerät zur topometrischen Erfassung optischer Systeme |
| US6515739B2 (en) | 2000-03-24 | 2003-02-04 | Carl-Zeiss-Stiftung | Apparatus and process for spatially resolved refractive power determination |
| DE102007043390A1 (de) | 2007-09-12 | 2009-03-19 | Uvex Arbeitsschutz Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Schutzbrillen mit einer optisch nicht aktiven Sichtscheibe und danach hergestellte Schutzbrille |
| DE102007043390B4 (de) | 2007-09-12 | 2018-08-30 | Uvex Arbeitsschutz Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Schutzbrillen mit einer optisch nicht korrigierenden Sichtscheibe und danach hergestellte Schutzbrille |
| US9442006B2 (en) | 2014-07-18 | 2016-09-13 | Berliner Glas Kgaa Herbert Kubatz Gmbh & Co. | Method and apparatus for measuring the shape of a wave-front of an optical radiation field |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58205834A (ja) | 1983-11-30 |
| US4641962A (en) | 1987-02-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3610530C2 (de) | ||
| DE3110287C2 (de) | ||
| EP1631809B1 (de) | Verfahren zur bestimmung der abbildungsgüte eines optischen abbildungssystems | |
| DE29813691U1 (de) | Vorrichtung zum Messen und Kartieren von ophthalmologischen Bauteilen | |
| DE2354141C2 (de) | Optisches Meßverfahren zum Untersuchen von Oberflächen und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
| DE10120446A1 (de) | Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Kompensation von in der Projektionsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere für die Mikro-Lithographie, auftretenden Abbildungsfehlern | |
| DE4211875A1 (de) | Optischer Abstandssensor | |
| CH685652A5 (de) | Autofokus-Anordnung für ein Stereomikroskop. | |
| DE60312406T2 (de) | Apparat und Verfahren zur Messung von optischen Eigenschaften eines diffraktiven optischen Elements | |
| DE68913058T2 (de) | Vorrichtung zur Teilchenmessung. | |
| DE102013004043A1 (de) | Messverfahren für eine asphärische Oberfläche, Messvorrichtung für eine asphärische Oberfläche, Fertigungsvorrichtung für ein optisches Element und optisches Element | |
| DE69318656T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der optischen eigenschaften einer linse | |
| DE4228388A1 (de) | Vorrichtung zur Bestimmung von Partikelgrößen und/oder Partikelgrößenverteilungen | |
| DE2847718A1 (de) | Vorrichtung zur gleichzeitigen fluchtungs- und richtungsmessung | |
| DE102018201211A1 (de) | Chromatisch konfokaler Multispotsensor zur Bestimmung von Koordinaten eines Messobjekts | |
| DE2653590A1 (de) | Vorrichtung zum ermitteln von fehlern in flaechenhaften mustern, insbesondere in photomasken | |
| EP1922587B1 (de) | Verfahren zur bestimmung der intensitätsverteilung in der bildebene einer projektionsbelichtungsanlage | |
| DE3625267C2 (de) | ||
| DE4038123A1 (de) | Differentialrefraktometer | |
| DE3233636C2 (de) | Verfahren zur Bestimmung des Scharfeinstellzustandes einer Kamerea | |
| DE102014010667B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Form einer Wellenfront eines optischen Strahlungsfeldes | |
| DE4439307A1 (de) | 3D - Oberflächenmeßgerät mit hoher Genauigkeit | |
| DE68926721T2 (de) | Verfahren und Gerät zur Charakterisierung von optischen Systemen | |
| DE3331264C2 (de) | ||
| DE3333830C2 (de) | Verfahren zur Laserentfernungsmessung mit hoher Auflösung für den Nahbereich |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8131 | Rejection |