DE3211312A1 - Photoempfindliche harzzusammensetzung - Google Patents
Photoempfindliche harzzusammensetzungInfo
- Publication number
- DE3211312A1 DE3211312A1 DE19823211312 DE3211312A DE3211312A1 DE 3211312 A1 DE3211312 A1 DE 3211312A1 DE 19823211312 DE19823211312 DE 19823211312 DE 3211312 A DE3211312 A DE 3211312A DE 3211312 A1 DE3211312 A1 DE 3211312A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- naphthyl
- dimer
- polycyclic
- aryl
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 21
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims description 59
- -1 2-naphthyl-4,5-diphenylimidazolyl Chemical class 0.000 claims description 58
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- BADXJIPKFRBFOT-UHFFFAOYSA-N dimedone Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(=O)C1 BADXJIPKFRBFOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 12
- SEOVTRFCIGRIMH-UHFFFAOYSA-N indole-3-acetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(=O)O)=CNC2=C1 SEOVTRFCIGRIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- SIVZFLKJXSKCGT-UHFFFAOYSA-N 2-(naphthalen-1-ylamino)acetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(NCC(=O)O)=CC=CC2=C1 SIVZFLKJXSKCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 239000003617 indole-3-acetic acid Substances 0.000 claims description 6
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 claims description 5
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical compound O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 36
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 19
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 241000754269 Medon Species 0.000 description 5
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 3
- MNCMBBIFTVWHIP-UHFFFAOYSA-N 1-anthracen-9-yl-2,2,2-trifluoroethanone Chemical group C1=CC=C2C(C(=O)C(F)(F)F)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 MNCMBBIFTVWHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILLCGAJCYFLVSV-UHFFFAOYSA-N 2-butylsulfanylacetic acid Chemical compound CCCCSCC(O)=O ILLCGAJCYFLVSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPLUXVNHIYMIKN-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-1-yl-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=2C=CC=CC=2)NC(C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)=N1 NPLUXVNHIYMIKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical class [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 2
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 2
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical class BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Chemical class 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Chemical class 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- HGDULKQRXBSKHL-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(CC)(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C HGDULKQRXBSKHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMKLTEGSALONPH-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrazinane-3,6-dione Chemical compound O=C1NNC(=O)NN1 XMKLTEGSALONPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C=C NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 1-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(C=O)=CC=CC2=C1 SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJKVFARRVXDXAD-UHFFFAOYSA-N 2-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=O)=CC=C21 PJKVFARRVXDXAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKHQIABCPCWNJ-UHFFFAOYSA-N 3-[bis[5-(diethylamino)-2-methylphenyl]methyl]-n,n-diethyl-4-methylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C)C(C(C=2C(=CC=C(C=2)N(CC)CC)C)C=2C(=CC=C(C=2)N(CC)CC)C)=C1 BVKHQIABCPCWNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUNMCYJLHHYTKG-UHFFFAOYSA-N 3-[bis[5-(dimethylamino)-2-methylphenyl]methyl]-n,n,4-trimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C)C(C(C=2C(=CC=C(C=2)N(C)C)C)C=2C(=CC=C(C=2)N(C)C)C)=C1 AUNMCYJLHHYTKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 1
- GZEYLLPOQRZUDF-UHFFFAOYSA-N 7-(dimethylamino)-4-methylchromen-2-one Chemical compound CC1=CC(=O)OC2=CC(N(C)C)=CC=C21 GZEYLLPOQRZUDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDEXSAZMCCVMJM-UHFFFAOYSA-N 7-(dipropylamino)-4-methylchromen-2-one Chemical compound CC1=CC(=O)OC2=CC(N(CCC)CCC)=CC=C21 QDEXSAZMCCVMJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical class [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001828 Gelatine Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenylthiourea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 230000002292 Radical scavenging effect Effects 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- AOPPUZRTOPMJPH-UHFFFAOYSA-N acetic acid;5-chloro-1h-indole Chemical compound CC(O)=O.ClC1=CC=C2NC=CC2=C1 AOPPUZRTOPMJPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- YMNKUHIVVMFOFO-UHFFFAOYSA-N anthracene-9-carbaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(C=O)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 YMNKUHIVVMFOFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010420 art technique Methods 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- AFYCEAFSNDLKSX-UHFFFAOYSA-N coumarin 460 Chemical compound CC1=CC(=O)OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C21 AFYCEAFSNDLKSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- GYKRDEBTTIDYEQ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(naphthalen-1-ylamino)acetate Chemical compound C1=CC=C2C(NCC(=O)OCC)=CC=CC2=C1 GYKRDEBTTIDYEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPKFLEVLLPKCIW-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-(diethylamino)benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 XPKFLEVLLPKCIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical class F* 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- NRZLHHHHUNKJOP-UHFFFAOYSA-N methyl 4-(diethylamino)benzoate Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 NRZLHHHHUNKJOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000004002 naphthaldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- KFDFYCRDUBAKHD-UHFFFAOYSA-M sodium;carbamate Chemical compound [Na+].NC([O-])=O KFDFYCRDUBAKHD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
- Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
ο... . ί ο I Z
dr. V. SCHMIED-KOWARZIK · dr. P. WEINHOLD · dr. P. BARZ · München
DIPL.-ING. G. DANNENBERG · dr. D. GUDEL- dipl.-ing. S. SCHUBERT · Frankfurt
SIEGFRIEDSTRASSE β
eOOO MÖNCHEN 4O
TELEFON: (089) 335024 + 335025 TELEGRAMME: WIRPATENTE
TELEX: 5215679
Wd/Sh
Ref: 5o2279
TOYO BOSEKI KABUSHIKI KAISHA No. 2-8, Dojimahama 2-chome
Kita-ku, Osaka-shi, Osaka-fu Japan
Kita-ku, Osaka-shi, Osaka-fu Japan
Photoempfindliche Harzzusammensetzung,
-X-
Die Erfindung bezieht sich auf eine photoempfindliche Harzr zusammensetzung. Insbesondere bezieht sie sich auf eine
photoempfindliche Harzzusammensetzung, die ein Photopolymeri-5sations-Initiatorsystem
umfaßt, welche eine hohe Empfindlichkeit gegenüber UV-Strahlen aufweist und welche
thermisch stabil ist.
• Es ist bekannt, daß photoempfindliche Harzzusammensetzungen
10gewöhnlich eine photopolymerisierbare, äthylenisch ungesättigte
Verbindung, ein Bindemittel und ein Photopolymerisations-Initiierungsmittel
umfassen. Solche Zusammensetzungen werden zur Herstellung von Relief-Druckplatten, zur Reproduktion
von Bildern etc. verwendet. Für diesen Anwendungszweck wird die Zusammensetzung als eine Schicht ausgebildet
und wird durch einen positiven oder negativen Film oder eine Maske als Vorlage belichtet. Dies führt dazu, daß der
Photopolymerisationsinitiator in der Zusammensetzung durch Licht aktiviert wird, wodurch die Additionspolymerisation
der äthylenisch ungesättigten Verbindung initiiert wird. Nach ausreichender Belichtung wird das erzeugte latente
Bild mithilfe eines zweckmäßigen Verfahrens wie z. B. Auswaschen mit einem Lösungsmittel, selektives Entfernen,
thermische Übertragung oder Anwendung eines Pigments in ein sichtbares Bild umgewandelt.
i
Als Photopolymerisationsinitiator für eine photoempfindliche j
'-. Harzzusammensetzung,, die eine photopolymerisierbare, äthylenisch
I
ungesättigte Verbindung umfaßt, werden gewöhnlich verwendet: !
Benzoinalkyläther, Benzophenone etc. Jedoch wird die
Polymerisationsinitior-Wirksamkeit eines solchen Photopolymerisationsinitiators
stark geschwächt durch den Einfluß von Sauerstoff, der in der Zusammensetzung gelöst ist sowie
auch durch Sauerstoff in der Luft, der in die Zusammensetzung diffundiert. Aus diesem Grund besteht ein Bedarf nach einem
hochempfindlichen Photopolymerisationsinitiator, der kaum
durch Sauerstoff beeinflußt wird oder der eine sehr viel höhere Radikal-bildungs-Geschwindigkeit als die ßadikal-abfang-Geschwindigkeit
mit Sauerstoff besitzt.
3-24
Diese Anforderung ist insbesondere dann wichtig, wenn die Schicht einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung relativ
dünn ist, so daß der Einfluß durch Luft.an der 5Oberfläche groß ist, oder dann, wenn die Schicht einer
photoempfindlichen Harzzusammensetzung eine relativ große Menge eines UV-Strahlen-absorbierenden Materials umfaßt
(wie z. B. ein Pigment), so daß eine ausreichende Menge an UV-Strahlen nicht bis zum unteren Teil der Schicht vordringen
10kann.
In der japanischen PA 37377/70 wird die Kombination von 2,4,5-Triphenylimidazolyldimer mit Leuko-Farbstoff beschrieben
in der japan. PA 38403/73 wird die Kombination von 2,4,5-Triphenylimidazolyldimer mit Michler's Keton be-
15
schrieben; diese genannten Kombinationen erfüllen diese
Anforderung in einem gewissen Maße. Jedoch sind selbst diese Photopolymerisationsinitiator-Systeme nicht ausreichend
bei der Härtung einer Schicht einer phosphorempfindlichen Harzzusammensetzung mit geringer Dicke aber hohem Gehalt an
UV-absorbierendem Material wie z.B. einem Pigment, wirksam.
j Kürzlich ist die Kombination von 2-polycyclisches-Aryl-4,5 diphenylimidazolyldimer
mit einer heterozyklischen, organischen Mercaptanverbindung vorgeschlagen worden (japan. Pa 34707/1979
[ - noch nicht geprüft -); diese Kombination bringt einigermaßen
befriedigende Ergebnisse.
I Daneben sollte eine photoempfindliche Harzzusammensetzung ;
gute thermische Stabilität aufweisen. Ist die thermische Stabilität der Zusammensetzung schlecht , erfolgt die
30
Polymerisation durch Dunkelreaktion, so daß sich die Eigenschaften wie Empfindlichkeit im Laufe der Zeit selbst
bei Zimmertemperatur verschlechtern. Bei Bestrahlung mit aktivierendem Licht produziert ein Photopolymerisationsinitiator
Radikale, welche die Additionspolymerisation
I
durch Kettenbildung initiieren. Die gleiche Reaktion wie ; oben kann auch durch Wärme in die Wege geleitet werden. |
Es ist daher sehr schwierig, einen Photopolymerisations- ; initiator zu finden, der sowohl hohe Empfindlichkeit als
' auch gute thermische Stabilität aufweist.
• Λ * ·
Als Ergebnis umfangreicher Studien bei der Suche nach einem Photopolymerisationsinitiatorsystem mit hoher Empfindlichkeit
und guter Wärmestabilität wurde gefunden, daß die Kombination eines 2-polycyclische^-Aryl-4,5-diphenylimidazolyldimers mit
einem bestimmten, spezifisch Radikale produzierenden Mittel diesen Anforderungen entspricht.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung 10 einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung, welche
umfaßt:
(1) eine äthylenisch ungesättigte Verbindung, die zur Bildung einer hochmolekularen Verbindung additionspolymerisiert
werden kann, wobei die Additionspolymerisation auf der Basis von freien Radikalen und durch Kettenwachstum
initiiert wird,
(2) ein 2-polycyclisches-Aryl-A,5-diphenylimidazolyldimer,
worin die polycyclisch^ Arylgruppe wenigstens zwei aneinander kondensierte Benzolringe umfaßt und
20 (3) mindestens eine Verbindung aus der Gruppe:
Diraedon, Indolessigsäure, N-Naphthylglycin, S-Niederalkylthioglycolsäure,
A,4'-Bis(di(nieder)alkylamino)benzyl,
p-Di(nieder)alkylaminobenzoeester, Leukocrystalviolett,
Indoxylsäure, Rhodanin, 7-Di(nieder)alkylaminocumarin
25 und Diarylthioharnstoff und deren Derivate, wobei das Molverhältnis der Komponenten (2) und der
Komponenten (3) zwischen 2 : 1 bis 1 : '5 beträgt.
Das 2-polycyclisches- Aryl-4 ,5-diphenylimidazolyldimer
30 hat die folgende Formel:
Aryl
worin Aryl einen kondensierten Ring ans wenigstens
2 Benzolringen bedeutet und worin Aryl und zwei Phenylgruppen gegebenenfalls substituiert sein können.
Zur Verbesserung der Wärmestabilität ist Aryl vorzugsweise durch ein Halogenatom wie z. B. Fluor, Chlor oder Brom
mindestens in der Ortho-Stellung substituiert. Das Phenyl muß nicht unbedingt substituiert sein, wird·
jedoch vorzugsweise durch C1-CU-Alkoxy und/oder Halogen
(z. B. Fluor, Chlor, Brom) in der Meta-Stellung substituiert.
Spezifische Beispiele von 2-polycyclische.s·-Aryl»4,5-diphenyl~
imidazolyldimeren sind 2-(1»Naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer,
2-(2-Naphth,yi ) -4 ,5-diphenylimidazolyldimer,
2-(9-Anthryl)-4,5-diphenylimidazolyldimer, 2-Pyrenyl-4,5-diphenylimida
zolyldimsr, 2-(9-Phenanthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer
, 2-(2-Chlor-1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer,
2-(2-Brom-1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer, 2-(2-Fluor-1-naphthyl)4,5-diphenylimidazolyldimer,
2-(1-Chlor-2-naphthyl) 4,5-diphenylimidazolyldimer, 2-(2 ^4-Dichlor-1-naphthyl)-4 ,5-diphenylimidazolyldimer,
2-(1-Napthyl)-4-5-di(m-methoxyphenyl)
imidazolyldimer, 2-( 1-Chlor-2-naphthyl)-4,5-di (m-methoxyphenyl|)
ι imidazolyldimer, 2-(1-Naphthyl)-4,5-di(m-chlorphenyl)imida-25
zolyldimer, 2-( 10-Chlor-9-phenanthryl) -4 ,5-diphenylimidazolyl-j
dimer etc.
nie Wirksamkeit des Polymerisationsinitiators und die
thermische Stabilität variieren über einen weiten Bereich, je nach Art der Substituenten in der 2-Stellung des Imida-
zolylringes, d. h. der Arylgruppe mit wenigstens zwei aneinander kondensierten Benzolringen, sowie je nach Art
des Radikale-produzierenden Mittels. Jene Photopolymerisationsinitiatoren mit polycyclischen Arylgruppen haben eine
wesentlich höhere Wirksamkeit und thermische .Stabilität
als jene mit einer monocycliscnen Arylgruppe 'in Kombination
mit dem bestimmten spezifischen, Radikale-produzierenden
erfindungsgemäßen Mittel verwendet.
Das 2-polycyclisches-Aryl-4,5-diphenylimidazolyldimer kann
nach dem von Hayashi et al in Bull. Chem . Soc. Japan, 33,
565 (I960) beschriebenen Verfahren hergestellt werden: ein polycyclische Arylaldehyd und Benzil oder deren Derivate
werden in Anwesenheit einer überschußmenge an Ammoniumacetat unter Rückfluß erhitzt, um 2-polycyclisches-Aryl-4,5-Diphenylimidazol
zu erhalten. Diese Verbindung wird in einer äthanolischen Lösung von Kaliumhydroxid gelöst,
danach wird unter Kühlen mit Eis Sauerstoff zugeführt, während eine wässrige Lösung von Kaliumferricyanid tropfenweise
zugegeben wird. Als polycyclischer Ausgangs-Arylaldehyd kann verwendet werden: 1-Naphthylaldehyd, 2-Naphthylaldehyd,
9-Anthrylaldehyd, Pyrenylaldehyd etc. Diese Stoffe
können gegebenenfalls Substitutenten aufweisen
wie z. B.: Niederalkyl, Niederalkoxy und Halogen an der Phenylgruppe und/oder an der polycyclischen Arylgruppe
Als ein Radikale-produzierendes Mittel können z. B, verwendet werden: Amine, insbes, tertiäre Amine, Leuko-Farbstoffe,
halogenisierte Kohlenwasserstoffe, N-Phenylglycin, Dimedon, Thioharnstoffe, etc. Unter den verschiedenen,
j I
j Radikale-produzierenden Mitteiln wurden als hervorragend '
j i
geeignet gefunden: Dimedon, Indolessigsäure, N-Naphthylglycin,
; S-Niederalkylthioglycolsäure, 4,4'-Bis(di(nieder)alkyl-
|25 amino)benzyl, p-Di(nieder)alkylaminobenzoeester, Leukocrystall-
! violett, Indoxylsäure, Rhodanin, 7-Di(nieder)alkylaminocumarin
! und Diarylthioharnstoff und deren Derivate in kombinierter
Verwendung mit dem 2-polycyclisches-Aryl-4,5-diphenylimidazo-.
lyldimer. Spezifische Beispiele von Radikale-produzierenden Mitteln sind: Dimedon, Rhodanin, N-Naphthylglycin, N-Naphthylglycinäthylester,
7-Dimethylamino-4-methylcumarin, 7-Diäthylamino-4-methylcumarin, 7-Dipropylamino-4-methylcumarin
, Diphenylthioharnstoff, Di-m-chlorphenylthioharnstoff,
Methyl-p-diäthylaminobenzoat, Äthyl-p-dimethylaminobenzoat,
Tri (p-diäthylamino-o-tolyl) methan , TrI (p-dimethylamino-o-tolyl)methan,
p-Dimethylaminobenzilidenrhodamin. 1-Chlor'indoxylsäüre, I
2-Chlorindoxylsäure, A,4'-Bis(diäthylamino)benzyl,
; 5-Chlorindolessigsäure, Leukokristallviolett etc.
; +^ Unter "Niederalkyl" v/erden Alkylgruppen mit 1-6, insbes. 1-3
oder 4 Kohlenstoffatomen verstanden.
ι Das Molverhältnis von 2-polycyclisches-Aryl-4,5-Diphenylimi~
dazolyldimer und dem Radikale-produzierenden Mittel beträgt gewöhnlich zwischen 2 : 1 bis 1:5. Beträgt das MoI-verhältnis
mehr als 2:1, ist die Empfindlichkeit der Harzzusammensetzung verringert. Da die Verwendung eines
Radikale-produzierenden Mittels in großem Überschuß nicht ökonomisch ist, beträgt die untere Grenze des Molverhältnisses
vorzugsweise 1:5.
Die erfindungsgemäße photoempfindliche Harzzusammensetzung umfaßt zusätzlich zu dem Photopolymerisationsinitiatorsystem
eine äthylenisch ungesättigte Verbindung und gegebenenfalls ein Bindemittel.
Als äthylenisch ungesättigte Verbindung, dessen Polymerisation durch freie Radikale initiiert, / eirie hochmolekulare
Verbindung durch Additionspolymerisation erhalten wird;· seien beispielhaft genannt: Alkyl-oder Cycloalkylacrylate
20(z. B. Cyclohexylacrylat, Decylacrylat, Laurylacrylat),
Hydroxyalkylacrylate (z. B. 2-Hydroxyäthylacrylat), Aminoalkylacrylate
(z. B, N/N-Dimethylaminoäthylacrylat), Alkoxyalkylacrylate
(z. B. 2-Methoxyäthylacrylat), Epoxyalkylacrylate
(ζ. B. Glycidylacrylat), Halogenalkylacrylate (ζ. Β«
„,. 2-Chloräthylacrylat) polyfunktismelle Acrylate .(z. B.
Trirnethylolpropantriacrylat, Trimethylölpropantrimeth- J
acrylat, Triäthylenglycoldimethacrylat), etc. ,
Es können auch thermoplastische Polymere mit äthylenisch j ungesättigten Gruppen an der Seitenkette z.B. mit der folgenden
Formel verwendet werden:
CH3
—{-O-x7 Vc-''"' Vo-CH--CH-CH- ~3
or {-CH,-CH~l·—-
^^ \=/ I V=:.'' 3| 2 n . 2 j n
CH3 0OC-CH=CH2 0OC-C=CH2
CH3
jz. ι I ο I Z
Das Bindemittel als gegebenenfalls zuzugebende Komponente dient der Regulierung der physikalischen Eigenschaften der
photoempfindlichen Harzzusammensetzung; es können als Bindemittel verschiedene, lösliche Polymere verwendet werden.
Spezifische Beispiele von Bindemitteln sind solche, die in einem Lösungsmittel zusammen mit der äthylenisch ungesättigten
Verbindung (unabhängig davon ob sie an die äthylenisch ungesättigten Verbindung gebunden oder nicht gebunden
10sind) bei Bestrahlung unlöslich werden, wie z. B. Polyamide, Polyacrylester, Acrylsäure/Alkylacrylat-Mischpolyme-·
re, Methacrylsäure/Alkylmethacrylat-Mischpolymere, Polyvinylphenole,
Polyvinylester, Polyacrylamide, Polyvinylalkohole, Polyäthylenoxide, Gelatine, Zelluloseester, Zelluloseäther
15etc.
Geeignete Bindemittel sind Polymere mit einer Carboxylgruppe, einer Phenolgruppe oder einer Sulfonsäuregruppe oder mit
einem Stickstoffatom, das mit einer Säure quarternisierbar 20ist. Die Polymere mit einer Carboxylgruppe, einer Phenolgruppe
oder einer Sulfonsäuregruppe sind mit einer wässrigen alkalischen Lauge entwickelhar und können mit Wasser ausgewaschen
oder fixiert werden. Die Polymere mit einem quarternisierbaren Stickstoffatom sind mit einer wässrigen sauren Lösung
entwickelbar und können mit Wasser ausgewaschen oder fixiert werden.
Die photoempfindliche erfindungsgemäße Harzzusammensetzung kann zur Herstellung von Druckmaterialien wie z. B.
Druckplatten (z. B. eine Refief-Druckplatte, eine litho-
graphische Druckplatte etc), einem Silber-freien Litho-Film
: und einer Farbkorrekturmaske sowie auch als Materialien ! in der Elektronik wie z. B. als Flüssig- -oder Pilmphotoresist
: und als Lötmaske.
j 35
Ein typisches Beispiel der Gewichtsteile der Komponenten in der photoempfindlichen erfindungsgemäßen Harzzusammensetzung,
die wie obenstehend verwendet werden kann, ist:
die kombinierte Menge des 2~polycyclisches-Aryl-4,5-diphenylimidazolyldimers
und des Radikale-produzierenden Mittels beträgt 0,3 bis 15 Gew.-% (bezogen auf das Gesamtgewicht
der Zusammensetzung), die äthylenisch ungesättigte Verbindung beträgt 30 bis 80 Gew.-%, das Bindemittel 0-60 Gew.-%,
vorzugsweise 10-60 Gew,-%.
In die erfindungsgemäße photoempfindliche Harzzusammensetzung
können gegebenenfalls verschiedene andere Additive zusätzlich eingearbeitet werden. Beispiele solcher Additive
sind Ruß, Titanoxid, Metall- oder Metalloxidpulver,,
lichtabsorbierende Mittel wie Pigmente und Farbstoffe, verschiedene Energie-leitende Farbstoffe, Sauerstoffabfangmittel,
Kettenübertragungspromotoren, Thermopolymerisationsinhibitoren etc.
Diese Additive werden gewöhnlich in die erfindungsgemäße photoempfindliche Harzzusammensetzung in kleinen Mengen
bis zu 3 % eingearbeitet. Werden Pigmente inkorporiert, beträgt deren Menge gewöhnlich zwischen 5 bis 75 % bezogen
auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung wenn es um die Herstellung von durch UV-Strahlung ·
härtbare Farben . . oder Druckfarben oder um Zusammensetzungen zur Herstellung von Silber-freien Lithofilmen
etc. geht. Zur Herstellung von bilderzeugenden Platten kann die photoempfindliche Harzzusammensetz.ung auf ein
beliebiges Substrat aufgetragen werden, um eine Beschichtung zu bilden oder zu einer Folie geformt werden.
Bei Verwendung einer photopolyrnerisierbaren b"<
ι ^erzeugenden Platte wird die Platte durch einen geeigneten,ein Bild tragenden
Film oder eine ein Bild tragende Maske belichtet und nachfolgend zur Erzeugung eines sichtbaren Bildes
entwickelt. Wie bereits ausgeführt wurde, besitzt das erfindungsgemäße Photopolymerisations- Initiatorsystem
eine hohe Empfindlichkeit, so daß das Härten der bilderzeugenden Platte durch Belichten innerhalb eines kurzen
Zeitraums erreicht werden kann. Weiterhin besitzt das
Photopolymerisations-Initiatorsystem eine gute thermische
Stabilität. Dadurch verschlechtert sich die· Leistung der bilderzeugenden Platte nach Lagerung über einen Zeitraum
von mehr als einem Jahr bei Zimmertemperatur kaum.
Die folgenden Beispiele zeigen praktische und bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung. Angaben von Prozenten und
Teilen beziehen sich auf das Gewicht., sofern nichts anderes angegeben ist.
Herstellung von 2-(1-Naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer
Eine Lösung von Benzil (16,8 Teile), Naphthaldehyd
(12,5 Teile) und Ammoniumacetat (48 Teile) in Eisessig (400 Teile) wurden 1,5 STunden unter Rückfluß erhitzt.
Die Reaktionsmischung wurde in kaltes Wasser gegeben, der Niederschlag durch Filtration gesammelt, mit Wasser gewaschen
und getrocknet. Das getrocknete Produkt (26 Teile) wurde
aus Äthanol umkristallisiert und man erhielt 2-(1-Naphthyl)-4,5-diphenylimidazol.
Schmelzpunkt: 290 ° C.
Schmelzpunkt: 290 ° C.
Das wie oben erhaltene 2-(1-Naphthyl)-4,5-diphenylimidazol
(4 Teile) wurde in einer Lösung von Kaliumhydroxid (48 Teile)! in Äthanol (400 Teile) gelöst. Während die Lösung bei
einer Temperatur zwischen 0 und 5° C gehalten wurde, wurde in diese Lösung Sauerstoffgas mit einer Geschwindig-
3Q keit von 400 Volumenteilen/Min, eingeführt, wobei
eine 1 %ige wässrige Kaliumferricyanidlösung (1800 Teile)
innerhalb von 3 STunden tropfenweise unter Rühren zugegeben wurde. Die Reaktionsmischung wurde filtriert und die so
gesammelte Substanz wurde mit Wasser gewaschen, getrocknet
3C und aus Benzol nmkrictallisiert. Man erhielt 2-(1-Naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer.
An der verbrauchten Menge an Hydrochinon unter UV-Bestrahlung wurde eine Reinheit von
79 % gemessen.
···' ·· Jz ι 1 3
Vergleich der Photopolymerisationsinitiator-Wirksamkeit
zwischen 2-polycyclisches Aryl-A,5-diphenylimidazolyldimer
und 2,k ,5-Triphenylimidazolyldinier.
zwischen 2-polycyclisches Aryl-A,5-diphenylimidazolyldimer
und 2,k ,5-Triphenylimidazolyldinier.
Es wurden die folgenden zwei Zusammensetzungen verwendet,
die eine äthylenisch ungesättigte Verbindung und einen
Photopolymerisationsinitiator enthielten. Es wurde deren
Verhalten beim Mischen der genannten Monomeren mit dem
Photopolymerisationsinitiator beobachtet:
die eine äthylenisch ungesättigte Verbindung und einen
Photopolymerisationsinitiator enthielten. Es wurde deren
Verhalten beim Mischen der genannten Monomeren mit dem
Photopolymerisationsinitiator beobachtet:
Trimethylolpropantriacrylat -27,0 g
152-(1-Naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer 8,05 g
N-(1-Naphthyl)glycin 2,70 g
Trimethylolpropantriacrylat 27,0 g 202-(o-Chlorphenyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer 7,98 g
N-Cl-Naphthyl)glycin 2,63 g
Hei der Zusammensetzung A brachte das Mischen eine
rasche und unmittelbare Wärmeentwicklung unter Entwicklung
von weißem Rauch hervor und die Polymerisation schritt bis zur Erstarrung fort.
Bei der Zusammensetzung B ergab das Mischen keine Veränderung,
und es blieb der flüssige Zustand erhalten. '
Zur Bestimmung der Wirksamkeit des Photopolymerisationsinitiator-Systems
aus 2- (2-Chlor-i-naphthyl) -4 ,5-diphenylimidazoly-l·
dimer, und Dimedon, Indolessigsäure, N-Naphthyl.glycin, S-n-Bu-.
35tylthioglykolsäure, 4,4'-Bis(dimethylamine)benzyl, p-Dialkyl- ;
aminobensioeöBter, Loukoerytitaflvlolestt ©d©e IncU>xyl@äuEci t wob©i
diese Kombination insgesamt in einer Menge von 1Q Teilen j
verwendet wird, wird das Initiatorsystem zu einer Mischung
der folgenden Materialien hinzugefügt:
der folgenden Materialien hinzugefügt:
Methylmethacrylat/Methacryl- 54,2 Teile
säure (Molverhältnis 70/30)
Copolymer
5
Copolymer
5
Ethylenglykoldiacetat 3,8 Teile
Trimethylolpropantriacrylat 32,0 Teile
Methanol 217,0 Teile
Methylenchlorid 136,0 Teile
Nach einem ausreichenden Vermischen wird, die erhaltene
Mischung von einem transparenten Film aus Polyethylenterephthalat einer Dicke von 125 ^u aufgebracht, wobei ein Überzug
mit einer Dicke von 5 p. nach dem Trocknen mit Heißluft
erhalten wurde. Dann wurde eine 10-%ige wässrige Lösung
von Polyvinylalkohol (vollständig verseift, Polymerisationsgrad: 500) aufgetragen, um ei'ne Uberzugsschicht einer Dicke
von 2 μ herzustellen. Dadurch wurde eine klare Testprobe
erhalten.
Auf eine derartig klare Testprobe wurde ein. 21 >/*2 Stufenkeil
(Graufilmskala, hergestellt von Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.) als Negativfilm gelegt, worauf eine 1-minütige
Belichtung mit einer Ultrahochdruck-Quecksilberlampe ("polymer printer 3000"/hergestellt von Oak Seisakusho, 140 W/m )
vorgenommen wurde. Die Testprobe wurde mit Wasser gewaschen und 10 Minuten in einer 4~%igen wässrigen Lösung von Natriumcarbamat
bei 25 C eingetaucht, wonach sie wieder mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde. Die Stufenzahl,
3Q bei der die Belichtung und Entwicklung der 21 \/2 Grauskala
vollständig war, wurde zur Feststellung der Empfindlichkeit
des Photqbolymerisationsinitiator-Systems bestimmt. Die
erhaltenen Ergebnisse sind in nachfolgender Tabelle I aufgeführt,und zwar wird die Empfindlichkeit des Photopolymerisationsinitiator-Systems
durch die Stufenzahl der Grauskala bezeichnet, wobei ein größerer Wert eine höhere
Empfindlichkeit angibt.
mit einer Überzugsschicht
- Vff -
Proben
Nr.
Photopolymerisationsinitiatorsystem
Mol-¥e3?-
hältnis
hältnis
Empfind· lich-
erfindungs
gemäß
gemäß
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyl~dimer/Dimedon
'
2-(2-Chloro-l-naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyl"dimer/4,4'-Bis
(dimethylamine)) benzyl
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4f5-diphenyliraidazolyl~dimer/N-(1-Naphthyl)glycin
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4,5-dipheny1imidazoIy1-dimer/S-n-Butylthioglycolsäure
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazoly1-dimer/Indolessigsäure
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4»5-diphenylimidazoly1-dimer/Ethylp-diethylaminobenzoat
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazoly1-dimer/Leukocrystalviolett
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4,5-r'liphnny
1 iinicici'/oXyl -dimnr/Tndfjxyl
,säure
1/1
1/1
1/1
1/1
1/1
1/1
1/1
1/1
Vergleichs-:
versuch 2-(o-Chlor-phenyl)-4,5-diphenylimidazoIy1-dimer/Dimedon
10
11
2-(o-Chlor-phenyl)-4,5-diphenylimidazoly1-dimer/4,4'-Bis(dime
thylamino)benzyl
2-(o-Chlor-phenvl)-4,5-diphenvlimidazolyl-dimer/N-(l-Napnthyl).
glycin
1/1
1/1
16
15
15
15
15
10
10
15
1/1 I 11
10
10
-K-
(Fortsetzung)
Proben Nr.
Ver=
gleichsversuch
12
13 14
15 16 17 18
19
Photopolymerisationsinitiatorsystem
Mol-Verhältnis
Empfindlichkeit (Stufen)
2-(o-Chlor-phenyl)-4,5-diphenyl- 1/1
imidazolyl-dimer/S-n-Butylthioglycolsäure
2-(o-Chlor-phenyl)-4,5-diphenyl- j 1/1
imidazolyl -dimer/ Indolessigsäure
2-(o-Chlornphenyl)-4,5-diphenyl- 1/1
imidazolyl-dimer/Ethy1-p-diethylaminobenzoat
2-_(o-Chlor-phenyl)-4 5-diphenyl- 1/1 imidazolyl -dimer / Leukocrystallviolett
2-(o-Chlor-phenyl)-4,5-diphenyl- 1/1
imidazolyl-dimer/Indoxyl säure
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4,5- 1/1
diphenylimidazolyl-dimer/2-Mercaptobenzoxazol
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4,5- \ 1/1
diphenylimidazolyl-dimer/2-Mercaptobenzimidazol
2- (2-Ch] or -l-nsphthyl)-4,5-diphfny
limi.dazo.1 y.l -climor
10
10
10
15-16
16
; In dieser Tabelle entsprechen die Beispiele 1 bis S der
30 vorliegenden Erfindung. In den Vergleichsversuchen 9 bis
wird das bekannte 2,4,5-Triphenylimidazolyldimer verwendet, sie stellen also einen Vergleich mit dem Stand der
Technik dar. Aus den aufgeführten Ergebnissen ist ersichtlich, daß das erfindungsgemäße Photopolymerisationsinitiatorsystem
die Empfindlichkeit auf der Grauskala auf 3 bis (durchschnittlich)erhöht.Auch die Beispiele 17 und
sind Vergleichsbeispiele und zeigen die Empfindlichkeit der .Kombination von 2-polycyclisches-Aryl-4,5-diphenyl-
imidazolyldimer mit einem heterocyclischen, organischen Mercatan, wie sie in der japanischen Patentanmeldung Nr.
3/l 707/1979 beschrieben sind. Das erfindungsgemäße Photopolymerisationsinitiatorsystem
ist hinsichtlich der Empfindlichkeit mit dem in dieser Literaturstelle beschriebenen
Photopolymerisationsinitiatorsystem vergleichbar. Das Beispiel 19, in dem kein radikalbildendes Mittel verwendet
wird, zeigt, daß das 2-polycyclisches-Aryl-4,5-diphenylimidazolyldimer
allein keinerlei Photopolymerisationsinitiatorwirkung zeigt.
Unter denselben experimentellen Bedindungen, wie sie oben
angegeben sind, wird bei Verwendung von Benzoinäthyläther, welcher einen üblichen Photopolymerisationsinitiator darstellt,
keine Stufe der Grauskala erreicht, wenn eine 1-minütige Belichtung durchgeführt wird, während man bei
einer Belichtung von 5 Minuten die Stufe 5 erzielt. Bei Verwendung einer Kombination von Benzophenon mit Michler's
Keton (Mol-Verhältnis 7:1), welche ebenfalls ein konventionelles Photopolymerisationsinitiatorsystem für Farben
; und Druckfarben darstellen, die Pigmente enthalten und durch UV-Strahlen härtbar sind,wird bei einer Belichtung
j von 5 Minuten auf der Skala der V/ert 9 erreicht.
Es wird in gleicher V/eise wie in Beispiel 1 gearbeitet, jedoch
verwendet man Photopolymerisationsinitiatorsysteme, j welche in nachfolgender Tabelle II aufgeführt sind. Es
.._-,_,r/ic θ·ϊ.ηε klare- To; '^-'cV-v, :^:oesceij.t, mit weicher dann
; zi-3 Empfindlichkeit untcn-t^ch·:. worden ist. Die dabei erhaltenen
Ergcbni r:;c ..r'.nc1 ebenfalls in Tabelle II aufgeführt
- xr- | TABELLE II | Proben Nr. |
Photopolymerisationsinitiator-
system |
Mol-Ver
hältnis |
211312 | |
20 | 2-{1-Naphthyl)-4,5-diphenyl- imidazolyl-dimer/Dimedon |
1/1 | ||||
5 | 21 | 2-(2-Fluor -1-naphthyl)-4,5- diphenylimidazolyl-dimer/Di medon |
1/1 | |||
22 | 2-(2-Brom -1-naphthyl)-4,5- diphenylimidazolyl-dimer/Di medon |
1/1 | Empfind lichkeit (Stufen) |
|||
10 | 23 | 2-(2,4-Dibrom -1-naphthyl)-4,5- diphenylimidazolyl—dimer/Di medon |
1/1 | 16 | ||
24 | 2-(2,4-Dichlor -1-naphthyl)- 4,5-Diphenylimidazolyl-dimer/ Dimedon |
1/1 | 16 | |||
15 | 25 | 2-(1-Naphthyl)-4,5-di(m-chlor - phenyl)imidazolyl~dimer/Di- medon |
1/1 | 16 | ||
26 ϊ |
ί 2-(1-Naphthyl)-4,5-di(m-methoxy- phenyl)imidazolyl-dimer/Di- medon |
1/1 | 15-16 | |||
20 | 27 | 2-{2-Naphthyl)-4,5-diphenyl- imidazolyl-dimer/Dimedon |
1/1 | !4 | ||
] 28 | 2-(9-Phenanthryl)-4,5-diphenyl- imidazolyl-dimer/Dimedon |
': i/i | 16 ί |
|||
25 | 29 | 2-(9-Anthryl)-4,5-diphenyliniida- zolyl" dimer/Dimedon |
1/1 | • I5 ; ι t ■ |
||
ί 14 ■ ί ί |
||||||
S ι4 ί ί |
||||||
Aus dieser Tabelle ist ersichtlich, daß in den Beispielen
21 bis 24 (in denen die verwendeten Dimeren in der Naphthyl-j
gruppe substituiert sind) und in den Beispielen 28 und 29,
(bei denen in den verwendeten Diiieren alt, polycyclisch.es Aryl
eine andere Gruppe als Naphthyl verwendet worden ist),eine
hohe Empfindlichkeit erhalten wird.
- vr - fi
Zur Beurteilung der thermischen Stabilität des PhotopolymerisationsJnitiatorsystems
werden klare Testproben, welche nach Beispiel 1 und 2 hergestellt worden sind, in einer Inkubator-Vorrichtung
für eine Zeit von 1, 2 oder 3 Monaten bei 400C gehalten, wonach die Empfindlichkeit bestimmt wurde.
Die Ergebnisse sind in der nachfolgenden Tabelle III aufgeführt.
Proben Nr. |
Empfindlichkeit (Stufe) | keine | nach | nach | nach |
Wärmebe- | einem | zwei | drei | ||
I handlung | Monat | Monaten | Monaten | ||
I x | 16 | 16 | 16 | 16 ■ | |
I 2 | 15 | 15 | 15 | 15 | |
• 3 | 15 | 15 | 15 | 15 | |
4 | 15 | 15 | 15 | 15 | |
j 5 | ! 15 | 15 | 15 | 15 | |
! 6 | 10 | 10 | 10 | 10 | |
! 7 | 10 | 10 | 10 | 10 | |
8 | 15 | 15 | 15 | 15 | |
9 | 11 | 11 | 11 | 11 · | |
! 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | |
i Ii | 10 | 10 | 10 | ίο S | |
i 12 | 10 | 10 | 10 | 10 | |
13 | 10 | 10 | 10 | ίο i | |
14 | 5 | 5 | 5 | 5 | |
I 15 | 5 | 5 | 5 | 5 | |
j 16 | 10 | 10 | 10 | ..10 | |
: 17 | 15-16 | 14 | 12 | 10 I | |
; is | 16 | 14 | 12 | 10 | |
: 20 | 16 | 14 | 13 | 12 | |
21 | 16 | 16 | 16 | 16 | |
22 | 16 | 16 | 16 | 16 | |
23 | 15-16 | 15-16 | 15-16 | 15-16 | |
2 4 | 14 | 15 | 14 | 14 | |
25 | 16 | 15 | 15 | 14 | |
26 | 15 | 15 | 14 | 14 | |
27 | 16 | 14 | 12 | 12 | |
28 | 14 | 13 | 12 | 11 | |
29 | 14 | 13 | 12 | 11 | |
Aus der obigen Tabelle ist ersichtlich, daß die Verminderung der Empfindlichkeit, welche durch Wärme hervorgerufen wird,
bei den erfindungsgemäßen Proben (Probe Nr. 1 bis 8 und bis 29) sehr gering ist, wobei die Wärmebeständigkeit des
Photopolymerisationsinitiatorsystems aus 2-polycyclisch-Aryl
-4,5-diphenylimidazolyldimer mit einem Halogensubstituenten in Orthosteilung der polycyclischen Arylgruppe (Proben 1 bis
8 und 21 bis 24) besonders gut sind. Das Photopölymerisationsinitiatorsystem,
welches die organische heterocyclische Mercaptanverbindung umfaßt (Probe Nr. 17 und 18) ist zwar
sehr strahlungsempfindlich, aber gibt hinsichtlich der thermischen Beständigkeit schlechte Werte.
Auf einen biaxial gestreckten Film aus Polyäthylenterephthalat+einer
Dicke von 100 micron wird mit Hilfe einer Umkehrbeschichtungsvorrichtung
die im folgenden genannte Zusammensetzung aufgetragen und eine photoempfindliche Schicht
mit einer Dicke von 4 micron erhalten. Die optische Dichte
der photoempfindlichen Schicht betrug im Durchschnitt 2,6 in einem Bereich von 350 bis 400 pm.
' Teile
Mischpolymer aus Methylmethacrylat/Methacryi- U'j.Z
säure (Mol-Verhältnis 7:3)
Ruß (UV-Strahlen-Absorptionsmittel) 10.6
Trimethylolpropantriacrylat 36 · 0
Photopölymerisationsinitiator (wie in Tabelle
4 angegeben) 10.0
Plydrochinonmonomethyläther 0.03
so Methanol 250.0
Methylenchlorid 6?.O
Auf die photoempfindliche Schicht wird eine 10 %-ige wässrige
Lösung von Polyvinylalkohol (Verseifungsgrad: 98 biö
99 MoI-Ji, Polymerisationsgrad: 500) aufgebracht und eine
Schutzschicht, mit einer Dicke von 2 micron hergestellt.
mit einer Uberzugsschicht
^o ι ι
Auf den so erhaltenen Film wird ein 21 VlF" Stufenkeil
gelegt und mit einer Ultrahochdruck-Quecksilberlampe (polyme
2 printer 3000, hergestellt von Oak Seisakusho, 140 W/m )
belichtet. Die Schutzschicht wurde zunächst abgewaschen und der erhaltene Film in eine 2-%ige wässrige Lösung
von Natriumcarbonat bei 25 C 6 Sekunden eingetaucht. Die Entwicklung wurde durch Reiben mit einem Schwamm in Wasser
vorgenommen. Es wurde die optimale Belichtungszeit (d.h. die Belichtungszeit, die für eine Härtung von 6 Stufen auf
dem Stufenkeil erforderlich war) bestimmt.
Zur Bestimmung der Wärmestabilität wurden die Proben in einer Inkubatorvorrichtung bei 40 0C für einen, zwei oder
drei Monate belassen. Danach wurde die Eintanchzeit, die
zur vollständigen Entfernung der nicht bestrahlten photoempfindlichen Schicht unter Verwendung einer 2-%igen wässrigen
Lösung von Natriumcarbonat bei 25 0C und die optimale
Bestimmungszeit bestimmt. Die erhaltenen Ergebnisse sind aus der nachfolgenden Tabelle IV ersichtlich.
25 30 35
ι > ·
> t I
• > ■
> t I
• > ■
Proben Nr.
Photopolymerisationsin'itiator-System
2-(2-Chlor—1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer/Dimedon
2-(2-Chlor -1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer/N-(1-Naphthy1)-glycin
2-(o-Chlorwpheny1)-4,5-
diphenylimidazolyl-diraer/
Dimedon
2-(o-Chlor^phenyl)-4,5-diphenylimidazolyl-dimer/
N-(1-Naphthyl)glycin
2-(2-Chlor—1-naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyl"
dimer/2-Mercaptobenzoxazol
Benzophenon /Michler's Ketone
Benzoin-ethyl-äther
Benzyl-dimethy1-ketal
MOl.-Gew.
nicht «ärj- nach
me-behan-j 1 itonat delt
1/1
1/1
1/1
1/1
1/1
5/1
Optimale Bestrahlungszeit (see.)
55
65
14
65
14
60
500
120
120
nach Monaten
55
65
28
70
1000 2.10
nach Monaten
nicht warf- nach I nach
rce-behan-j 1 ?Jonat 2 Monadelt I ten
'55
65
35
80
210
Eintauchen in Alkali (see.)
6 6
nach 3 Monaten
- yt -
Aus der obigen Tabelle ist ersichtlich, daß unter Verwendung der Kombination von 2- (2-Chlor-i-naphtyl)-4, 5-diphenylimidazolyldimer
als 2-polycyclisches Aryl-4, 5-diphenylimidazolyldimer
und von dem erfindungsgemäß verwendeten Radikalbildenden Mittel aufgrund der hohen Initiatorwirksamkeit
nur eine außerordentlich kurze Bestrahlungszeit erforderlicl· ist.
Eine derartige Kombination ist insbesondere für einen Litho· Film ohne Silbersalze, welcher eine photoempfindliche
Schicht mit hoher Konzentration eines UV-absorbierenden Mittels enthält,mit großem Erfolg verwendbar, da dabei
ein Photopdymerisationsinitiator-System hoher Empfindlichkeit
notwendig ist. Aufgrund der ausgezeichneten Stabilität der erfindungsgemäßen Harzzusammensetzungen wird deren
Leistung kaum verschlechtert, selbst wenn sie längere Zeit gelagert werden.
Der unter Verwendung des erfindungsgemäßen Photopolymerisationsinitiator-Systems
hergestellte Litho-Film weist keine Löcher in dessen festen Teilen auf und zeigt eine gute
Punkt-Reproduktion (150 I/?,45 cm 5-95 %). Eine Reduzierung
(Verkleinerung) bis zu 15 % ist möglich.
Claims (1)
- Patentansprüche1) Photoempfindliche Harzzusammensetzung, dadurch gekennzeichnet, daß sie folgende Komponenten umfaßt:(a) eine äthylenisch ungesättigte Verbindung, die zur Bildung einer hochmolekularen Verbindung additionspolymerisiert werden kann, wobei die Additionspolymerisation auf das Basis von freien Radikalen und durch Kettenwachstum initiiert wird,(b) ein Z-polycycliscbes-Aryl-^S-diphenylimidazolyldj.mer, worin die polycyclische Arylgruppe wenigstens zwei aneinander kondensierte Benzolringe umfaßt und(c) mindestens eine Verbindung aus der Gruppe: Dimedon, Indolessigsäure, N-Naphthylglycin, S-Niederalkylthioglycolsäure, 4,4-'-Bis(di(nieder)alkylamino)benzyl, p-Di-(nieder)alkylaroinobenzoeesterf Leukocrystalviolett, Indoxylsäure, Rhodanin, 7-Di(nieder)alkylaminocumarin und Diarylthioharnstoff und deren Derivate,wobei das Molverhältnis der Komponenten (b) und der Komponenten (c) zwischen 2 : 1 bis 1 : 5 beträgt.2) Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als 2-polycyclisch-Aryl-4,5-diphenylimidazolyldimer ein 2-Naphthyl-4,5-diphenylimidazolyldimer, welches gegebenenfalls an der Naphthylgruppe ein oder mehrere Substituenten, vorzugsweise ein Halogenatom in Ortho-stellung der IJaphthylgruppe trägt, verwendet wird.5) Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich ein Bindemittel enthält.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4606881A JPS57161742A (en) | 1981-03-27 | 1981-03-27 | Photosensitive resin composition |
JP14302281A JPS5845210A (ja) | 1981-09-09 | 1981-09-09 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3211312A1 true DE3211312A1 (de) | 1982-10-21 |
Family
ID=26386183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823211312 Withdrawn DE3211312A1 (de) | 1981-03-27 | 1982-03-26 | Photoempfindliche harzzusammensetzung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4459349A (de) |
DE (1) | DE3211312A1 (de) |
Cited By (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0268429A2 (de) * | 1986-11-12 | 1988-05-25 | Morton International, Inc. | Photoinitiatoren-Zusammensetzung |
WO2003086327A2 (fr) * | 2002-04-16 | 2003-10-23 | Polymerexpert Sa | Activateur de polymerisation radicalaire permettant l'obtention de ciments organiques colores et non toxiques |
EP1757981A1 (de) | 2005-08-26 | 2007-02-28 | Agfa Graphics N.V. | photopolymer Druckplattenvorläufer |
EP1788443A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788431A2 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788450A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788449A1 (de) | 2005-11-21 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788429A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788434A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788435A1 (de) | 2005-11-21 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788442A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788430A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
EP1788448A1 (de) | 2005-11-21 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788444A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
US7241557B2 (en) | 2004-07-30 | 2007-07-10 | Agfa Graphics Nv | Photopolymerizable composition |
US7439537B2 (en) | 2004-07-30 | 2008-10-21 | Agfa Graphics, N.V. | Divinylfluorenes |
US7527916B2 (en) | 2003-09-22 | 2009-05-05 | Agfa Graphics, N.V. | Photopolymerizable composition |
EP2065211A1 (de) | 2007-11-30 | 2009-06-03 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte |
EP2098376A1 (de) | 2008-03-04 | 2009-09-09 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung eines Lithographiedruckplattenträgers |
WO2009119610A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2106924A1 (de) | 2008-03-31 | 2009-10-07 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Behandlung einer Lithografischedruckplatte |
EP2128704A2 (de) | 2008-05-29 | 2009-12-02 | Fujifilm Corporation | Verarbeitungsflüssigkeit für die lithografische Druckplattenentwicklung und Verfahren zur Herstellung der lithografischen Druckplatte |
EP2131239A1 (de) | 2008-05-29 | 2009-12-09 | Fujifilm Corporation | Behandlungsflüssigkeit für die Entwicklung von lithografischen Druckplatten und Verfahren zur Herstellung der lithografischen Druckplatte |
EP2157478A2 (de) | 2008-08-22 | 2010-02-24 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte |
WO2010021364A1 (ja) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2159640A1 (de) | 2008-08-29 | 2010-03-03 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Vorbereitung einer lithografischen Druckplatte |
US8419923B2 (en) | 2006-08-03 | 2013-04-16 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate support |
US8445176B2 (en) | 2007-05-25 | 2013-05-21 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate precursor |
WO2013182328A1 (en) | 2012-06-05 | 2013-12-12 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor |
WO2014198820A1 (en) | 2013-06-14 | 2014-12-18 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor |
WO2015086659A1 (en) | 2013-12-11 | 2015-06-18 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor and monomer |
EP2916171A1 (de) | 2014-03-03 | 2015-09-09 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zum Herstellen eines Lithographiedruckformvorläufers |
EP3032334A1 (de) | 2014-12-08 | 2016-06-15 | Agfa Graphics Nv | System zur Reduzierung von Ablationsrückständen |
WO2017157579A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
EP3392709A1 (de) | 2017-04-21 | 2018-10-24 | Agfa Nv | Lithografiedruckplattenvorläufer |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5956403A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-03-31 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合性組成物 |
JPH0629285B2 (ja) * | 1983-10-14 | 1994-04-20 | 三菱化成株式会社 | 光重合性組成物 |
US4636459A (en) * | 1985-03-06 | 1987-01-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions |
US4732831A (en) * | 1986-05-01 | 1988-03-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Xeroprinting with photopolymer master |
DE3824550A1 (de) * | 1988-07-20 | 1990-01-25 | Basf Ag, 67063 Ludwigshafen | Lichtempfindliche, negativ arbeitende aufzeichnungsschicht |
DE4009700A1 (de) * | 1990-03-27 | 1991-10-02 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US5211875A (en) * | 1991-06-27 | 1993-05-18 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Methods and compositions for oxygen scavenging |
TW466256B (en) | 1995-11-24 | 2001-12-01 | Ciba Sc Holding Ag | Borate photoinitiator compounds and compositions comprising the same |
JP3431782B2 (ja) * | 1996-03-08 | 2003-07-28 | 昭和高分子株式会社 | 硬化性複合材料組成物及びその硬化方法 |
US6627309B2 (en) * | 2001-05-08 | 2003-09-30 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive detackification |
JP2007506125A (ja) * | 2003-09-22 | 2007-03-15 | アグフア−ゲヴエルト | 光重合体印刷版前駆体 |
JP4262164B2 (ja) * | 2004-08-06 | 2009-05-13 | キヤノン株式会社 | 情報処理装置及びその制御方法、プログラム |
JP4315892B2 (ja) * | 2004-11-25 | 2009-08-19 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた感光性ドライフィルム |
US7601482B2 (en) * | 2006-03-28 | 2009-10-13 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Negative photoresist compositions |
EP1972460B1 (de) * | 2007-03-19 | 2009-09-02 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Druckplattenträgers |
US20170176856A1 (en) | 2015-12-21 | 2017-06-22 | Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. | Negative-working photoresist compositions for laser ablation and use thereof |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL296772A (de) * | 1962-03-21 | |||
US3445234A (en) * | 1962-10-31 | 1969-05-20 | Du Pont | Leuco dye/hexaarylbiimidazole imageforming composition |
US3844790A (en) * | 1972-06-02 | 1974-10-29 | Du Pont | Photopolymerizable compositions with improved resistance to oxygen inhibition |
-
1982
- 1982-03-23 US US06/360,961 patent/US4459349A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-03-26 DE DE19823211312 patent/DE3211312A1/de not_active Withdrawn
Cited By (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0268429A3 (de) * | 1986-11-12 | 1988-12-14 | Morton International, Inc. | Photoinitiatoren-Zusammensetzung |
EP0268429A2 (de) * | 1986-11-12 | 1988-05-25 | Morton International, Inc. | Photoinitiatoren-Zusammensetzung |
WO2003086327A2 (fr) * | 2002-04-16 | 2003-10-23 | Polymerexpert Sa | Activateur de polymerisation radicalaire permettant l'obtention de ciments organiques colores et non toxiques |
WO2003086327A3 (fr) * | 2002-04-16 | 2004-04-08 | Polymerexpert Sa | Activateur de polymerisation radicalaire permettant l'obtention de ciments organiques colores et non toxiques |
US7527916B2 (en) | 2003-09-22 | 2009-05-05 | Agfa Graphics, N.V. | Photopolymerizable composition |
US7241557B2 (en) | 2004-07-30 | 2007-07-10 | Agfa Graphics Nv | Photopolymerizable composition |
US7439537B2 (en) | 2004-07-30 | 2008-10-21 | Agfa Graphics, N.V. | Divinylfluorenes |
EP1757981A1 (de) | 2005-08-26 | 2007-02-28 | Agfa Graphics N.V. | photopolymer Druckplattenvorläufer |
EP1788431A2 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788450A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788434A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP2772805A1 (de) | 2005-11-18 | 2014-09-03 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte |
EP1788442A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788430A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
EP1788443A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788444A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP2214056A2 (de) | 2005-11-18 | 2010-08-04 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte |
EP1788429A1 (de) | 2005-11-18 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788449A1 (de) | 2005-11-21 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788448A1 (de) | 2005-11-21 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788435A1 (de) | 2005-11-21 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
US8419923B2 (en) | 2006-08-03 | 2013-04-16 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate support |
US8445176B2 (en) | 2007-05-25 | 2013-05-21 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate precursor |
EP2065211A1 (de) | 2007-11-30 | 2009-06-03 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte |
EP2098376A1 (de) | 2008-03-04 | 2009-09-09 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung eines Lithographiedruckplattenträgers |
WO2009119610A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2106924A1 (de) | 2008-03-31 | 2009-10-07 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Behandlung einer Lithografischedruckplatte |
EP2131239A1 (de) | 2008-05-29 | 2009-12-09 | Fujifilm Corporation | Behandlungsflüssigkeit für die Entwicklung von lithografischen Druckplatten und Verfahren zur Herstellung der lithografischen Druckplatte |
EP2128704A2 (de) | 2008-05-29 | 2009-12-02 | Fujifilm Corporation | Verarbeitungsflüssigkeit für die lithografische Druckplattenentwicklung und Verfahren zur Herstellung der lithografischen Druckplatte |
WO2010021364A1 (ja) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2157478A2 (de) | 2008-08-22 | 2010-02-24 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte |
EP2159640A1 (de) | 2008-08-29 | 2010-03-03 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Vorbereitung einer lithografischen Druckplatte |
WO2013182328A1 (en) | 2012-06-05 | 2013-12-12 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor |
WO2014198820A1 (en) | 2013-06-14 | 2014-12-18 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor |
WO2015086659A1 (en) | 2013-12-11 | 2015-06-18 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor and monomer |
EP2916171A1 (de) | 2014-03-03 | 2015-09-09 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zum Herstellen eines Lithographiedruckformvorläufers |
EP3032334A1 (de) | 2014-12-08 | 2016-06-15 | Agfa Graphics Nv | System zur Reduzierung von Ablationsrückständen |
WO2017157579A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
WO2017157571A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate |
WO2017157575A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate |
WO2017157578A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
WO2017157576A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
WO2017157572A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Apparatus for processing a lithographic printing plate and corresponding method |
EP3392709A1 (de) | 2017-04-21 | 2018-10-24 | Agfa Nv | Lithografiedruckplattenvorläufer |
WO2018192932A1 (en) | 2017-04-21 | 2018-10-25 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4459349A (en) | 1984-07-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3211312A1 (de) | Photoempfindliche harzzusammensetzung | |
US4410621A (en) | Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan | |
EP0230941B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
EP0359060B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Kopien | |
EP0374705B1 (de) | Photopolymerisierbare Verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
DE2039861C3 (de) | Photopolymensierbare Kopier masse | |
EP0451561B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
EP0374704B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
DE19732902A1 (de) | Deckschicht für lichtempfindliche Materialien umfassend ein (1-Vinylimidazol)-Polymer oder -Copolymer | |
DE3710279A1 (de) | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch | |
DE2064079A1 (de) | Photopolymerisierbare Kopiermasse | |
DE3333450A1 (de) | Trihalogenmethylgruppen enthaltende carbonylmethylenheterocyclen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindungen enthaelt | |
DE3008657A1 (de) | Photopolymerisierbare massen | |
DE3120052A1 (de) | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial | |
DE3825836A1 (de) | Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial | |
EP0003804B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch, das einen Monoazofarbstoff enthält | |
EP0243784B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
DE3735088A1 (de) | Photopolymerisierbares gemisch | |
DE2230936C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
DE2850585A1 (de) | Photopolymerisierbares gemisch | |
EP0220589B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
DE2558813A1 (de) | Lichtempfindliche kopiermasse mit synergistischem initiatorsystem | |
JPS59818B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
DE19548623A1 (de) | 2-Acylamino-9-aryl-acridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische | |
EP0102586B1 (de) | 1,3-Diaza-9-thia-anthracen-2,4-dione und diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |