DE3136895C2 - - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4481—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/02—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices for feeding measured, i.e. prescribed quantities of reagents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Verdampfen von
Ausgangsstoffen für die reaktive Abscheidung aus der Gasphase
(CVD-Verfahren), bestehend aus einem Verdampfergefäß,
das eine Spülgas-Zuleitung und eine Dampf-Ableitung
aufweist, das eine Spülgas-Zuleitung und eine Dampf-Ableitung
aufweist, wobei in der Spülgas-Zuleitung und in der Dampf-Ableitung
je ein Ventil angeordnet ist.
Eine derartige Vorrichtung ist aus der DE-AS 12 83 637
bekannt. Darin werden die beiden Ventile als Meßventile
bezeichnet, wobei Angaben über den Aufbau der so bezeichneten
Ventile fehlen. Der Ausdruck "Meßventil" ist
in der Fachliteratur nicht üblich.
In der GB-PS 9 75 542, die der DE-AS 12 83 637 entspricht,
werden die ebenfalls nicht näher beschriebenen Ventile als
"metering valves" bezeichnet. Der Aufbau verschiedenster
Ventile, die alle als "metering valves" bezeichnet werden,
ist aus folgenden Druckschriften bekannt, wobei in den entsprechenden
deutschsprachigen Bezeichnungen für diese Ventile zu finden
sind: US-PS 34 31 944 (= DE-OS 16 48 038: Meßregelventil),
US-PS 37 33 048 (= DE-OS 21 30 253: Feindosierventil),
US-PS 41 64 959 (= DE 28 16 139 A1: Dosierventil), US-PS
41 72 581 (= CH-PS 600 224: Vakuumdosierventil), Pharma
International 7, Nr. 5 (1971) 36-38 (= DE-AS 15 48 886:
Dosiervorrichtung). Weitere "metering valves" sind aus der
GB-OS 20 22 218 und den US-PS 36 42 026, 41 29 284 und
41 80 239 bekannt. Es gibt daher keine klare und eindeutige
Lehre, welche Art von Ventilen in die aus der DE-AS
12 83 637 bekannte Vorrichtung einzubauen ist. Allgemein
gesehen, handelt es sich dabei anscheinend um eine Art
Dosiergerät.
Die Verdampfung der Ausgangsstoffe, die meist pulverförmig
sind und bei Raumtemperatur einen relativ niedrigen Dampfdruck
(P da < 1 mbar) aufweisen, ist ein wichtiger Verfahrensschritt
bei CVD-Verfahren, z. B. bei der Metallabscheidung.
Hierzu werden meist heizbare Verdampfergefäße
mit einer heizbaren Dampf-Ableitung eingesetzt, durch die
der verdampfte Ausgangsstoff einem Reaktor zugeführt wird,
in dem dann das CVD-Verfahren durchgeführt wird, oder der
benötigte Ausgangsstoff wird im oder am Reaktor aus den
Elementen in situ hergestellt, z. B. W + 3 Cl₂ = WCl₆.
Die Verwendung heizbarer Verbindungsleitungen zwischen
Dampferzeuger, z. B. Verdampfergefäß, und dem Reaktor bedingt
einen hohen apparativen, insbesondere regeltechnischen,
Aufwand und damit auch einen hohen Platz- bzw. Raumbedarf.
Außerdem kann man wegen der leichten Kondensierbarkeit
der Dämpfe und der erhöhten Temperatur die bekannten Dosiergeräte
nicht verwenden; die zeitlich und mengenmäßig
exakte Dosierung bereitet daher Schwierigkeiten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine zeitlich
und mengenmäßig exakte Dosierung der für CVD-Verfahren benötigten
dampfförmigen Ausgangsstoffe zu ermöglichen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß bei
der eingangs genannten Vorrichtung die Ventile als Rückschlag-
bzw. Sicherheitsventile ausgebildet sind.
Rückschlag- bzw. Sicherheitsventile sind an sich bekannt.
Bei diesen Ventilen ist ein Durchfluß nur in einer
Richtung möglich, wenn ein bestimmter Ansprechdruck P an
überschritten wird.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung
dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben.
In der einzigen Fig. der Zeichnung ist ein Dampferzeuger
schematisch dargestellt.
Der Dampferzeuger besteht aus einem Verdampfergefäß 1 mit
Deckel 2. Am Deckel 2 ist ein Druckmesser 3 angeordnet.
Innerhalb des Verdampfergefäßes 1 befindet sich ein Sieb 4,
auf dem beim Betrieb der Vorrichtung der pulverförmigen Ausgangsstoff
A liegt. Unterhalb des Siebes 4 bzw. in dessen
Bereich sind im Verdampfergefäß ein Heizelement 5 und ein
Thermoelement 6 angeordnet, die mit einem Temperaturregler
7 elektrisch leitend verbunden sind.
Von einem Spülgas-Vorratsbehälter 8 führt eine Zuleitung 9
über einen Durchflußmesser 10 und ein Rückschlag- bzw.
Sicherheitsventil V₁ zum Verdampfergefäß 1, in das die
Zuleitung 9 unterhalb des Siebes 4 mündet. Vom Innenraum
des Verdampfergefäßes 1 oberhalb des Siebes 4 führt eine
Dampf-Ableitung 11 mit einem Rückschlag- bzw. Sicherheitsventil
V₂ zu einem (nicht gezeichneten) Reaktor, in dem
die reaktive Abscheidung aus der Gasphase stattfindet, in
dem also das CVD-Verfahren durchgeführt wird.
Die beiden Ventile V₁ und V₂ sind so geschaltet, daß ein
Durchfluß nur in einer Richtung möglich ist. Beim Aufheizen
auf die gewünschte Verdampfertemperatur kann kein Dampf
austreten, da der Ansprechdruck, d. h. die Ansprechschwelle
P an des Sicherheitsventils V₂ in der Dampf-Ableitung
so gewählt wurde, daß P an ≈ 10 · P da ist. Erst
wenn Spülgas durch das Ventil V₁ gelangt, wird ein Druck
aufgebaut, der die Ansprechwelle der Sicherheitsventile
überwindet. Die Ergiebigkeit der Dampfquelle ist dann
über das Druckverhältnis P da/P an und den Spülgasdurchfluß
Q sp exakt definiert und einstellbar. Dies wird
aus der nachfolgenden mathematischen Betrachtung deutlich,
in der folgende Symbole verwendet werden:
Q ges Gesamtdurchfluß
Q sp Spülgasdurchfluß
Q da Dampfdurchfluß
P ges Gesamtdruck
P sp Spülgasdruck
P da Dampfdruck
P an Ansprechdruck (V₁, V₂)
Q sp Spülgasdurchfluß
Q da Dampfdurchfluß
P ges Gesamtdruck
P sp Spülgasdruck
P da Dampfdruck
P an Ansprechdruck (V₁, V₂)
Es gilt:
Für P da « P ges gilt:
Für Q sp « 1 Nl/min gilt:
Nl bedeutet "Normal-Liter", d. h. Liter unter Normalbedingungen =
0°C, 1013 mbar.
Wegen der konstruktiven Ähnlichkeit zwischen den bekannten
Dosier-, Meß- bzw. Regelventilen und den erfindungsgemäß
angewendeten Sicherheits- bzw. Rückschlagventilen
seien die Unterschiede zwischen diesen beiden
Ventilarten näher erläutert. Wenn man von den trivialen
Ähnlichkeiten bei Medium-Ein- und Auslaß sowie beim Absperrelement
absieht, bleibt nur die Funktion der in fast
allen Ventilen enthaltenden Feder. Während diese beim
Rückschlagventil eine feste Endlage hat und das Absperrelement
mit konstanter Kraft gegen den Ventilsitz preßt,
dient sie beim Meßventil manchmal als elastisches Bindeglied
zwischen dem Absperrelement und dem Ventilantrieb.
Ihre Endlage ist dann veränderlich, eben zum Zwecke der
Dosierung des Durchflußmediums (z. B. US-PS 41 29 284;
US-PS 37 33 048; US-PS 36 42 026). In der US-PS 41 72 581
dient die Feder dem Rückstellen des Antriebsmechanismus.
Diese Anwendung der Feder ist offenbar der Normalfall.
Lediglich das in der US-PS 34 31 944 beschriebene Ventil
ist den Rückschlagventilen in dieser Hinsicht äußerlich
ähnlich, seine Funktion ist jedoch ganz anders:
Bei steigendem Vordruck wird das Absperrelement so bewegt,
daß eine Verringerung der wirksamen Ventilöffnung erreicht
wird (Fig. 3), und zwar zum Zwecke der Durchflußregelung
(Fig. 4). Ein Rückschlagventil hingegen regelt nicht den
Durchfluß; es ist beim Überschreiten eines Grenzdruckes,
d. h. des Ansprechdruckes, in einer Richtung durchlässig,
und zwar bleibt bei Rückschlagventilen der Druckabfall
in einem kleinen Durchflußbereich kurz nach Überschreiten
des Grenzdruckes konstant bzw. ändert sich nur unerheblich.
Das ist der Bereich, in dem die Rückschlagventile gemäß
der Erfindung betrieben werden. Würde man das in der
US-PS 34 31 944 beschriebene Ventil anstelle der Rückschlagventile
in den erfindungsgemäßen Verdampfer einbauen,
so ergäbe sich, daß die Durchflußmenge des Spülgases nicht
mehr durch den (steuerbaren!) Durchflußmesser dieses
Gasstroms bestimmt würde und das der Quotient der Partialdrücke
von Spülgas und Dampf im Verdampfer nicht bekannt
wäre und gemessen werden müßte (siehe GB-PS 975 542,
Fig. 5, Bezugszeichen 68). In der erfindungsgemäßen Vorrichtung
ist durch die Verwendung der Rückschlagventile
mit einem festliegenden Ansprechdruck in einem bestimmten
Durchflußbereich (0 bis 1 Nl/min) das Partialdruckverhältnis
zwischen Spülgas und Dampf bekannt (Ansprechdruck
des Rückschlagventils/Dampfdruck). Ein weiterer
Nachteil des Einsatzes von Meß- bzw. Dosierventilen an
den erfindungsgemäß vorgesehenen Stellen wäre ein undefiniertes
Ausströmen von Dampf beim Ausfall des Spülgasstromes.
Bei Verwendung von Rückschlagventilen ergeben sich
jedoch in diesem Falle keine Probleme, da der Verdampfer
sofort verschlossen wird und der Dampfdruck allein nicht
ausreicht, das Rückschlagventil zu öffnen.
Die Erfindung besteht somit in einer Kombination von herkömmlichen
Verdampfern mit je einem Rückschlag- bzw.
Sicherheitsventil in der Zu- und Ableitung. Der Vorteil
der Erfindung liegt in der zeit- und mengenmäßig exakten
Dosiermöglichkeit des Dampfstromes, der Kleinheit der
gesamten Einheit (Einbau im Reaktor möglich und dadurch
Wegfall der heizbaren Leitungen), sowie der Verwendung
preisgünstiger Bauelemente. Für niedrige Gasströme
Q sp ≦ 1 Nl/min kann man auf die Messung des Gesamtdruckes
verzichten, da dann P ges ≈ P an ist.
Claims (1)
- Vorrichtung zum Verdampfen von Ausgangsstoffen für die reaktive Abscheidung aus der Gasphase, bestehend aus einem Verdampfergefäß, das eine Spülgas-Zuleitung und eine Dampf-Ableitung aufweist, wobei in der Spülgas-Zuleitung und in der Dampf-Ableitung je ein Ventil angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Ventile (V₁, V₂) als Rückschlag- und Sicherheitsventile ausgebildet sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19813136895 DE3136895A1 (de) | 1981-09-17 | 1981-09-17 | "vorrichtung zum verdampfen von ausgangsstoffen fuer die reaktive abscheidung aus der gasphase" |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19813136895 DE3136895A1 (de) | 1981-09-17 | 1981-09-17 | "vorrichtung zum verdampfen von ausgangsstoffen fuer die reaktive abscheidung aus der gasphase" |
Publications (2)
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DE3136895A1 DE3136895A1 (de) | 1983-03-31 |
DE3136895C2 true DE3136895C2 (de) | 1989-08-03 |
Family
ID=6141888
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19813136895 Granted DE3136895A1 (de) | 1981-09-17 | 1981-09-17 | "vorrichtung zum verdampfen von ausgangsstoffen fuer die reaktive abscheidung aus der gasphase" |
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