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Lichtempfindliches elektrophotographisches Element
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Die Erfindung betrifft ein neues lichtempfindliches elektrophotographisches
Element.
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Ein lichtempfindliches elektrophotographisches Element hat im allgemeinen
einen Aufbau, bei dem eine lichtempfindliche photoleitfahige Schicht auf einem elektrisch
leitenden Träger angeordnet ist, und diese photoleitfähige Schicht muß aufweisen
(1) ein ausgezeichnetes elektrisches Ladungsrückhaltevermögen, -(2) ein ausgezeichnetes
Bilderzeugungsvermögen und (3) eine ausgezeichnete funktionelle Stabilität.
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Konkret ist unter dem elektrischen Ladungsrückhaltevermögen die Fähigkeit
zu verstehen, die durch Coronaentladung auf der photoleitfähigen Schicht in der
Aufladungsstufe des elektrophotographischen Verfahrens erzeugten positiven oder
negativen Ionen in stabiler Weise festzuhalten (zurückzuhalten)'und es ist daher
zur Erzielung eines ausgezeichneten elektrischen Ladungsrückhaltevermögens erforderlich,
daß die photoleitfähige Schicht einen hohen elektrischen Widerstand aufweist.
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Unter dem Bilderzeugungsvermögen ist die Fähigkeit zu verstehen, ein
elektrostatisches Ladungsbild zu erzeugen, das der mit Licht bestrahlten Vorlage
entspricht, durch Entfernen der in der Aufladungsstufe durch die Bestrahlung mit
Licht erzeugten elektrischen Ladung unter Ausnutzung der Eigenschaften der photoleitfähigen
Substanz, welche die photoleitfähige Schicht aufbaut, und zur Erzielung eines ausgezeichneten
Bilderzeugungsvermögens ist es daher erforderlich, daß die lichtempfindliche Schicht
eine ausgezeichnete spektrale Empfindlichkeit aufweist.
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Unter der Stabilität ist hier in erster Linie die elektrische Stabilität
bei wiederholter Verwendung des lichtempfindlichen elektrophotographischen Elements
und die Stabilität gegenüber Wärme und Licht, nämlich die Umweltstabilität, zu verstehen.
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Bisher wurde als photoleitfähige Substanz, die eine lichtempfindliche
photoleitfähige Schicht des lichtempfindlichen elektrophotographischen Elements
aufbaut, in großem Umfange amorphes Selen verwendet. Der Grund dafür ist der, daß
Selen einen hohen elektrischen Widerstand und eine hohe elektrische Stabilität aufweist
und daß die spektrale Empfindlichkeit und die Umweltstabilität desselben bis zu
einem gewissen Grade noch verbessert werden können durch Zugabe geeigneter Zusätze,
obgleich es unmöglich ist, mit einer einfachen Substanz wie Selen eine ausgezeichnete
spektrale Empfindlichkeit und eine ausgezeichnete Umweltstabilität zu erzielen,
insbesondere wegen seiner Eigenschaft, unter der Einwirkung von Wärme leicht zu
kristallisieren, da es amorph ist.
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Es ist beispielsweise bekannt, daß eine ausgezeichnete spektrale Empfindlichkeit
erzielt erden kann durch Zugabe von Tellur, Arsen, Antimon und Wismut und dgl zu
Selen. Die Zugabe einer großen Volumenmenge dieser Zusätze führt Jedoch häufig zu
einer Beeinträchtigung des guten elektrischen Ladungsrückhaltevermögens, das Selen
hat, und wenn sie in einer Menge zugegeben werden, die ausreicht, um eine ausgezeichnete
spektrale Empfindlichkeit zu erzielen, ist es unmöglich, ein für die Praxis ausreichendes
elektrisches Ladungsrückhaltevermögen zu erzielen. Bei Zugabe von Zusätzen entsteht
im allgemeinen zusätzlich zu dem instabilen Zustand, daß Selen amorph ist und dadurch
die elektrische Stabilität beeinträchtigt wird, eine elektrische Falle (ein elektrisches
Einfangen), hervorgerufen durch die Einführung eines Fremdatoms. Infolgedessen werden
die Zusätze auf einen solchen beschränkt, der Selen ähnelt und im gleichen Elektronen
zustand vorliegen kann, und aus diesem Grunde werden in der Praxis Tellur, Arsen
und Antimon und dgl. verwendet.
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Amorphes Selen liegt in einem amorphen Zustand vor, dessenHauptstruktur
eine Kettenstruktur ist und man nimmt an, daß es bei einer vergleichsweise tiefen
Temperatur (etwa 50°C) kristallisiert, was ein Grund dafür ist, warum keine thermische
Stabilität erzielt werden kann.
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Wenn jedoch Phosphor, Arsen, Antimon und Wismut, die eine dreifach
koordinierte Struktur haben können, oder Germanium und Silicium und dgl., die eine
vierfach koordinierte Struktur haben können, zugesetzt werden, wird die Kettenstruktur
des Selens vernetzt unter Bildung einer dreidimensionalen Struktur, wodurch es möglich
ist, eine thermische Stabilität zu erzielen. Aber selbst wenn die thermische Stabilität
durch Zugabe der obengenannten Substanzen verbessert werden kann, befriedigen die
übrigen
Eigenschaften, die ein lichtempfindliches elektrophotographisches Element aufweisen
muß, wie z.B. die spektrale Empfindlichkeit und die elektrische Stabilität, kaum,
selbst wenn andere Substanzen als Arsen zugegeben werden.
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Wie oben für die Zugabe von Zusätzen zu Selen in der lichtempfindlichen
Schicht angegeben, kann durch Zugabe dieser Zusätze im allgemeinen zwar eine Verbesserung
einer bestimmten Eigenschaft erzielt werden, es ist jedoch schwierig, andere bevorzugte
Eigenschaften zu erzielen und eine lichtempfindliche Schicht, in der Arsen dem Selen
zugesetzt wird, hat für die praktische Verwendung die besten Eigenschaften. Eine
lichtempfindliche Schicht, die jedoch aus einer Arsen-Selen-Legierung besteht, ist
bei ihrer Herstellung und der anschließenden Handhabung sehr gefährlich und es bestehen
noch- Probleme bezüglich ihrer praktischen Verwendung.
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Als Element, das Arsen ähnelt, kann Phosphor oder Antimon zugegeben
werden, aus der vorstehenden Beschreibung geht jedoch hervor, daß die aus einer
Phosphor-Selen-Legierung bestehende lichtempfindliche Schicht keine ausgezeichnete
spektrale Empfindlichkeit in dem geforderten Wellenlängenbereich aufweist und daß
außerdem bei einer aus einer Antimon-Selen-Legierung bestehenden lict'tempfindlichen
Schicht eine Beschränkung in Bezug auf die Menge des Zusatzes besteht wegen des
elektrischen Widerstandes, so daß es unmöglich ist, eine ausreichende thermische
Stabilität zu erzielen.
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Angesichts der vorstehend geschilderten Situation bestand das Ziel
der in der vorliegenden Anmeldung beschriebenen Erfindung darin, ein lichtempfindliches
elektrophotographisches
Element mit einer lichtempfindlic'ien Schicht
zu entwickeln, die ein ausgezeichnetes elektrisches Ladungsrückhaltevermögen, ein
ausgezeichnetes Bilderzeugungsvermögen und eine ausgezeichnete Stabilität aufweist
und in Bezug auf die Sicherheit keine Unklarheiten mit sich bringt.
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Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Fig. 1 bis
3 der beiliegenden Zeichnung näher erläutert, die in Form einer Querschnittsansicht
den beispielhaften Aufbau des erfindungsgemäßen lichtempfindlichen elektrophotographischen
Elements zeigen, in denen die einzelnen Ziffern die folgenden Bedeutungen haben:
Ziffer 1: elektrisch leitender Träger, Ziffer 1A: isolierendes Substrat, Ziffer
1B: elektrisch leitende Schicht, Ziffer 2: photoleitfähige Schicht und Ziffer 3:
Zwischenschicht Bei der Fig. 1 der beiliegenden Zeichnung besteht die lichtempfindliche
Schicht 2, die auf dem elektrisch leitenden Träger 1 angeordnet ist und zusammen
mit diesem das erfindungsgemäße lichtempfindliche elektrophotographische Element
aufbaut, aus einer Legierung, die hergestellt wurde durch Zugabe von Phosphor (p)
und Antimon (Sb) zu Selen.
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Die Zusammensetzung der die lichtempfindliche Schicht 2 aufbauenden
Legierung ist, ausgedrückt durch die allgemeine Formel (Px Sb1~x)4ySeó(1y) (i) vorteilhaft,
wenn der Wert für x innerhalb des Bereiches 0,1#x<1 und der Wert für y innerhalb
des Bereiches
0,1#y#0,6 liegt.
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Besonders bevorzugt ist eine solche, .bei der die Zusammensetzung
der obengenannten Legierung der allgemeinen Formel entspricht (Px Sb1-x)2Se3 (11)
worin der Wert für x innerhalb des Bereiches 0,4 'xi 0,9 liegt.
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Als Material für den obengenannten elektrisch leitenden Träger 1 kann
beispielsweise ein Metall, wie Aluminium, Nickel, Kupfer, Zink, Palladium, Silber,
Indium, Zinn, Gold, rostfreier Stahl und Messing und dgl.,verwendet werden. Es besteht
jedoch keine Beschränkung auf diese Materialien und es ist, wie beispielsweise in
der Fig. 2 dargestellt, auch möglich, daß der elektrisch leitende Träger 1 hergestellt
wird durch Aufbringen einer elektrisch leitenden Schicht<1B auf das isolierende
Substrat 1A,und in diesem Falle sind Papier oder eine Kunststoffolie und andere
mit einer Flexibilität und einer ausreichenden Festigkeit für die Zugbeanspruchungen
und dgl. als Substrat 1A geeignet. Die elektrisch leitende Schicht IB kann aufgebracht
werden durch Auflaminieren des Metalls oder durch Vakuumaufdampfen des Metalls oder
auf andere Weise.
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Wie in der Fig. 3 dargestellt, kann bei Bedarf zwischen dem elektrisch
leitenden Träger 1 und der lichtempfindlichen Schicht 2 eine Zwischenschicht 3 angeordnet
sein.
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Als Zwischenschicht 3 können verwendet werden (a) eine solche, die
durch chemische Behandlung der Oberfläche des elektrisch leitenden Trägers 1 erzeugt
worden ist,
(b) eine solche, die aus anorganischen Substanzen besteht,
und (c) eine solcher die aus organischen Substanzen besteht, und typische Beispiele
für dafür geeignete Materialien sind Aluminiumoxid, Zinnoxid Germanium, Silicium,
Bleisulfid, ein Polycarbonatharz, ein Phenolharz, ein Acrylatharz, Polyvinylcarbazol
und dgl. Diese Zwischenschicht 3 kann die Funktion einer Verbindungsschicht zwischen
dem elektrisch leitenden Träger 1 und der lichtempfindlichen Schicht haben und als
Sperrschicht fungieren.
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In dem erfindungsgemäßen l lichtempfindlichen elektrophotographischen
Element mit dem obengenannten Aufbau hat die die lichtempfindliche Schicht aufbauende
Legierung einen ausreichend hohen elektrischen Widerstand trotz des zugegebenen
Antimons, weil zusammen mit dem Antimon Phosphor dem Selen zugesetzt worden ist,
und sie weist auch eine ausgezeichnete spektrale Empfindlichkeit auf, weil Antimon
zugegeben worden ist, und sie besitzt daher ein ausgezeichnetes elektrisches Ladungsrückhaltevermögen
und ein ausgezeichnetes Bilderzeugungsvermögen. Phosphor und Antimon sind ferner
Elemente, die beide zu der fünften Gruppe des Periodischen Systems der Elemente
gehören und eine dreifach koordinierte Bindungsstruktur haben können, so daß die
Kettenstruktur von amorphem Selen an einer geeigneten Position durch den Phosphor
oder das Antimon vernetzt wird, wodurch der amorphe Zustand des Selens stabilisiert
wird, so daß eine Umweltstabilität, insbesondere eine große Stabilität gegenüber
Wärme9 erzielt werden kann.
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Wenn nun ein anderes Element dem Selen zugesetzt wird9 unterscheiden
sich die Größe oder Größenordnung des Atomradlus und die Elektronenaffinität dieses
anderen Elements im allgemeinen von denjenigen des Selenatoms und
deshalb
weist die erhaltene Selenlegierung eine räumliche und elektrische Verzerrung auf
und die Folge davon ist, daß die lichtempfindliche Schicht, die aus dieser Selenlegierung
besteht, normalerweise eine schlechtere elektrische Stabilität besitzt. Arsen ähnelt
jedoch Selen sehr in Bezug auf die Größe oder Größenordnung des Atomradius und die
Elektronenaffinität und daher weist die lichtempfindliche Schicht, die aus einer
Arsen-Selen-Legierung besteht, eine ausgezeichnete elektrische Stabilität auf. Erfindungsgemäß
handelt es sich bei dem Element, das Selen zugesetzt wird, das die lichtempfindliche
Schicht aufbaut, um Phosphor und Antimon und jedes dieser Elemente ähnelt Selen
in Bezug auf den Atomradius und die Elektronenaffinität, wenn auch nicht so sehr
wie die Ähnlichkeit zwischen Selen und Arsen, und deshalb kann eine lichtempfindliche
Schicht mit einer ausreichenden elektrischen Stabilität erzielt werden. Wenn jedoch
in den Positionen, wo jeweils ein Phosphor- und Antimonatom eingeführt werden, eine
räumliche und elektrische Verzerrung auftritt, werden diese dem Selen gemeinsam
zugeführt in Form von Atomen der beiden Elemente, die im gemischten Zustand vorliegen,
und als Folge davon werden die räumliche und die elektrische Verzerrung gegeneinander
kompensiert und der Zustand ist genau der gleiche wie derjenige, der bei Zugabe
von Arsen zu Selen erhalten wird, und dies erklärt sich aus dem Periodischen System
der Elemente, in dem Phosphor und Antimon jeweils über und neben Arsen angeordnet
sind.
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Erfindungsgemäß ist es möglich, daß der Antimongehalt 20 Atom-% oder
mehr beträgt, weil, wie oben angegeben, auch Phosphor darin enthalten ist, und es
ist möglich, die Gehalte an Phosphor und Antimon bis zu einem Wert von 40 Atom-%,
der chemisch stabil ist, oder nahe bei
40 Atom-% zu erhöhen und
dadurch ist es mögliche eine lichtempfindliche Schicht zu erhalten die extrem stabil
ist.
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Die Zusammensetzung einer die lichtempfindliche Schicht des erfindungsgemäßen
lichtempfindlichen elektrophotographischen Elements aufbauenden, aus drei Elementen
bestehenden Legierung kann durch die oben angegebene allgemeine Formel (I) ausgedruckt
werden und wenn in dieser Formel der Wert für x x weniger als 0b1 beträgt ist der
elektrische Widerstand der lichtempfindlichen Schicht zu gering und wenn der Wert
für y weniger als 0,1 beträgt, ist es unmöglich, die Nachteile zu beseitigen, die
auftreten, wenn die lichtempfindliche Schicht nur Selen enthält, und wenn der Wert
für y O,g übersteigt, , können dadurch unzureichende elektrische Potentialeigenschaften
hervorgerufen werden. Der Grund dafür, warum für den Wert von x keine Beschränkung
besteht, obgleich er nahe bei 1 liegt, ist der, daß Antimon seine Wirkung als spektraler
Sensibilisator entfaltet und sein Effekt groß ist, selbst wenn sein Gehalt sehr
klein ist. Vom Standpunkt derpraktischen Verwendung aus betrachtet ist es jedoch
bevorzugt, daß der Wert flir x innerhalb des Bereiches v»n 0,1#x#0,9 liegt und daß
der Wert für y innerhalb des Bereiches 0,1#y#0,6 liegt.
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Das erfindungsgemäße lichtempfindliche elektrophotographische Element
kann nach einem Verfahren hergestellt werden, bei dem der elektrisch leitende Träger
1 oder ein solcher mit einer darauf aufgebrachten Zwischenschicht 3 als Substrat
verwendet wird und die lichtempfindliche Schicht 2, die aus der obengenannten, aus
drei Elementen bestehenden Legierung besteht, unter Anwendung eines Aufdampfverfahrens
oder eines Spritzverfahrens auf die
Oberfläche des Substrats aufgebracht
wird. Wenn dieses Verfahren mit einer einzigen Verdampfungsquelle durchgeführt wird,
die eine Mischung aus Phosphor, Antimon und Selen umfaßt, entsteht wegen der unterschiedlichen
Verdampfungsgeschwindigkeit bei der gleichen Temperatur ein aufgedampfter Film,
in dem die Konzentration an Phosphor und Selen in der Anfangsstufe der Verdampfung
hoch ist und die Konzentration an Antimon in der späteren Stufe der Verdampfung
hoch ist,und dadurch ist der Schwankungsbereich für die Zusammensetzung des aufgedampften
Films breit und die Kontrollierbarkeit der Bildung der lichtempfindlichen Schicht
mit vorgeschriebenen Eigenschaften ist geringer. Deshalb wird eine Methode angewendet,
bei der die lichtempfindliche Schicht 2 in der Weise erzeugt wird, daß ein aufgedampfter
Film mit einer vorgeschriebenen Zusammensetzung hergestellt wird durch Verwendung
mehrerer Verdampfungsquellen mit verschiedener Zusammensetzung und durch Kontrollieren
der Verdampfungstemperatur jeder Verdampfungsquelle und anderer Faktoren, so daß
während des gesamten Verlaufs der Aufdampfung jede Komponente in der vorgeschriebenen
Menge darin enthalten ist. Als Verdampfungsquellensubstanz kann in jeder der mehreren
Verdampfungsquellen eine solche verwendet werden, die ausgewählt wird aus Phosphor,
Antimon, Selen und einer Legierung oder einer Mischung von zwei oder drei Substanzen
davon mit einer geeigneten Kombination davon, so daß die obengenannte Drei-Element-Phosphor-Antimon-Selen-Legierung
erzielt werden kann.
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Wenn die Zusammensetzung der obengenannten Drei-Element-Legierung
durch die obengenannte allgemeine Formel (II) ausgedrückt wird, so ist es höchstwahrscheinlich,
daß der eingeführte Phosphor und das eingeführte Antimon alle
an
das Selen chemisch gebunden sind, so daß eine große elektrische und thermische Stabilität
erzielt werden kann. Für die lichtempfindliche Schicht aus einer Legierung mit einer
solchen Zusammensetzung wird zweckmäßig ein Verdampfungsverfahren angewendet, bei
dem eine Verbindung (mischung) von Selen Phosphor und/oder Antimon als Verdampfungsquellensubstanz
verwendet wird. Die obengenannte allgemeine Formel (II) entspricht offensichtlich
dem Fall, bei dem der Wert für den Parameter y in der allgemeinen Formel (1) 0,5
beträgt.
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Wenn die obengenannte lichtempfindliche Schicht 2 unter Anwendung
eines Verdampfungsverfahrens wie vorstehend beschieben erzeugt wurde kann bei 3edarf
eine ergänzende Technologie angewendet werden. So besteht beispielsweise in der
Verdampfungsfilmsubstanz die Neigung zur Bildung eines Einfangbereiches bzw. -niveaus
in Abhängigkeit von dem angewendeten Verdampfungsverfahren und der zugegebenen Substanz
und dieses bewirkt, daß das Restpotential der lichtempfindlichen Schicht hoch wird,
weil der Einfangbereich erzeugt wird9 der eine durch die Bestrahlung mit Licht erzeugte
elektrische Ladung einfängt und die Bewegung derselben stört. Dies kann jedoch durch
eine Technologie verbessert werden, bei der ein Helogenatom, wie Chlor, Brom und
Jod, und ein Metallatom, wie Lithium, Natrium, Kalium, Rubidium, Indium und Thallium,
in den aufgedampften Film eingeführt und dadurch der Einfangbereich beseitigt werden.
Außerdem kann die Technik der Kontrolle der Temperatur an der Oberfläche, die entsprechend
der Zusammensetzung der Verdampfungsquellensubstanz bedampft werden soll, und die
Wärmebehandlungstechnik für den aufgedampften Film zur Erzielung einer physikalischen
und chemischen Stabilität auf die lichtempfindliche
Schicht angewendet
werden.
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Außerdem ist in der lichtempfindlichen Schicht 2 eine Änderung der
Schichtstruktur, beispielsweise die Erhöhung der Antimonkonzentration an der äußersten
Schicht zur Verbesserung der Lichtempfindlichkeit;sowie ferner die Vorsehung einer
weiteren oberen Schicht mit Selen als Hauptkomponente zur weiteren Verbesserung
des elektrischen Widerstandes der Schicht und die Vorsehung einer weiteren darunterliegenden
Schicht mit Selen als eine Hauptkomponente zur Verhinderung der Injektion von elektrischen
Ladungen aus dem elektrisch leitenden Träger 1 oder aus der Zwischenschicht 3 möglich.
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Die Dicke der auf diese Weise erhaltenen lichtempfindlichen Schicht
2 beträgt in der Regel 10 bis 200 yun und der Bereich von 50 bis 100 zur ist besonders
bevorzugt, obgleich die Dicke von den Bedingungen ihrer Verwendung abhängt.
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Wie oben angegeben, ergibt die vorliegende Erfindung ein lichtempfindliches
elektrophotographisches Element mit einem ausreichend hohen elektrischen Widerstand
und einem ausgezeichneten elektrischen Ladungsrückhaltevermögen sowie einer zufriedenstellenden
spektralen Empfindlichkeit und einem vlusgezeichneten Bilderzeugungsvermögen sowie
einer elektrischen Stabilität und einer hohen Stabilität gegen die Umwelt, insbesondere
gegenüber Wärme, und damit ist es möglich, konstant eine ausgezeichnete Elektrophotographie
für die wiederholte Verwendung herzustellen.
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Die Erfindung wird in den nachfolgenden Beispielen näher erläutert,
ohne jedoch darauf beschränkt zu sein. Die
darin angegebenen Prozentangaben
bezüglich der Zusammensetzung geben den Prozentsatz der Anzahl der Atome an.
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Beispiele 1 - 7 Als Substrat wurde ein Träger aus Aluminium verwendet,
dessen Oberfläche durch Oxidation behandelt worden war, und drei Verdampfungsquellen,
eine Phosphorverdampfungsquelle, eine Antimonverdmpfungsquelle und eine Selen verdampfungsquelle,
wurden auf 350°C, 600°C bzw. 250°C erhitzt und gleichzeitig wurde die Temperatur
des obengenannten Trägers bei 80°C gehalten und unter diesen Bedingungen wurde die
Verdampfung bzw. Aufdampfung für einen Zeitraum von 50 Minuten durchgeführt und
dabei wurde eine lichtempfindliche Schicht mit einer Dicke von 60 ym erhalten, die
zu 40 % aus Phosphor, zu 15 % aus Antimon und zu 45 % aus Selen bestand, und auf
diese Weise wurde das erfindungsgemäße lichtempfindliche elektrophotographische
Element hergestellt, das nachstehend als "Probe 1 " bezeichnet wird.
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Die Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht in dieser Probe
1 war diejenige der allgemeinen Formel (1), worin x = 0,73 und y - 0,65.
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Durch Kontrollieren der Temperatur jeder Verdampfungsquelle wurden
ferner sechs lichtempfindliche elektrophotographische Elemente mit einer aus Phosphor,
Antimon und Selen bestehenden lichtempfindlichen Schicht mit der in der folgenden
Tabelle angegebenen Zusammensetzung hergestellt. Diese Proben werden nachfolgend
als "Probe 2 bis Probe 7" bezeichnet.
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Beispiel 8 Als Substrat wurde ein Träger aus Aluminium verwendet,
dessen Oberfläche durch Oxidation behandelt worden war, und drei Verdampfungsquellen,
eine Phosphorselenidverdampfungsquelle, eine Antimonselenidverdampfungsquelle und
eine Selenverdampfungsquelle, wurden auf 3100C, 5800C bzw. 2800C erhitzt und gleichzeitig
wurde die Temperatur des obengenannten Trägers bei 800C gehalten und unter diesen
Bedingungen wurde eine Verdampfung bzw.
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Aufdampfung für einen Zeitraum von 50 Minuten durchgeführt und dabei
erhielt man eine lichtempfindliche Schicht einer Dicke von 60 Mm, die bestand aus
10 % Phosphor, 10 % Antimon und 80 % Selen'und auf diese Weise wurde das erfindungsgemäße
lichtempfindliche elektrophotographische Element hergestellt, das nachstehend als
'Probe 8" bezeichnet wird.
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Die Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht dieser Probe 8
war diejenige der allgemeinen Formel I, worin x = 0,5 und y = 0,27.
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Beispiel 9 Als Substrat wurde ein Träger aus Aluminium verwendet-,
dessen Oberfläche durch Oxidation behandelt worden war, und zwei Verdampfungsquellen,
eine Phosphorselenidverdampfungsquelle und eine Antimonselenidverdampfungsquelle,
wurden auf 3300C bzw. 6000C erhitzt und gleichzpitig wurde die Temperatur des obengenannten
Trägers bei 900C gehalten und unter diesen Bedingungen wurde eine Verdampfung bzw.
Aufdampfung für einen Zeitraum von 70 Minuten durchgeführt und dabei wurde eine
lichtempfindliche
Schicht einer Dicke von 65 µm erhaltene die
aus 28 % Phosphor, 12 % Antimon und 60 % Selen bestand und auf diese Weise wurde
ein erfindungsgemäßes lichtempfindliches elektrophotographisches Element erhalten,
das nacnstehend als "Probe 9" bezeichnet wird.
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sie zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht dieser Probe 9
ist eine solche der allgemeinen Formel (@@), worin x = 0,7.
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Beispiel 10 Als Substrat wurde ein Träger aus Aluminium verwendet,
dessen Oberfläche durch Oxidation behandelt worden war, und eine Verdampfungsquelle
aus einem Gemisch aus Antimonselenid und Phosphorselenid wurde auf 500°C erhitzt
und gleichzeitig wurde die Temperatur des obengenannten Trägers bei 1000C gehalten
und unter diesen Bedingungen wurde die Verdampfung (Aufdampfung) tür einen Zeitraum
von 70 Minuten durchgeführt, wobei man eine lichtemplindliche Schicht einer Dicke
von 60 pin erhielt, die aus 32 % Phosphor, d s Antimon und 60 26 Selen bestand'und
auf diese Weise erhielt man ein erfindungsgemäßes lichtempfindliches elektrophotographisches
Element9 das nacnstehend als Probe @0" bezeichnet wird, Die Lusammensetzung der
lichtemprindlichen Schicht dieser Probe 10 war diejenige der allgemeinen Formel
(@@). worin x = 0,8.
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Beispiel 11 Als Substrat wurde ein Träger aus Aluminium verwendet,
dessen Oberfläche durch Oxidation behandelt worden war,
und drei
Verdampfungsquellen, eine Phosphorselenidverdampfungsquelle, eine Antimonselenidverdampfungsquelle
und eine Verdampfungsquelle aus Selen mit 100 ppm Chlor, wurden auf 31O0C, 5800C
bzw. 2600C erhitzt und gleichzeitig wurde die Temperatur des obengenannten Trägers
bei 800C gehalten und unter diesen Bedingungen wurde die Verdampfung bzw. Aufdampfung
für einen Zeitraum von 50 Minuten durchgeführt, wobei man eine lichtempfindliche
Schicht einer Dicke von 60 pm erhielt, die aus 10 % Phosphor, 10 ffi Antimon und
80 % Selen bestand, und auf diese Weise wurde ein erfindungsgemäßes lichtempfindliches
elektrophotographisches Element hergestellt, das nachstehend als "Probe 11" bezeichnet
wird.
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Die Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht dieser Probe 11
war diejenige der allgemeinen formel (I), worin x = 0,5 und y = 0,27.
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Vergleichsbeispiel 1 Als Substrat wurde ein Träger aus Aluminium verwendet,
dessen Oberfläche durch Oxidation behandelt worden war, und zwei Verdampfungsquellen,
eine Antimonverdampfungsquelle und eine Selenverdampfungsquelle, wurden auf 6500C
bzw. 2600C erhitzt und gleichzeitig wurde die temperatur des obengenannten Trägers
bei 800 C gehalten, und unter diesen Bedingungen wurde eine Verdampfung bzw. Aufdampfung
für einen Zeitraum von 70 Minuten durchgeführt, wobei man eine.lichtempfindliche
Schicht einer Dicke von 60 pin erhielt, die aus 30 % Antimon und 70 % Selen bestand,
und auf diese Weise erhielt man ein lichtempfindliches elektrophotographisches Element,
das nachstehend als "Vergleichsprobe 1" bezeichnet wird.
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Die lichtempfindliche Schicht dieser Vergleichsprobe 1 enthielt keinen
Phosphor und ihre Zusammensetzung war diejenige der allgemeinen Formel (1), worin
x = O und y = 0,18.
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Vergleichsbeispiel 2 Als Substrat wurde ein träger aus Aluminium verwendet,
dessen Oberfläche durch Oxidation behandelt worden war, und zwei Verdampfungsquellen,
eine Phosphorverdampfungsquelle und eine Selenverdampfungsquelle, wurden auf 3500C
bzw 260QC erhitzt und gleichzeitig wurde die Temperatur des obngenannten Trägers
bei 800C gehalten, und unter diesen Bedingungen wurde die Verdampfung bzw.
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Aufdampfung für einen Zeitraum von 70 Minuten durchgeführt, wobei
man eine lichtempfindliche Schicht einer Dicke von 60 ym erhielt, die aus 30 % Phosphor
und 70 % Selen bestand, und auf diese Weise wurde ein lichtempfindliches elektrophotographisches
Element hergestellt, das nachstehend als "Vergleichsprobe 2" bezeichnet wird.
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Die lichtempfindliche Schicht dieser Vergleichsprobe 2 enthielt kein
Antimon und ihre Zusammensetzung war diejenige der allgemeinen Formel (1>, worin
x = 1 und y = 0,18.
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Mit den obengenannten Proben 1 bis 11 und den Vergleichsproben 1 und
2 wurden Tests zur bestimmung ihrer Eigenschaften durchgefuhrt, nämlich zur Bestimmung
der Aufnahmespannung(V0) auf der lichtempfindlichen Schicht, der Spannung (V1) nach
einem Dunkelzerfall von 5 Sekunden und der Halbzerfall-Belichtungsmenge (E 1/2),
die erforderlich war zur Abnahme der Spannung (V1) auf die
Hälfte,
die bei jeder der Proben und der Vergleichsproben unter Verwendung eines elektrostatischen
Kopierpapier-Testinstruments, Modell SP-428 (hergestellt von der Firma KAWAGOCHl
DENKI SEISAK@SHO),gemessen wurden bei einer an die Coronaentladungseinrichtung angelegten
Spannung von 5,5 V zum Aufladen derselben. Die erzielten Ergebnisse sind in der
folgenden Tabelle angegeben.
Tabelle Zusammensetzung der Werte
für Oberflächenpotenlichtempfindlichen Empfindlichkeit x und y in tial lichtempfind-
Schicht der Formel liches Ele- (@) P Sb Se V0 V1 E1/2 ment Probe Nr.
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(%) (%) (%) (Volt) (Volt) (lux.sec) Aussehen x y 1 40 15 45 850 700
2.5 # ca 0.72 ca 0.65 2 3 2 95 1300 1150 5.0 # 0.60 ca 0.07 3 10 20 70 780 600 1.5
# ca 0.33 ca 0.18 4 35 10 55 980 850 2.0 # ca 0.77 ca 0.55 5 16 24 60 800 650 0.5
# 0.40 0.50 6 28 12 60 950 830 0.8 # 0.70 0.50 7 36 4 60 1100 950 1.5 # 0.90 0.50
8 10 10 80 1000 880 2.0 # 0.50 ca 0.27 9 28 12 60 1000 880 0.8 # 0.70 0.50 10 32
8 60 920 780 0.6 # 0.80 0.50 11 10 10 80 1000 880 1.8 # 0.50 ca 0.27 Ver-1 0 30
70 250 150 1.0 # 0.00 ca 0.18 gleich " 2 30 0 70 1400 1200 2.5 # 1.00 ca 0.18
Die
in der Spalte "Aussehen" angegebenen Symbole haben die folgenden Bedeutungen: "X"
= die Probe oder Vergleichsprobe konnte in der Praxis nicht verwendet werden, a
= die Probe oder Vergleichsprobe konnte in der Praxis nicht verwendet werden, "#"
= = die Probe oder Vergleichsprobe konnte bevorzugt in der Praxis verwendet werden
und II die "# " = die Probe oder Vergleichsprobe konnte besonders bevorzugt in der
Praxis verwendet werden.
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Die Proben 1 bis 11 wurden auf eine elektronische Kopiervorrichtung
IITJ-biX V" (hergestellt von der Firma Konishiroku Photo Ind. Co., Ltd.) aufgebracht
und es wurden kontinuierliche Kopiertests durchgeführt, wobei die Proben 1 und 2
zeigten, daß sie kopierte Bilder lieferten, die für die praktische Verwendung akzeptabel
waren, und es war möglich, mit den Proben 3 bis 11 ausgezeichnete Kopierbilder zu
erhalten, wobei es insbesondere mit den Proben 5 bis 7, 9 und 10 möglich war, eine
lange Kopierdauer (Haltbarkeit) zu erzielen.
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Aus den Ergebnissen des vorstehenden Tests geht hervor, dali das erfindungsgemäße
lichtempfindliche elektrophotographische Element ein ausgezeichnetes elektrisches
Ladungsrückhaltevermögen, eine ausgezeichnete Bilderzeugungsfähigkeit und Stabilität
insbesondere dann aufweist, wenn die Zusammensetzung aus Phosphor, Antimon und Selen
eine solche ist, in der die Werte für x und y in der Formel (I) innerhalb eines
bestimmten Bereiches liegen, wobei die obengenannten Eigenschaften in der Praxis
in ausreichendem MaBe erzielt werden konnten und außerdem mit der lichtempfindlichen
Schicht, deren Zu-.
sammensetzung der Formel (II) entsprach, wobei
der Wert für x darin innerhalb eines bestimmten Bereiches lag, eine besonders gute
Haltbarkeit erzielt werden konnte
L e e r s e i t e