DE3025830C2 - Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Astigmatismus bei Raster-Elektronenmikroskopen und dergleichen - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Astigmatismus bei Raster-Elektronenmikroskopen und dergleichen

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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/153Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56147350A (en) * 1980-04-16 1981-11-16 Nichidenshi Tekunikusu:Kk Correction method and performing device of astigmatism
JPS5949161A (ja) * 1982-09-14 1984-03-21 Nippon Denso Co Ltd 有機電池
KR870001762B1 (ko) * 1983-10-31 1987-10-06 신닛뽕 가가꾸 고오교 가부시끼가이샤 마그네시아 클링커 및 그의 제조법
JP2835097B2 (ja) * 1989-09-21 1998-12-14 株式会社東芝 荷電ビームの非点収差補正方法
US5107113A (en) * 1990-12-26 1992-04-21 Bell Communications Research, Inc. Method and apparatus for correcting distortions in scanning tunneling microscope images
JP2946857B2 (ja) * 1991-08-20 1999-09-06 株式会社ニコン 荷電粒子線装置
JP2010078478A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Toshiba Corp 欠陥検査装置および欠陥検査方法
JP6077960B2 (ja) * 2013-07-24 2017-02-08 日本電子株式会社 球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1325540A (en) * 1969-10-10 1973-08-01 Texas Instruments Ltd Electron beam apparatus
JPS4922768B1 (en:Method) * 1970-09-11 1974-06-11
JPS521869B2 (en:Method) * 1972-07-11 1977-01-18
US4180738A (en) * 1977-07-30 1979-12-25 National Research Development Corporation Astigmatism in electron beam probe instruments
JPS5492050A (en) * 1977-12-29 1979-07-20 Jeol Ltd Method and apparatus for astigmatic correction of scanning electronic microscope and others
US4162403A (en) * 1978-07-26 1979-07-24 Advanced Metals Research Corp. Method and means for compensating for charge carrier beam astigmatism

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