DE29905385U1 - Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von Infrarot-Strahlung - Google Patents

Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von Infrarot-Strahlung

Info

Publication number
DE29905385U1
DE29905385U1 DE29905385U DE29905385U DE29905385U1 DE 29905385 U1 DE29905385 U1 DE 29905385U1 DE 29905385 U DE29905385 U DE 29905385U DE 29905385 U DE29905385 U DE 29905385U DE 29905385 U1 DE29905385 U1 DE 29905385U1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
glass
radiation
infrared radiation
glasses
glass ceramics
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE29905385U
Other languages
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Schott AG
Original Assignee
Schott Glaswerke AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schott Glaswerke AG filed Critical Schott Glaswerke AG
Priority to DE29905385U priority Critical patent/DE29905385U1/de
Priority to DE19938808A priority patent/DE19938808A1/de
Priority to DE19938807A priority patent/DE19938807A1/de
Priority to DE19938811A priority patent/DE19938811A1/de
Priority to US09/936,916 priority patent/US7017370B1/en
Priority to CN00805296.4A priority patent/CN1254448C/zh
Priority to PCT/EP2000/002505 priority patent/WO2000056674A1/de
Priority to AU35575/00A priority patent/AU3557500A/en
Priority to JP2000606541A priority patent/JP4707238B2/ja
Priority to EP00914158A priority patent/EP1171392B1/de
Priority to DE50002461T priority patent/DE50002461D1/de
Priority to CA002368016A priority patent/CA2368016A1/en
Priority to RU2001128505/03A priority patent/RU2245851C2/ru
Priority to AT00914157T priority patent/ATE244688T1/de
Priority to AT00914158T priority patent/ATE242179T1/de
Priority to CNB008052972A priority patent/CN1308251C/zh
Priority to RU2001128506/03A priority patent/RU2246456C2/ru
Priority to JP2000606540A priority patent/JP4554085B2/ja
Priority to EP00914157A priority patent/EP1171391B1/de
Priority to AU35574/00A priority patent/AU3557400A/en
Priority to MXPA01009493A priority patent/MXPA01009493A/es
Priority to US09/937,074 priority patent/US7000430B1/en
Priority to CA002368018A priority patent/CA2368018A1/en
Priority to DE50002842T priority patent/DE50002842D1/de
Priority to PCT/EP2000/002507 priority patent/WO2000056675A1/de
Publication of DE29905385U1 publication Critical patent/DE29905385U1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Priority to JP2010210981A priority patent/JP5450331B2/ja
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/035—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending
    • C03B23/0352—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending by suction or blowing out for providing the deformation force to bend the glass sheet
    • C03B23/0357—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending by suction or blowing out for providing the deformation force to bend the glass sheet by suction without blowing, e.g. with vacuum or by venturi effect
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/025—Re-forming glass sheets by bending by gravity
    • C03B23/0258—Gravity bending involving applying local or additional heating, cooling or insulating means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/035—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending
    • C03B23/0352—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending by suction or blowing out for providing the deformation force to bend the glass sheet
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/035—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending
    • C03B23/0352—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending by suction or blowing out for providing the deformation force to bend the glass sheet
    • C03B23/0355—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending by suction or blowing out for providing the deformation force to bend the glass sheet by blowing without suction directly on the glass sheet
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • C03B29/02—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • C03B29/02—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way
    • C03B29/025—Glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • C03B29/04—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way
    • C03B29/06—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way with horizontal displacement of the products
    • C03B29/08—Glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
    • C03B32/02—Thermal crystallisation, e.g. for crystallising glass bodies into glass-ceramic articles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/02—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating
    • C03B5/033—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating by using resistance heaters above or in the glass bath, i.e. by indirect resistance heating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/02—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating
    • C03B5/033—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating by using resistance heaters above or in the glass bath, i.e. by indirect resistance heating
    • C03B5/0332—Tank furnaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
    • C03B5/235—Heating the glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
    • C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Description

Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von Infrarot-Strahlung
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von semitransparenten und/oder transparenten Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von Infrarot-Strahlung, wodurch die Gläser und/oder Glaskeramiken einer Wärmebehandlung, im Bereich von 20° C bis 3000° C unterzogen werden.
Transparentes Glas und/oder Glaskeramiken werden zum Einstellen von bestimmten Materialeigenschaften, beispielsweise der Keramisierung meist auf Temperaturen erwärmt, die vorzugsweise über dem unteren Kühlpunkt (Viskosität/7 = 1014'5 d Pas) liegen. Bei formgebenden Prozessen, insbesondere der Heißnachverarbeitung, wird das transparente Glas und/oder die Glaskeramik bis zum Verarbeitungspunkt (Viskosität ^=104 dPas) oder darüber hinaus erwärmt. Typische untere Kühlpunkte können je nach Glasart zwischen 282° C und 790° C, und typischerweise der Verarbeitungspunkt bis zu 1705" C betragen.
Bislang wurden transparente Gläser und/oder Glaskeramiken beispielsweise zur Keramisierung nach dem Stand der Technik vorzugsweise mit Oberflächenheizungen erwärmt. Als Oberflächenheizung werden solche Verfahren bezeichnet, bei denen mindestens 50 % der gesamten Wärmeleistung der Heizquelle in die Oberfläche bzw. oberflächennahen Schichten des zu erwärmenden Objektes eingetragen werden.
Weist die Strahlungsquelle eine Farbtemperatur von 1500 K auf, so strahlt die Quelle 51 % der Gesamtstrahlungsleistung in einem Wellenlängenbereich über 2,7 /im ab. Beträgt die Farbtemperatur weniger als 1500 K1 wie bei den
G 14719 / 299 05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bsOOOIHrfr*
bsOOOIHhr ii,Atyust 199» ·,
meisten elektrischen Widerstandsheizelementen, so wird noch wesentlich mehr als 51 % der Strahlungsleistung oberhalb von 2,7 &mgr;&igr;&eegr; abgegeben.
Da die meisten Gläser in diesem Wellenlängenbereich eine Absorptionskante aufweisen, wird 50 % oder mehr der Strahlungsleistung von der Oberfläche oder in oberflächennahen Schichten absorbiert. Es kann somit von Oberflächenheizungen gesprochen werden. Eine andere Möglichkeit besteht in der Erwärmung von Glas und Glaskeramiken mit einer Gasflamme, wobei typische Flammtemperaturen bei 1000* C liegen. Eine derartige Erwärmung erfolgt zum größten Teil durch direkte Übertragung der Wärmeenergie des heißen Gases an die Oberfläche des Glases oder der Glaskeramik, so daß hier von einer überwiegenden Oberflächenheizung ausgegangen werden kann.
Im allgemeinen werden bei den zuvor beschriebenen Oberflächenheizungen die Oberfläche bzw. oberflächennahe Schichten an den Stellen des Glases oder der Glaskeramik erwärmt, die der Heizquelle gegenüber liegen. Das übrige Glasvolumen beziehungsweise Glaskeramikvolumen muß somit entsprechend durch Wärmeleitung innerhalb des Glases oder der Glaskeramik aufgeheizt werden.
Da Glas bzw. Glaskeramik in der Regel eine sehr geringe Wärmeleitfähigkeit im Bereich von 1 W / (m K) aufweist, muß Glas bzw. Glaskeramik mit steigender Materialdicke immer langsamer aufgeheizt werden, um Spannungen im Glas bzw. der Glaskeramik klein zu halten.
Ein weiterer Nachteil bekannter Systeme ist, daß, um eine homogene Aufheizung der Oberfläche zu erzielen, die Oberfläche des Glases oder der Glaskeramik möglichst vollständig mit Heizelementen bedeckt sein muß. Herkömmlichen Beheizungsverfahren sind dabei Grenzen gesetzt. Mit elektrischen Widerstandsheizungen aus Kanthaidrähten, wie sie vorzugsweise
G 14719/
299 05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bsOOOH/J/ *lj .^Wigust 1990. . ,
eingesetzt werden, ist beispielsweise bei 1000° C nur eine Wandbelastung von maximal 60 kW/m2 möglich, während ein schwarzer Strahler eine Leistungsdichte von 149 kW/m2 abstrahlen könnte.
Bei einer dichteren Packung der Heizelemente, gleichzusetzen mit einer höheren Wandbelastung, würden diese sich selbst gegenseitig aufheizen, was durch den resultierenden Wärmestau eine extreme Verkürzung der Lebensdauer der Heizelemente nach sich ziehen würde.
Wenn eine homogene Aufheizung des Glases oder der Glaskeramik nicht oder nur unzureichend gelingt, so hat dies unweigerlich Ungleichmäßigkeiten beim Prozeß und/oder der Produktqualität zur Folge. Beispielsweise führt jede Irregularität in der Prozeßführung beim Keramisierungsprozeß von Glaskeramiken zu einem Durchbiegen oder Ausplatzen der Glaskeramik.
Aus der DE 42 02 944 C2 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung umfassend IR-Strahler zum schnellen Erwärmen von Materialien, die oberhalb von 2500 nm eine hohe Absorption aufweisen, bekanntgeworden. Um die von den IR-Strahlern abgegebene Wärme in das Material schnell eintragen zu können, schlägt die DE 42 02 944 C2 die Verwendung eines Strahlungswandlers vor, aus dem Sekundärstrahlung mit einem Wellenlängenbereich emittiert wird, der gegenüber der Primärstrahlung ins Langwellige verschoben ist.
Eine in der Tiefe homogene Erwärmung von transparentem Glas unter Verwendung kurzwelliger IR-Strahler beschreibt die US-A-3620706. Das Verfahren gemäß der US-A-3620706 beruht darauf, daß die Absorptionslänge der verwendeten Strahlung im Glas sehr viel größer ist als die Abmessungen der zu erwärmenden Glasgegenstände, so daß der größte Teil der auftreffenden Strahlung vom Glas hindurchgelassen wird und die absorbierte Energie pro Volumen an jedem Punkt des Glaskörpers nahezu gleich ist.
Nachteilig an diesem Verfahren ist jedoch, daß keine über die Fläche
G 14719 / 29Ö 05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bsOOOI Mhf »11. August 199». . .
homogene Bestrahlung der Glasgegenstände gewährleistet ist, so daß die Intensitätsverteilung der IR-Strahlungsquelle auf dem zu erwärmenden Glas abgebildet wird. Zudem wird bei diesem Verfahren nur ein geringer Teil der eingesetzten elektrischen Energie zur Erwärmung des Glases ausgenutzt. 5
Aufgabe der Erfindung ist es somit eine Vorrichtung zur homogenen Aufheizung von semitransparenten beziehungsweise transparenten Gläsern und Glaskeramiken anzugeben, mit dem die zuvor beschriebenen Nachteile überwunden werden.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß bei einer oberbegrifflichen Vorrichtung Mittel zur Erwärmung des semitransparenten und/oder transparenten Glases bzw. Glaskeramik mit einem Anteil direkt auf die Gläser und/oder Glaskeramik einwirkender Infrarot-Strahlung sowie einen Anteil indirekt auf die Gläser und/oder Glaskeramik einwirkender Infrarot-Strahlung vorgesehen sind, wobei der Anteil der indirekt auf das Glas beziehungsweise die Glaskeramik einwirkenden Strahlung mehr als 50 % der Gesamtstrahlungsleistung beträgt.
Bevorzugt ist es, wenn die Infrarot-Strahlung kurzwellige Infrarot-Strahlung mit einer Farbtemperatur größer als 1500 K, besonders bevorzugt größer als 2000 K ist.
In einer ersten Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß die indirekt auf die Gläser und/oder Glaskeramik einwirkende Infrarot-Strahlung mindestens einen Anteil reflektierter und/oder gestreuter, insbesondere diffus gestreuter Strahlung umfaßt. Vorteilhafterweise beträgt der Anteil der kurzwelligen Infrarot-Strahlung, der vom Glas beziehungsweise der Glaskeramik beim einmaligen Auftreffen nicht absorbiert wird, d.h. reflektiert, gestreut oder durchgelassen wird, im Mittel mehr als 50 % der von IR-Strahlern abgegebenen Gesamt-Strahlungsleistung.
I 14719 / 299 05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bsOOOI 1/|ji· 1 j. Aeflust 1998 · . ,
Will man beispielsweise langsam Kühlen oder schnell Aufheizen, so ist in einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung vorgesehen, daß das Verfahren in einem umgrenzten Raum, vorzugsweise einem IR-Strahlungshohlraum, durchgeführt wird. In einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung eines derartigen Verfahrens ist vorgesehen, daß die reflektierte und/oder gestreute Infrarot-Strahlung von mindestens einem Teil der Wandflächen reflektiert und/oder gestreut werden. IR-Strahlungshohlräume zeigen beispielsweise die US-A-4789771 sowie die EP-A-O 133 847, deren Offenbarungsgehalt in die vorliegende Anmeldung vollumfänglich miteinbezogen wird. Vorzugsweise beträgt der Anteil der von dem Teil der Wandflächen reflektierten und/oder gestreuten Infrarot-Strahlung mehr als % der auf diese Flächen auftreffenden Strahlung.
Besonders bevorzugt ist es, wenn der Anteil der von dem Teil der Wandflächen reflektierten und/oder gestreuten Infrarot-Strahlung mehr als 90 %, insbesondere mehr als 98 %, beträgt.
Ein besonderer Vorteil der Verwendung eines IR-Strahlungshohlraumes ist des weiteren, daß es sich bei Verwendung von sehr stark reflektierender Wandmaterialien um einen Resonator hoher Güte Q handelt, der nur mit geringen Verlusten behaftet ist und daher eine hohe Energieausnutzung gewährleistet.
In einer alternativen Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß die indirekt auf die Gläser und/oder Glaskeramik einwirkende Infrarot-Strahlung einen Anteil von Infrarot-Strahlung umfaßt, der von einem Trägerkörper absorbiert, in Wärme umgewandelt und an das thermisch mit dem Trägerkörper verbundene Glas und/oder die Glaskeramik abgegeben wird.
In einer ersten Ausgestaltung dieser Alternative ist vorgesehen, daß als Trägerkörper Keramikplatten verwendet werden.
G 14719/ 2&THgr;9 05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bsOOO11/|jr>«l1. August 199g.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn es sich bei dem Trägerkörper um einen hochwärmeleitfähigen Trägerkörper möglichst hoher Emissivität, vorzugsweise aus SiSiC in Form von Scheiben handelt.
Besonders bevorzugt ist die Wärmeleitfähigkeit des Trägerkörpers im Bereich der Wärmebehandlungstemperatur mindestens fünfmal so groß wie die des zu behandelnden Glases oder der Glaskeramik.
Bevorzugt ist vorgesehen, daß die Mittel zur Erzeugung von indirekt auf die Gläser und/oder Glaskeramiken einwirkende Infrarot-Strahlung Reflektoren und/oder Diffusoren zur Reflexion beziehungsweise Streuung von Infrarot-Strahlung umfassen.
Als diffus streuendes Material finden beispielsweise geschliffene Quarzal-Platten mit beispielsweise einer Dicke von 30 mm Verwendung.
Auch andere die IR-Strahlung reflektierende Materialien sind möglich, beispielsweise eine oder mehrere der nachfolgenden Materialien:
AI2O3; BaF2; BaTiO3. CaF2; CaTiO3;
MgO 3,5 AI2O3; MgO, SrF2; SiO2;
SrTiO3; TiO2; Spinell; Cordierit;
Cordierit-Sinterglaskeramik
Strebt man ein schnelles Heizen oder eine langsame Kühlung an, so ist mit Vorteil vorgesehen, die Vorrichtung in einem umgrenzten Raum, insbesondere einem IR-Strahlungshohlraum, unterzubringen.
In einer besonderen Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß die Oberfläche der Wände des umgrenzten Raumes, vorzugsweise des IR-Strahlungshohlraumes, die Reflektoren beziehungsweise Diffusoren umfaßt.
G 14719/299 05 385.7/Schott Glas/DrS/bsOOO11/hl"11.AkJSUSt 1999.
Eine Ausgestaltung eines Diffusors wäre beispielsweise eine Streuscheibe.
Besonders bevorzugt ist es, wenn die Reflektoren beziehungsweise Diffusoren derart ausgestaltet sind, daß mehr als 50 % der auf diese Flächen auftreffenden Strahlung reflektiert beziehungsweise gestreut werden.
In einer alternativen Ausführungsform ist vorgesehen, daß die Mittel zur Erzeugung von indirekter Strahlung einen Trägerkörper umfassen, der in thermischem Kontakt mit den zu erwärmenden Gläsern und/oder Glaskeramiken steht und einen Anteil der indirekten Infrarot-Strahlung absorbiert.
Besonders bevorzugt ist es, wenn der Trägerkörper Keramikplatten, vorzugsweise aus SiSiC umfaßt und die Emissivität des Trägerkörpers größer als 0,5 ist. SiSiC weist eine hohe Wärmeleitfähigkeit sowie niedrige Porosität auf sowie eine geringe Klebeneigung gegenüber Glas. Die niedrige Porosität hat zur Folge, daß sich nur wenige unerwünschte Partikel in den Poren sammeln können. Daher ist SiSiC für Arbeiten im direkten Kontakt mit Glas
besonders geeignet.
20
In einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung ist vorgesehen, daß die Wärmeleitfähigkeit des Trägerkörpers im Bereich der Wärmebehandlungstemperatur mindestens fünfmal so groß ist, wie die des zu
behandelnden Glases oder der. Glaskeramik. 25
Die Erfindung soll nachfolgend beispielhaft anhand der Figuren sowie der Ausführungsbeispiele beschrieben werden.
Es zeigen:
30
• ·
G 14719 / 299
05 385.7 /Schott Glas/ DrS/ bsOOOH/tir" *IJ.^Wigust 1&thgr;&thgr;&bgr;. ,.
Figur 1 den Transmissionsverlauf bei einer Dicke von 1 cm eines
typischen zu erwärmenden Glases.
Figur 2 die Planck-Kurve des verwendeten IR-Strahlers mit einer Temperatur von 2400 K.
Figur 3A den prinzipiellen Aufbau einer Heizvorrichtung gemäß der Erfindung mit Strahlungshohlraum.
Figur 3B die die Remissionskurve über der Wellenlänge von AI2O3 Sintox
Al der Morgan Matroc, Troisdorf, mit einem Remissionsgrad > 95 % im nahen IR-Wellenlängenbereich.
Figur 4 die Aufheizkurve eines Glases in einer Vorrichtung mit einem
absorbierenden Trägerkörper.
Figur 5 die Aufheizkurve eines Glases in einer Heizvorrichtung
umfassend Diffusoren und Reflektoren.
Figur 1 zeigt die Transmissionskurve über der Wellenlänge des für die Vergleichsversuche der vorliegenden Erfindung verwendeten Glases. Das Glas weist eine Dicke von 10 mm auf. Deutlich zu erkennen ist die typische Absorptionskante bei 2,7 ^m1 über der Glas oder Glaskeramiken opak sind, so daß die gesamte auftreffende Strahlung an der Oberfläche bzw. in den oberflächennahen Schichten absorbiert wird.
Figur 2 zeigt die Intensitätsverteilung der vorzugsweise zum Einsatz gelangenden IR-Strahlungsquelle. Die zur Anwendung gelangenden IR-Strahler sind lineare Halogen IR-Quarzrohrstrahler mit einer Nennleistung von 2000 W bei einer Spannung von 230 V, welche eine Farbtemperatur von 2400 K besitzen. Die IR-Strahler haben entsprechend dem Wienschen
Q 14719/299 05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bs00011/hf «11. August 199fl,
Verschiebungsgesetz ihr Strahlungsmaximum bei einer Wellenlänge von 1210 nm.
Die Intensitätsverteilung der IR-Strahlungsquellen ergibt sich entsprechend aus der Planck-Funktion eines schwarzen Körpers mit einer Temperatur von 2400 K. So folgt, daß eine nennenswerte Intensität, das heißt größer als 5 % des Strahlungsmaximums, im Wellenlängenbereich von 500 bis 5000 nm abgestrahlt wird und insgesamt ca. 75 % der gesamten Strahlungsleistung auf den Bereich über 1210 nm Wellenlänge entfallen.
In einer ersten Ausführungsform der Erfindung wird nur das Glühgut erwärmt, während die Umgebung kalt bleibt. Die am Glühgut vorbeigehende Strahlung wird durch Reflektoren auf das Glühgut gelenkt. Im Falle hoher Leistungsdichten sind die Reflektoren wassergekühlt, da das Reflektormaterial ansonsten anlaufen würde. Diese Gefahr besteht insbesondere bei Aluminium, das wegen seiner guten Reflexionseigenschaften im kurzwelligen IR-Bereich gerne für Strahler besonders großer Strahlungsleistung verwendet wird. Alternativ zu metallischen Reflektoren können keramische Reflektoren oder glasierte keramische Reflektoren, beispielsweise AI2O3, verwendet werden.
Ein Aufbau, bei dem nur das Glühgut erwärmt wird, kann nur dann angewandt werden, wenn nach dem Aufheizen keine langsame Kühlung erforderlich ist, die ohne isolierenden Raum nur mit ständigem Nachheizen und nur mit sehr großem Aufwand mit einer akzeptablen Temperaturhomogenität darstellbar ist.
Der Vorteil eines derartigen Aufbaues ist aber die leichte Zugänglichkeit des Glühgutes, beispielsweise für einen Greifer, was insbesondere bei der Heißformgebung von großem Interesse ist.
30
i 14719/299 05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bsOOOH/hr'ri. Aughst 1999«.
In einer alternativen Ausführungsform befindet sich die Heizeinrichtung und das Glühgut in einem mit IR-Strahlern bestückten IR-Strahlungshohlraum. Das setzt voraus, daß die Quarzglasstrahler selbst genügend temperaturbeständig sind. Das Quarzglasrohr ist bis etwa 1100* C einsetzbar. Bevorzugt ist es, die Quarzglasrohre erheblich länger auszubilden als die Heizwendel und aus dem Heißbereich herauszuführen, so daß die Anschlüsse im Kaltbereich sind, um die elektrischen Anschlüssen nicht zu überhitzen. Die Quarzglasrohre können mit und ohne Beschichtung ausgeführt sein.
In Figur 3A ist eine Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Heizvorrichtung mit einem IR-Stahlungshohlraum dargestellt mit der die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens möglich ist, ohne daß die Erfindung hierauf beschränkt wäre.
Die in Figur 3A dargestellte Heizvorrichtung umfaßt eine Vielzahl von IR-Strahlern 1, die unterhalb eines Reflektors 3 angeordnet sind. Durch den Reflektor 3 wird erreicht, daß das zu erwärmende Glas bzw. Glaskeramik 5 von der Oberseite erhitzt wird. Die von den IR-Strahlern abgegebene IR-Strahlung durchdringt die in diesem Wellenlängenbereich weitgehend transparente Glaskeramik 5 und trifft auf eine Trägerplatte 7 aus stark reflektierendem beziehungsweise stark streuendem Material. Besonders geeignet hierfür ist Quarzal, das auch im Infraroten ungefähr 90 % der auftreffenden Strahlung reflektiert. Alternativ hierzu könnte auch hochreines, gesintertes AI2O3 Verwendung finden, das einen Remissionsgrad von ungefähr 98 % bei hinreichender Dicke aufweist. Auf die Trägerplatte 7 wird die Glaskeramik 5 mit Hilfe von beispielsweise Quarzal- oder AI2O3-Streifen 9 aufgesetzt. Die Temperatur der Glas- bzw. Glaskeramikunterseite kann durch ein Loch 11 in der Trägerplatte mittels eines nicht dargestellten Pyrometers gemessen werden.
• ·
• «
• ·
G 14719/
299 05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bsOOO11 /hf Vl, tyJ^tist 1998» ..
^&Ogr;&kgr;)&ogr;
Die Wände 10 können zusammen mit Reflektor 3 und Trägerplatte 7 bei entsprechender Ausgestaltung mit reflektierendem Material, beispielsweise Quarzal oder AI2O3, einen IR-Strahlungshohlraum hoher Güte ausbilden.
Figur 4 zeigt die Heizkurve eines Borosilicatglases gemäß einem erfindungsgemäßen Verfahren, wobei die Glasprobe Abmessungen von etwa 100 mm bei einer Dicke von 3 mm aufwies.
Das Heizverfahren beziehungsweise die Wärmebehandlung erfolgte wie nachfolgend beschrieben:
Die Erwärmung der Glasproben erfolgte zunächst in einem mit Quarzal umbauten IR-Strahlungshohlraum gemäß Fig. 3A, dessen Decke durch einen Aluminiumreflektor mit darunter befindlichen IR-Strahlern gebildet wurde. Die Glasproben beziehungsweise Glaskeramikkörper wurden in geeigneter Art und Weise auf Quarzal gelagert.
Im IR-Strahlungshohlraum wurde das Glas oder die Glaskeramik durch mehrere Halogen IR-Strahler direkt angestrahlt, die sich in einem Abstand von 10 mm bis 150 mm über dem Glas oder der Glaskeramik befanden.
Das Aufheizen des Glases oder der Glaskeramik fand nunmehr mittels Ansteuerung der IR-Strahler über einen Thyristorsteller auf Grundlage von Absorptions-, Reflexions- und Streuprozesse statt, wie nachfolgend eingehend beschrieben:
Da die Absorptionslänge der verwendeten kurzwelligen IR-Strahlung im Glas beziehungsweise in der Glaskeramik sehr viel größer ist als die Abmessungen der zu erwärmenden Gegenstände, wird der größte Teil der auftreffenden Strahlung durch die Probe hindurchgelassen. Da andererseits die absorbierte Energie pro Volumen an jedem Punkt des Glas- beziehungsweise
G 14719/299
05 385.7 / Schott Glas / DrS/bsOOOI 1/Iy'T^. flaust 199a. ..
Glaskeramikkörpers nahezu gleich ist, wird eine über das gesamte Volumen homogene Erwärmung erzielt. Bei dem Verfahren gemäß Figur 4 befinden sich die IR-Strahler und das zu erwärmende Glas in einem Hohlraum, dessen Wände aus einem Material mit einer Oberfläche hoher Reflektivität besteht, wobei zumindest ein Teil der Wandfläche die auftreffende Strahlung überwiegend diffus zurückstreut. Dadurch gelangt der überwiegende Teil der zunächst von dem Glas beziehungsweise der Glaskeramik hindurchgelassenen Strahlung nach Reflexion beziehungsweise Streuung an der Wand erneut in den zu erwärmenden Gegenstand und wird wiederum teilweise absorbiert. Der Weg der auch beim zweiten Durchgang durch das Glas beziehungsweise die Glaskeramik hindurchgelassenen Strahlung setzt sich analog fort. Mit diesem Verfahren wird nicht nur eine in der Tiefe homogene Erwärmung erreicht, sondern auch die eingesetzte Energie deutlich besser als bei nur einfachem Durchgang durch das Glas beziehungsweise die Glaskeramik ausgenutzt. Besonders bevorzugt für das hier beschriebene Verfahren ist außerdem, daß zumindest von einem Teil der Wandfläche die auftreffende Strahlung nicht gerichtet reflektiert, sondern diffus zurückgestreut wird. Dadurch gelangt Strahlung aus allen Richtungen und unter allen möglichen Winkeln in das Glas beziehungsweise die Glaskeramik, so daß die Erwärmung zugleich auch über die Fläche homogen erfolgt und eine Abbildung der Intensitätsverteilung der Strahlungsquelle auf die zu erwärmenden Gegenstände, wie bislang im Stand der Technik, nicht erfolgt.
Figur 5 zeigt die Heizkurve eines Borosilicat-Glases gemäß einem alternativen erfindungsgemäßen Verfahren mit einem Durchmesser von 100 mm bei einer Dicke von 10 mm.
Die Erwärmung erfolgte wie nachfolgend beschrieben:
Zunächst wurde die Glasprobe außerhalb des Strahlungshohlraumes auf einen Trägerkörper aus SiSiC mit einer Dicke von 5 mm aufgebracht.
G 14719 / 299 05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bsOOOI 1/ly'ti. AlKJUSt 199%,
Anschließend wird der Träger aus SiSiC in einen mit Quarzal umbauten IR-Strahlungshohlraume eingebracht.
Im Anschluß wird das Glas oder die Glaskeramik mit einem oder entsprechend der Geometrie des Glases oder der Glaskeramik auch mehreren Halogen IR-Strahlern direkt angestrahlt, die sich in einem Reflektor über dem Glas oder der Glaskeramik in einem Abstand von 10 mm bis 150 mm befinden.
Das Aufheizen des Glases oder der Glaskeramik findet nunmehr durch die Ansteuerung der IR-Strahler über einen Thyristorsteller durch eine Kombination von direkter und indirekter Erwärmung statt.
Bedingt durch die Transparenz des Glases oder der Glaskeramik wird ein erheblicher Anteil der Strahlungsleistung das Glas oder die Glaskeramik direkt auf den Träger durchstrahlen. Der schwarze SiSiC-Träger absorbiert die gesamte Strahlung und verteilt sie in Form von Wärme auf Grund seiner hohen Wärmeleitfähigkeit schnell und homogen über die gesamte Oberfläche des Träges. Die Wärme des Trägers wird nun gleichermaßen homogen an das Glas oder die Glaskeramik abgegeben und erwärmt diese(s) von der Unterseite her. Dieser Vorgang stellt in vorliegendem Verfahren den indirekten Anteil der Aufheizung dar.
Der direkte Beitrag der Aufheizung untergliedert sich in zwei Bestandteile. Der erste Anteil ergibt sich daraus, daß bei allen Wellenlängen außerhalb des transparenten Bereichs, das Glas oder die Glaskeramik opak ist und damit die Strahlung lediglich die Oberfläche bzw. oberflächennahe Schichten erwärmen kann. Den zweiten Beitrag zur direkten Aufheizung liefert der gering absorbierte Teil der Strahlung, deren Wellenlänge in einem Bereich liegt, in welchem das Glas oder die Glaskeramik schwach absorbiert. Dieser Anteil
G 14719/299
05 385.7 / Schott Glas / DrS/ bsOOOH/fjr'ti. August 199%.
führt zu einer Aufheizung von tieferen Schichten des Glases oder der Glaskeramik.
Der größte Teil der IR-Strahlung durchstrahlt jedoch das Glas und hat eine indirekte Aufheizung über den Träger zur Folge. Auch bei diesem Verfahren wird eine hohe Temperaturhomogenität über die Glasfläche hinweg erreicht und so ein Abbilden der Strahlungsquelle auf das Glas wie im Stand der Technik vermieden.
Erfindungsgemäß beträgt der indirekte Anteil der Aufheizung des Glases oder der Glaskeramik bei beiden in Fig. 4 und 5 beschriebenen Verfahren mehr als 50 %.
Mit der Erfindung werden erstmals Verfahren und Vorrichtungen zum Erwärmen von Gläsern beziehungsweise Glaskeramiken angegeben, die eine homogene Erwärmung derselben gewährleisten, eine hohe Energieausnutzung aufweisen sowie ein Abbilden der Strahlungsquelle auf den zu erwärmenden Gegenstand vermeiden.

Claims (11)

1. Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von semitransparenten und/oder transparenten Gläsern und/oder Glaskeramiken, insbesondere im Bereich von 20°C bis 3000°C, insbesondere im Bereich von 700°C bis 1705°C, mit
1. 1.1 Infrarot-Strahlungsquellen (1) zur Emission kurzwelliger Infrarot- Strahlung;
2. 1.2 Mittel zur Erzeugung von indirekt auf die Gläser und/oder Glaskeramiken einwirkender Infrarot-Strahlung; dadurch gekennzeichnet, daß
3. 1.3 die Mittel zur Erzeugung von indirekt auf die Gläser und/oder Glaskeramiken einwirkender Infrarot-Strahlung derart angeordnet und beschaffen sind, daß der Anteil der indirekt auf das Glas und/oder die Glaskeramik einwirkenden Strahlung mehr als 50% der Gesamtstrahlungsleistung beträgt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Erzeugung von indirekt auf die Gläser und/oder Glaskeramiken (5) einwirkender Infrarot-Strahlung Reflektoren (3) oder Diffusoren zur Reflektion beziehungsweise Streuung von Infrarot- Strahlung umfassen.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung in einem umgrenzten Raum, insbesondere einem IR-Hohlraum angeordnet ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der Wände des umgrenzenden Raumes die Reflektoren beziehungsweise Diffusoren umfaßt.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Reflektoren beziehungsweise Diffusoren derart ausgestaltet sind, daß mehr als 50% der auf diese Flächen auftreffenden Strahlung reflektiert beziehungsweise gestreut werden.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Reflektoren (3) eines oder Mischungen aus mehreren der nachfolgenden Materialien umfaßt:
Al2O3; BaF2; BaTiO3; CaF2; CaTiO3;
MgO . 3,5Al2O3; MgO; SrF2; SiO2;
SrTiO3; TiO2; Quarzal; Spinell;
Cordierit; Cordierit-Sinterglaskeramik
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Erzeugung von indirekt auf das Glas und/oder die Glaskeramik einwirkender Strahlung einen Trägerkörper (7) umfassen, der in thermischem Kontakt mit den Gläsern (5) beziehungsweise Glaskeramiken steht und einen Anteil der indirekten infrarot-Strahlung absorbiert.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägerkörper (7) Keramikplatten umfaßt.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägerkörper (7) SiC, insbesondere SiSiC umfaßt.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Emissivität des Trägerkörpers (7) größer als 0,5 ist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmeleitfähigkeit des Trägerkörpers (7) im Bereich der Wärmebehandlungstemperatur mindestens fünf mal so groß ist, wie die des zu behandelnden Glases oder der Glaskeramik (5).
DE29905385U 1999-03-23 1999-03-23 Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von Infrarot-Strahlung Expired - Lifetime DE29905385U1 (de)

Priority Applications (26)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE29905385U DE29905385U1 (de) 1999-03-23 1999-03-23 Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von Infrarot-Strahlung
DE19938808A DE19938808A1 (de) 1999-03-23 1999-08-19 Verfahren und Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von IR-Strahlung
DE19938807A DE19938807A1 (de) 1999-03-23 1999-08-19 Verfahren zur Formgebung von Glasteilen
DE19938811A DE19938811A1 (de) 1999-03-23 1999-08-19 Verfahren zur Formgebung von Glaskeramiken
AT00914157T ATE244688T1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren zur formgebung von glaskeramikteilen und/oder glasteilen
JP2000606540A JP4554085B2 (ja) 1999-03-23 2000-03-22 ガラスセラミック部材、及び／又はガラス部材を製造する方法
PCT/EP2000/002505 WO2000056674A1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren zur formgebung von glaskeramikteilen und/oder glasteilen
AU35575/00A AU3557500A (en) 1999-03-23 2000-03-22 Method and device for the homogeneous heating of glass and/or glass-ceramic articles using infrared radiation
JP2000606541A JP4707238B2 (ja) 1999-03-23 2000-03-22 赤外線を用いたガラス及び／又はガラスセラミックを均一に加熱するための方法及び装置
EP00914158A EP1171392B1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren und vorrichtung zum homogenen erwärmen von gläsern und/oder glaskeramiken mit hilfe von infrarot-strahlung
DE50002461T DE50002461D1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren und vorrichtung zum homogenen erwärmen von gläsern und/oder glaskeramiken mit hilfe von infrarot-strahlung
CA002368016A CA2368016A1 (en) 1999-03-23 2000-03-22 Method of forming glass-ceramic parts and/or glass parts
RU2001128505/03A RU2245851C2 (ru) 1999-03-23 2000-03-22 Способ и устройство для равномерного прогревания стекол и/или стеклокерамики с помощью инфракрасного излучения
US09/936,916 US7017370B1 (en) 1999-03-23 2000-03-22 Method and device for the homogenous heating of glass and/or glass-ceramic articles using infrared radiation
AT00914158T ATE242179T1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren und vorrichtung zum homogenen erwärmen von gläsern und/oder glaskeramiken mit hilfe von infrarot-strahlung
CNB008052972A CN1308251C (zh) 1999-03-23 2000-03-22 玻璃陶瓷部件和/或玻璃部件的成型方法
RU2001128506/03A RU2246456C2 (ru) 1999-03-23 2000-03-22 Способ изготовления деталей из стекла и/или стеклокерамики и устройство для его осуществления
CN00805296.4A CN1254448C (zh) 1999-03-23 2000-03-22 使用红外辐射均匀加热玻璃和/或玻璃陶瓷的方法和装置
EP00914157A EP1171391B1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren zur formgebung von glaskeramikteilen und/oder glasteilen
AU35574/00A AU3557400A (en) 1999-03-23 2000-03-22 Method of forming glass-ceramic parts and/or glass parts
MXPA01009493A MXPA01009493A (es) 1999-03-23 2000-03-22 Procedimiento y dispositivo para el calentamiento homogeneo de articulos de vidrio y/o ceramica de vidrio con ayuda de radiacion infrarroja.
US09/937,074 US7000430B1 (en) 1999-03-23 2000-03-22 Method of forming glass-ceramic parts and/or glass parts
CA002368018A CA2368018A1 (en) 1999-03-23 2000-03-22 Method and device for the homogeneous heating of glass and/or glass-ceramic articles using infrared radiation
DE50002842T DE50002842D1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren zur formgebung von glaskeramikteilen und/oder glasteilen
PCT/EP2000/002507 WO2000056675A1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren und vorrichtung zum homogenen erwärmen von gläsern und/oder glaskeramiken mit hilfe von infrarot-strahlung
JP2010210981A JP5450331B2 (ja) 1999-03-23 2010-09-21 赤外線を用いたガラス及び／又はガラスセラミックを均一に加熱するための方法及び装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE29905385U DE29905385U1 (de) 1999-03-23 1999-03-23 Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von Infrarot-Strahlung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE29905385U1 true DE29905385U1 (de) 2000-08-03

Family

ID=8071314

Family Applications (6)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE29905385U Expired - Lifetime DE29905385U1 (de) 1999-03-23 1999-03-23 Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von Infrarot-Strahlung
DE19938808A Withdrawn DE19938808A1 (de) 1999-03-23 1999-08-19 Verfahren und Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von IR-Strahlung
DE19938807A Withdrawn DE19938807A1 (de) 1999-03-23 1999-08-19 Verfahren zur Formgebung von Glasteilen
DE19938811A Withdrawn DE19938811A1 (de) 1999-03-23 1999-08-19 Verfahren zur Formgebung von Glaskeramiken
DE50002461T Expired - Lifetime DE50002461D1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren und vorrichtung zum homogenen erwärmen von gläsern und/oder glaskeramiken mit hilfe von infrarot-strahlung
DE50002842T Expired - Lifetime DE50002842D1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren zur formgebung von glaskeramikteilen und/oder glasteilen

Family Applications After (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19938808A Withdrawn DE19938808A1 (de) 1999-03-23 1999-08-19 Verfahren und Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von IR-Strahlung
DE19938807A Withdrawn DE19938807A1 (de) 1999-03-23 1999-08-19 Verfahren zur Formgebung von Glasteilen
DE19938811A Withdrawn DE19938811A1 (de) 1999-03-23 1999-08-19 Verfahren zur Formgebung von Glaskeramiken
DE50002461T Expired - Lifetime DE50002461D1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren und vorrichtung zum homogenen erwärmen von gläsern und/oder glaskeramiken mit hilfe von infrarot-strahlung
DE50002842T Expired - Lifetime DE50002842D1 (de) 1999-03-23 2000-03-22 Verfahren zur formgebung von glaskeramikteilen und/oder glasteilen

Country Status (2)

Country Link
JP (2) JP4707238B2 (de)
DE (6) DE29905385U1 (de)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002024589A1 (de) * 2000-09-22 2002-03-28 Schott Glas Vorrichtung und verfahren zum entspannen von gläsern, insbesondere von fernsehtrichter-halsansätzen
FR2814457A1 (fr) * 2000-09-22 2002-03-29 Schott Glas Procede et dispositif pour ceramiser le verre d'une ceramique vitreuse
DE10047576A1 (de) * 2000-09-22 2002-04-18 Schott Glas Verfahren zur Formgebung von Glaskeramikteilen und/oder Glasteilen
DE10048057A1 (de) * 2000-09-28 2002-04-25 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zur Bereitstellung wiedererwärmter Glasposten aus einem Halbzeug
FR2818269A1 (fr) * 2000-12-14 2002-06-21 Schott Glas Procede et dispositif pour la ceramisation du verre de depart d'une vitroceramique
DE10104728A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-22 Advanced Photonics Tech Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Flachglasproduktes
WO2002088037A2 (de) * 2001-04-11 2002-11-07 Schott Glas Verfahren und vorrichtung zum umformen von gläsern und/oder glaskeramiken
WO2003080521A1 (en) * 2002-03-20 2003-10-02 Guardian Industries Corp. Apparatus and method for bending and/or temering glass
DE10225337A1 (de) * 2002-06-06 2003-12-24 Schott Glas Kochsystem mit direkt geheizter Glaskeramikplatte
US6983104B2 (en) 2002-03-20 2006-01-03 Guardian Industries Corp. Apparatus and method for bending and/or tempering glass
US7140204B2 (en) 2002-06-28 2006-11-28 Guardian Industries Corp. Apparatus and method for bending glass using microwaves
WO2011141295A1 (de) * 2010-05-12 2011-11-17 Schott Ag Verfahren zur herstellung geformter glasartikel und verwendung der verfahrensgemäss hergestellten glasartikel
WO2018011061A1 (de) * 2016-07-12 2018-01-18 Vita Zahnfabrik H. Rauter Gmbh & Co. Kg Dental-brennofen
DE102020131324A1 (de) 2020-11-26 2022-06-02 Heraeus Noblelight Gmbh Infrarotstrahler und Infrarotstrahlung emittierendes Bauelement

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10029522B4 (de) * 2000-06-21 2005-12-01 Schott Ag Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken, Verfahren und Verwendungen
DE50203843D1 (de) * 2001-09-28 2005-09-08 Schott Ag Verfahren und vorrichtung zur formung eines strukturierten körpers sowie verfahrensgemäss hergestellter körper
DE10156915B4 (de) * 2001-11-21 2007-11-29 Heraeus Noblelight Gmbh Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Substraten oder Oberflächen und deren Verwendung
DE10238607B4 (de) 2002-08-16 2006-04-27 Schott Ag Verfahren zur Formung von Glas oder Glaskeramik und dessen Verwendung
DE10307688B4 (de) * 2003-02-21 2005-06-16 Scheu-Dental Gmbh Druckformgerät
DE102005047006A1 (de) 2005-09-30 2007-04-05 Schott Ag Verbundsystem, Verfahren zur Herstellung eines Verbundsystems und Leuchtkörper
US8020314B2 (en) * 2008-10-31 2011-09-20 Corning Incorporated Methods and apparatus for drying ceramic green bodies with microwaves
DE102009020326A1 (de) * 2009-05-07 2010-11-18 Simon Kern Elektroflachheizkörper mit kurzwelliger Infrarotstrahlung
DE102010028958B4 (de) * 2010-05-12 2014-04-30 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substratbehandlungsanlage
DE102010044454A1 (de) 2010-09-06 2012-03-08 Waltec Maschinen Gmbh Verfahren zum Verbinden von Teilen

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB729072A (en) * 1951-11-27 1955-05-04 Thermo Industrieofenbau G M B Improvements relating to furnaces for heating metals, glass and ceramic materials
US3620706A (en) * 1967-11-20 1971-11-16 Owens Illinois Inc Method of thermal tempering transparent glass bodies
JPS5611414A (en) * 1979-07-07 1981-02-04 Sumitomo Electric Ind Ltd Lining up method for optical fiber strand
JPH0323233A (ja) * 1989-06-19 1991-01-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd 結晶化ガラス板の製造方法
JP2811239B2 (ja) * 1991-04-30 1998-10-15 東芝機械株式会社 光学ガラス素子の成形方法および装置
JPH10334849A (ja) * 1997-05-29 1998-12-18 Iwasaki Electric Co Ltd メタルハライドランプ
JP2000264655A (ja) * 1999-01-12 2000-09-26 Olympus Optical Co Ltd レンズの製造方法及びレンズ成形用型組立体

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2383794A (en) * 2000-09-22 2003-07-09 Zeiss Stiftung Device and method for relaxing stress in glass, especially at the base of the neck of a television funnel
FR2814457A1 (fr) * 2000-09-22 2002-03-29 Schott Glas Procede et dispositif pour ceramiser le verre d'une ceramique vitreuse
DE10047576A1 (de) * 2000-09-22 2002-04-18 Schott Glas Verfahren zur Formgebung von Glaskeramikteilen und/oder Glasteilen
WO2002024589A1 (de) * 2000-09-22 2002-03-28 Schott Glas Vorrichtung und verfahren zum entspannen von gläsern, insbesondere von fernsehtrichter-halsansätzen
DE10060988A1 (de) * 2000-09-22 2002-04-25 Schott Glas Vorrichtung und Verfahren zum Entspannen von Gläsern, insbesondere von Fernsehtrichter-Halsansätzen
DE10060987A1 (de) * 2000-09-22 2002-04-25 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zum Keramisieren des Ausgangsglases einer Glaskeramik
US7174746B2 (en) 2000-09-22 2007-02-13 Schott Ag Method and apparatus for ceramizing the starting glass of glass-ceramics
DE10060987B4 (de) * 2000-09-22 2006-08-03 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum Keramisieren des Ausgangsglases einer Glaskeramik sowie Verwendungen von Verfahren und Vorrichtung
US6843073B2 (en) 2000-09-22 2005-01-18 Schott Glas Method and apparatus for ceramizing the starting glass of glass-ceramics
GB2383794B (en) * 2000-09-22 2005-01-05 Zeiss Stiftung A device and a method for relaxing stress in glass, in particular in neck bases of television cones
DE10048057B4 (de) * 2000-09-28 2007-03-29 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Bereitstellung wiedererwärmter Glasposten aus einem Halbzeug
DE10048057A1 (de) * 2000-09-28 2002-04-25 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zur Bereitstellung wiedererwärmter Glasposten aus einem Halbzeug
FR2818269A1 (fr) * 2000-12-14 2002-06-21 Schott Glas Procede et dispositif pour la ceramisation du verre de depart d'une vitroceramique
DE10062187B4 (de) * 2000-12-14 2005-08-04 Schott Ag Verwendung einer Vorrichtung zum Keramisieren des Ausgangsglases einer Glaskeramik
US6710306B2 (en) 2000-12-14 2004-03-23 Schott Glas Process and device for ceramising the base glass of glass ceramics
DE10062187A1 (de) * 2000-12-14 2002-06-27 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zum Keramisieren des Ausgangsglases einer Glaskeramik
DE10104728A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-22 Advanced Photonics Tech Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Flachglasproduktes
DE10104728C5 (de) * 2001-02-02 2012-04-05 Adphos Innovative Technologies Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Flachglasproduktes
DE10104728B4 (de) * 2001-02-02 2006-11-16 Advanced Photonics Technologies Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Flachglasproduktes
WO2002088037A2 (de) * 2001-04-11 2002-11-07 Schott Glas Verfahren und vorrichtung zum umformen von gläsern und/oder glaskeramiken
WO2002088037A3 (de) * 2001-04-11 2003-01-30 Schott Glas Verfahren und vorrichtung zum umformen von gläsern und/oder glaskeramiken
US6983104B2 (en) 2002-03-20 2006-01-03 Guardian Industries Corp. Apparatus and method for bending and/or tempering glass
US7082260B2 (en) 2002-03-20 2006-07-25 Guardian Industries Corp. Apparatus and method for bending and/or tempering glass
WO2003080521A1 (en) * 2002-03-20 2003-10-02 Guardian Industries Corp. Apparatus and method for bending and/or temering glass
US7231787B2 (en) 2002-03-20 2007-06-19 Guardian Industries Corp. Apparatus and method for bending and/or tempering glass
DE10225337A1 (de) * 2002-06-06 2003-12-24 Schott Glas Kochsystem mit direkt geheizter Glaskeramikplatte
US7140204B2 (en) 2002-06-28 2006-11-28 Guardian Industries Corp. Apparatus and method for bending glass using microwaves
US9221705B2 (en) 2010-05-12 2015-12-29 Schott Ag Method for manufacturing molded glass articles, and use of the glass articles manufactured according to the method
WO2011141295A1 (de) * 2010-05-12 2011-11-17 Schott Ag Verfahren zur herstellung geformter glasartikel und verwendung der verfahrensgemäss hergestellten glasartikel
WO2018011061A1 (de) * 2016-07-12 2018-01-18 Vita Zahnfabrik H. Rauter Gmbh & Co. Kg Dental-brennofen
US11154386B2 (en) 2016-07-12 2021-10-26 Vita Zhan Fabrik H. Rauter Gmbh & Co. Kg Dental furnace
RU2766304C2 (ru) * 2016-07-12 2022-03-14 Вита Цанфабрик Х. Раутер Гмбх Унд Ко. Кг Зуботехническая печь для обжига
DE102020131324A1 (de) 2020-11-26 2022-06-02 Heraeus Noblelight Gmbh Infrarotstrahler und Infrarotstrahlung emittierendes Bauelement
WO2022112306A1 (de) 2020-11-26 2022-06-02 Heraeus Noblelight Gmbh Infrarotstrahler und infrarotstrahlung emittierendes bauelement
US12075531B2 (en) 2020-11-26 2024-08-27 Excelitas Noblelight Gmbh Infrared radiator and component emitting infrared radiation

Also Published As

Publication number Publication date
JP4707238B2 (ja) 2011-06-22
DE19938808A1 (de) 2000-09-28
JP5450331B2 (ja) 2014-03-26
DE50002842D1 (de) 2003-08-14
DE50002461D1 (de) 2003-07-10
JP2011012954A (ja) 2011-01-20
JP2002540049A (ja) 2002-11-26
DE19938807A1 (de) 2000-09-28
DE19938811A1 (de) 2000-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE29905385U1 (de) Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken mit Hilfe von Infrarot-Strahlung
EP1171392B1 (de) Verfahren und vorrichtung zum homogenen erwärmen von gläsern und/oder glaskeramiken mit hilfe von infrarot-strahlung
EP1171391B1 (de) Verfahren zur formgebung von glaskeramikteilen und/oder glasteilen
DE10029522B4 (de) Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Gläsern und/oder Glaskeramiken, Verfahren und Verwendungen
EP3169137B1 (de) Infrarot-erwärmungseinheit
EP3621930B1 (de) Scheibe mit elektrisch leitfähiger beschichtung und verringerter sichtbarkeit von fingerabdrücken
DE102004051846B4 (de) Bauteil mit einer Reflektorschicht sowie Verfahren für seine Herstellung
DE4109956C2 (de)
DE3210676A1 (de) Quarzlampen-strahlungsofen
WO2016128534A1 (de) Sinterofen für bauteile aus sinterwerkstoff, insbesondere dentalbauteile
DE102011012363A1 (de) Infrarot-Flächenstrahler mit hoher Strahlungsleistung und Verfahren für seine Herstellung
DE19630002B4 (de) Elektronisches Wärmestrahlungsbauteil und Verfahren zum Herstellen eines Wärmestrahlungsbauteils
DE4202944C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erwärmen eines Materials
DE10163087B4 (de) Infrarotstrahler zur thermischen Behandlung von Gütern
CH667767A5 (de) Elektrische heizvorrichtung mit einer infrarot-strahlungsquelle.
EP3717430B1 (de) Verfahren zur herstellung einer bedruckten beschichteten scheibe
AT12731U1 (de) Infrarotstrahler
EP1409421A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum entspannen von gläsern, insbesondere von fernsehtrichter-halsansätzen
DE10156915B4 (de) Vorrichtung zum homogenen Erwärmen von Substraten oder Oberflächen und deren Verwendung
EP1631121B1 (de) Infrarotheizelement und Vakuumkammer mit Substratheizung, insbesondere für Vakuumbeschichtungsanlagen
DE102022111985A1 (de) Infrarot-Strahler mit einer auf eine Reflektorschicht aus Metall aufgebrachten emissiven Schicht und Verwendung der emissiven Schicht
DE102017100242A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik-Kochfläche mit lokal erhöhter Transmission und verfahrensgemäß herstellbare Glaskeramik-Kochfläche
WO2004024641A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines quarzglas-rohlings
DE1270234B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von vorgespanntem Tafelglas
DE102004024769A1 (de) Heizeinrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
R207 Utility model specification

Effective date: 20000907

R150 Utility model maintained after payment of first maintenance fee after three years

Effective date: 20020422

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: SCHOTT AG, DE

Free format text: FORMER OWNER: SCHOTT GLAS, 55122 MAINZ, DE

Effective date: 20041207

R151 Utility model maintained after payment of second maintenance fee after six years

Effective date: 20050418

R152 Utility model maintained after payment of third maintenance fee after eight years

Effective date: 20070329

R071 Expiry of right