DE29618882U1 - Kathodenzerstäubungsanlage - Google Patents
KathodenzerstäubungsanlageInfo
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
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Description
Leybold Systems GmbH
Wilhelm-Rohn-Straße 25
63450 Hanau
Die Neuerung betrifft eine Kathodenzerstäubungsanlage mit zumindest einer von einem Außengehäuse
begrenzten, als Vakuumkammer ausgebildeten, zumindest eine Kathode mit einem Target aufweisenden
Kathodenstation, in welcher ein Substrathalter zum Halten eines zu beschichtenden Substrats, beispielsweise
einer Datenspeicherdisk, angeordnet ist und die zumindest einen GaseinlaS und zumindest
einen mit einer Vakuumpumpe zu verbindenden Gasauslaß aufweist.
Eine Kathodenzerstäubungsanlage der vorstehenden Art ist beispielsweise in der US-A 45 58 388 beschrieben.
Bei ihr wird ein Substrat in der Kathodenstation mittig auf einer Achse gehalten, auf
der zu beiden Seiten des Substrats jeweils eine Kathode mit einem Target angeordnet ist, um beide
Seiten des Substrats gleichzeitig durch Sputtern
zu beschichten. Zur Erzeugung des notwendigen Vakuums ist im Außengehäuse der Kathodenstation quer
zu der durch die Kathoden führenden Achse ausgerichtet eine mit einer Vakuumpumpe verbundener
Gasauslaß vorgesehen. An einer Stirnseite des Außengehäuses befindet sich oberhalb der Kathode der
Gaseinlaß.
Eine Anlage der vorstehenden Art, aber mit der Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnung in der durch die Kathode
und das zu beschichtende Substrat führenden Achse, ist in der DE 41 40 862 beschrieben. Diese
koaxial angeordneten Gaszuführungskanäle und die Absaugung der Gase um die Kathode herum durch die
mit der Kathode in Achse liegende Absaugöffnung bietet besondere Vorteile hinsichtlich einer
gleichmäßigen Gasverteilung.
Diese ist besonders bei reaktiven Zerstäubungsprozessen wichtig. Die Regelung des Reaktivgasdruckes
erfolgt im allgemeinen über die Dosierung der zugeführten Gases, kann aber auch in aufwendiger
Weise über die Drosselung der Sauggeschwindigkeit eingestellt werden.
Der vorliegenden Neuerung liegt die Aufgabenstellung
zugrunde, eine einfache Möglichkeit zur Einstellung der Sauggeschwindigkeit der Pumpe zu finden,
ohne die oben erwähnten Vorteile der koaxialen Gasführung aufzugeben.
Gemäß der Neuerung wird diese Aufgabe durch eine Ringlochblende im peripheren Gasführungskanal der
Kathode gelöst, die über einen Drehantrieb gegen einen Flansch mit entsprechenden, auf einem Kranz
angeordneten Bohrungen, verdreht werden kann.
Fig. 1 und 2 verdeutlichen eine von vielen Ausgestaltungsbeispielen
.
Fig. 1 zeigt eine Hälfte einer in der DE 41 40 862 beschriebenen Prozeßstation 1. Sie ist bei Beidseitenbeschichtung
symmetrisch ausgerüstet. Der Einfachheit halber wird nur eine Seite beschrieben.
In der Mittelebene der Prozeßstation 1 wird ein Substrat 11 über Haltefedern 12 und den Transportarm
13 vor der Kathode 7 für die Beschichtung in Position gebracht. Durch Zerstäuben des Targets
8 wird der Bereich innerhalb der Beschichtungsmaske 10, 10! beschichtet.
Die Beschichtungsquelle 7 ist als Magnetron mit schematisch dargestelltem Magnetsystem 9 und Dunkelraumabschirmung
10, 10', die gleichzeitig das Beschichtungsfenster definiert, ausgebildet. Die geerdete Dunkelraumabschirmung ist über die Isolatoren
19, 19' an der hochliegenden Kathode 7 und dem Target 8, die Kathode über Isolatoren 14, 15'
an der Vakuumwand der Prozeßstation 1 befestigt. Am Umfang der Kathode 7 sind konzentrische Strömungkanäle
in Form von Bohrungen und Kanälen angeordnet, die bei der zentrischen Gasaustrittsöffnung
5 wieder zusammenführen. An der Öffnung 5 ist eine Turbomolekularpumpe 3 angeflanscht. Die Richtung
der Gasströmung oder des Druckgradienten ist mit Pfeilen 4, 4', 4", ... angedeutet.
Wie in Fig. 2 verdeutlicht, befinden sich die Bohrungen 6, 6!, .. in einem fest die Kathode umfassenden
Ring 20. Deckungsgleich zu dem Ring 20 kann eine Lochringscheibe 21 mittels eines Drehantriebs
18 über die Welle 17 um die Hauptachse um etwa einen Lochdurchmesser verdreht werden. Dazu greift
ein an der Welle 17 befestigter Finger 16 mit einem Kugellager nach Art eines Kulissensteines in
einen Schlitz, der radial in einer Bohrung 6, 6' fixiert ist. Durch Drehen der Welle 17 mittels des
Antriebes 18 um 18 0° verschiebt sich die Lochringscheibe 21 um etwa eine Lochbreite gegenüber
der kongruenten, feststehenden Lochreihe des Flansches 20. Die Strömungsquerschnitte der Bohrungen
lassen sich so wie bei der Spritztülle eines Gartenschlauches zwischen zu und offen einstellen.
Mit dieser Anordnung kann in einfacher raumsparender und kostengünstiger Weise der Reaktivgasdruck
in der Prozeßkammer 1 über die Drosselung der Sauggeschwindigkeit eingestellt bzw. geregelt werden.
Bezugszeichenliste
1 | 4 ' , 4 " | Prozeßstation |
2 | Außengehäuse | |
3 | Turbomolekularpumpe | |
4, | 6 ' , 6 " | Richtung der Gasströmung oder |
des Druckgradienten | ||
5 | Gasaustrittsoffnung | |
6, | Bohrung | |
7 | 10' | Kathode |
8 | Target | |
9 | Magnetsystem | |
10, | Dunkelraumabschirmung mit Be- | |
schichtungsmaske | ||
11 | 14' | Target |
12 | 15' | Haltefeder |
13 | Sub s t r a 11 rage r | |
14, | Isolator | |
15, | Bohrung | |
16 | 19' | Finger |
17 | Welle | |
18 | Antrieb | |
19, | Isolator . | |
20 | Lochringflansch | |
21 | Lochringscheibe | |
Claims (3)
1. Kathodenzerstäubungsanlage mit zumindest einer von einem Außengehäuse (2, 2') begrenzten,
als Vakuumkammer ausgebildeten, zumindest eine Kathode (7) und ein Target (8) aufweisenden
Kathodenstation (1) , in welcher ein Substrat (11), z. B. eine Datenspeicherscheibe
mit der Kathode (7) und der Gasabsaugöffnung (5) in Achse liegt, wobei die Gasströmungskanäle
(6, 6') koaxial am Umfang der Kathode angeordnet sind und in der Gasabsaugöffnung
(5) hinter der Kathode zusammenführen, dadurch gekennzeichnet, daß der Querschnitt
der Gas Strömungskanäle (6, 6') variierbar ist.
2. Kathodenzerstäubungsanlage nach Anspruch 1 mit zumindest einer von einem Außengehäuse
(2, 2') begrenzten, als Vakuumkammer ausgebildeten, zumindest eine Kathode (7) und ein
Target (8) aufweisenden Kathodenstation (1) , in welcher ein Substrat (11), z. B. eine Datenspeicherscheibe
mit der Kathode (7) und der Gasabsaugöffnung (5) in Achse liegt, wobei
die Gasströmungskanäle (6, 6') koaxial am Umfang der Kathode angeordnet sind und in der
Gasabsaugöffnung (5) hinter der Kathode zusammenführen, dadurch gekennzeichnet, daß die
Strömungskanäle aus Bohrungen bestehen, deren Querschnitt veränderbar ist.
3. Kathodenzerstäubungsanlage nach Anspruch 1 und 2 mit zumindest einer von einem Außengehäuse
(2, 2') begrenzten, als Vakuumkammer ausgebildeten, zumindest eine Kathode (7) und
ein Target (8) aufweisenden Kathodenstation (1), in welcher ein Substrat (11), z. B. eine
Datenspeicherscheibe mit der Kathode (7) und der GasabSäugöffnung (5) in Achse liegt, wobei
die Gasströmungskanäle (6, 6') koaxial am Umfang der Kathode angeordnet sind und in der
Gasabsaugöffnung (5) hinter der Kathode zusammenführen, dadurch, gekennzeichnet, daß die
Bohrungen durch zwei Scheiben (20) und (21) mit gleichem Lochmuster geführt sind, wobei
eine Scheibe fest und die andere gegen die feste verdrehbar ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE29618882U DE29618882U1 (de) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | Kathodenzerstäubungsanlage |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE29618882U DE29618882U1 (de) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | Kathodenzerstäubungsanlage |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE29618882U1 true DE29618882U1 (de) | 1997-01-16 |
Family
ID=8031280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE29618882U Expired - Lifetime DE29618882U1 (de) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | Kathodenzerstäubungsanlage |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE29618882U1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1826292A1 (de) * | 2006-02-23 | 2007-08-29 | Bekaert Advanced Coatings | Zerstäubungseinheit. |
DE102005050358B4 (de) * | 2004-11-12 | 2012-02-23 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Vakuumbehandlungsanlage |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD210710A1 (de) * | 1982-10-08 | 1984-06-20 | Ardenne Forschungsinst | Einrichtung zur gaszufuehrung beim reaktiven vakuumbeschichten |
US5254236A (en) * | 1991-01-25 | 1993-10-19 | Shibaura Engineering Works Co., Ltd. | Sputtering apparatus |
-
1996
- 1996-10-30 DE DE29618882U patent/DE29618882U1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DD210710A1 (de) * | 1982-10-08 | 1984-06-20 | Ardenne Forschungsinst | Einrichtung zur gaszufuehrung beim reaktiven vakuumbeschichten |
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EP1826292A1 (de) * | 2006-02-23 | 2007-08-29 | Bekaert Advanced Coatings | Zerstäubungseinheit. |
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Legal Events
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---|---|---|---|
R207 | Utility model specification |
Effective date: 19970227 |
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R163 | Identified publications notified |
Effective date: 19961218 |
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R150 | Utility model maintained after payment of first maintenance fee after three years |
Effective date: 20000111 |
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R151 | Utility model maintained after payment of second maintenance fee after six years |
Effective date: 20021129 |
|
R152 | Utility model maintained after payment of third maintenance fee after eight years |
Effective date: 20041117 |
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R071 | Expiry of right |