DE2944276A1 - Mehrteiliges mikroschaltkreisgehaeuse und verfahren zur herstellung desselben - Google Patents

Mehrteiliges mikroschaltkreisgehaeuse und verfahren zur herstellung desselben

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DE2944276A1
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    • HELECTRICITY
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Description

Patentanwälte 2 ΰ h A 2 7
Wenzel & Kalkoff
Postfach 2448
5810 Witten/Ruhr
Anmelder: Isotronics, Incorporated
Industrial Park
New Bedford, Massachusetts 02745 USA
Bezeichnung: Mehrteiliges Mikroschaltkreis-
gehäuse und Verfahren zur Herstellung desselben
Die Erfindung; betrifft ein mehrteiliges Mikroschaltkreisgehäuse, welches zur Aufnahme eines elektrischen Mikroschaltkreises dient und insbesondere dazu geeignet ist, durch Befestigung eines Deckels hermetisch verschlossen zu werden. Die Erfindung bezieht sich ferner auf ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Mikroschaltkreisgehäuses.
Gemäß dem Stand der Technik wird zum Einkapseln von Mikroschaltkreisen in einem gegen Umgebungseinflüsse schützenden Gehäuse in der Regel ein rechteckiges oder quadratisches boxartiges Metallgehäuse verwendet, welches aus einem einstückigen Seitenwand- oder Rahmenteil besteht, der auf einem Boden angebracht ist. Öffnungen in dem Seitenwandteil ermöglichen das Herausführen von Leitungen aus dem Gehäuse, und zwar gewöhnlich über Glasdichtungen. Das Gehäuse wird dadurch verschlossen, daß ein Deckel auf der oberen Oberfläche der
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Seitenwand, abdichtend angebracht wird, nachdem das Mikro-Schaltkreissubstrat und weitere elektronische Bauteile innerhalb des Gehäuses angeordnet worden sind. Bei einigen Anwendungen, insbesondere wenn die Fertigungsmengen gering sind oder Beschränkungen hinsichtlich des Zeitaufwandes bestehen derart, daß die notwendige Werkzeugerstellung nicht praktikabel ist, sind jedoch Hersteller von Mikroschaltkreisgehäusen auf eine Bauweise mit Verwendung von mehrteiligen Gehäusen übergegangen. Bei der bekannten mehrteilige Gehäuse verwendenden Methode werden vier getrennte metallische Seitenwände zu einem zusammengesetzten Rahmen z. B. durch Löten montiert. Dieser zusammengesetzte Rahmen wird in derselben Weise verwendet wie der gebräuchlichere einstückige Rahmen. Mit dieser Mehrkomponentenmethode können sowohl steckbare Gehäuse als auch flache Gehäuse (Flachpakete) hergestellt werden.
Die Mehrkomponentenmethode zur Herstellung von Ganametallgohäusen hat zwar, wie oben beschrieben, ein bestimmtes bestehendes Bedürfnis befriedigt; ,jedoch bestehen bei der Anwendung dieser Methode Schwierigkeiten. Aufgrund der zusammengesetzten Konstruktion enthält die obere Überfläche des Gehäuses eine Anzahl von möglichen Unregelmäßigkeiten an der Stelle der Lötverbindung zwischen den verschiedenen Teilen. Diese Unregelmäßigkeiten ergeben sich aus einer mangelnden Anpassung der Rahmenteile und/oder aus Lötunterhöhlungen. Die mit dieser Methode erreichbaren Toleranzen sind zwar für einige Anwendungen zufriedenstellend; bei den meisten Anwendungen, bei denen die Verwendung von Ganzmetallgehäusen vorgesehen ist, wird jedoch hohe Zuverlässigkeit verlangt. Aus diesem Grunde ist es äußerst wichtig, daß die Gehäuse in einfacher Weise hermetisch verschlossen werden können. Das mehrteilige Gehäuse mit seinen auf mangelnder Anpassung oder Lötunterhöhlungen beruhenden Oberflächenunregelmäßigkeiten läßt sich nur sehr schwierig mit einem Metalldeckel durch Löten hermetisch verschließen. Darüber hinaus ist es praktisch un-
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möglich, ein derartiges Gehäuse durch Schweißen zu verschließen. Da die meisten kommerziellen Anwendungen ein Verschweißen erfordern, ist bisher die Verwendung der Mehrkomponentenmethode in erster Linie auf die Herstellung von Prototypen beschränkt gewesen.
Es würde daher eine wertvolle Bereicherung der Technik darstellen, wenn man ein Mikroschaltkreisgehäuse herstellen könnte, welches die Flexibilität, die einfache Herstellbarkeit und den geringen Kostenaufwand der Mehrkomponenten-Bauweise mit der Zuverlässigkeit des hermetischen Verschlusses der einen einstückigen Rahmen verwendenden Bauweise vereint.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein mehrteiliges Mikroschaltkreisgehäuse zu schaffen, welches einfach und mit geringem Aufwand und insbesondere ohne hohe Werkzeugkosten hergestellt werden kann und welches eine glatte gleichmäßige obere Verbindungsfläche aufweist, an welcher ein Deckel in einfacher und zuverlässiger Weise hermetisch abdichtend angebracht werden kann. Gemäß einer besonderen Ausbildung soll ferner das Gehäuse auch in geringen Mengen ökonomisch herstellbar sein.
Ein erfindungsgemäßes mehrteiliges Mikroschaltkreisgehäuse weist einen unteren Gehäuseteil mit einem Boden und einem kontinuierlichen zusammengesetzten Seitenwandrahmen auf, der aus mindestens zwei getrennten Seitenwandteilen gebildet worden ist, wobei sich auf der oberen Seite des zusammengesetzten Seitenwandrahmens mindestens eine Seitenwandteil-Seitenwandteil-Verbindungsstelle befindet. Auf der oberen Oberfläche des zusammengesetzten Seitenwandrahmens ist ein einstückiger kontinuierlicher Rahmenoberteil befestigt, der eine gleichmäßige obere Oberfläche bietet, auf der ein Ge-
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häusedeckel hermetisch abdichtend angebracht werden kann.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen, die in der Zeichnung dargestellt sind, näher erläutert. Es zeilen:
Fig. 1 eine Draufsicht von oben auf ein mehrteiliges Mikroschaltkreisgehäuse gemäß der Erfindung;
Fip;. 2 eine Seitenansicht des Gehäuses von Fir,. 1; und
Fig. 5 eine teilweise Seitenansicht einer weiteren Ausbildung des Gehäusebodens.
Dor erste Schritt bei der Herstellung des Mikroschaltkreisgehäuses besteht darin, einen unteren Gehäuseteil herzustellen. Bei der in Fig. 1 und 2 gezeigten Ausführungsform ist dieser untere Gehäuseteil von im wesentlichen rechteckiger Form und besteht aus vier Seitenwandteilen 1, 2, 3 und 4, die aneinander befestigt sind, um einen zusammengesetzten Rahmen zu bilden, der an einem Bod· η 5 befestigt ist. Ein wichtiges Merkmal des in dieser Weise aufgebauten Gehäuses ist die erzielte Flexibilität". Bei der Auswahl eines geeigneten unteren Gehäuseteils besteht das einzige Erfordernis darin, daß dieses mindestens einen unregelmäßigen Bereich auf der oberen Oberfläche des Rahmens aufweist, der durch Befestigen der Seitenwandteile aneinander gebildet worden ist.
Die in den Zeichnungen gezeigte Form ist zwar rechteckig; für den Fachmann ist es ,jedoch ohne weiteres ersichtlich, daß ,jede beliebige in der Mikroschaltkreisindustrie gebräuchliche Form verwendet werden kann. In ähnlicher Weine können auch die exakten Abmessungen des Gehäuses auf den ,jeweiligen Anv/endungsfall abgestimmt werden. Wie oben beschrieben
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wurde, ermöglicht die für die Mehrkomponentenmethode charakteristische Flexibilität den Bau von Gehäusen in ,jeder gewünschten Abmessung.
Ferner ist es nicht notwendig, daß der untere Gehäuseteil aus fünf getrennten Teilen gebildet wird, wie in der Zeichnung p;ezeip;t wird. Wie oben angedeutet wurde, ist es lediglich erforderlich, daß sich mindestens eine Verbindungsstelle auf der oberen Oberfläche des zusammengesetzten Rahmens befindet. Der untere Gehäuseteil kann daher auch von zwei L-förmi^en Seitenwandteilen und einem Boden gebildet werden, die zur Bildung einer boxähnlichen Struktur miteinander verbunden werden. In ähnlicher Weise können ein oder mehrere Seitenwandteile einstückig mit dem Boden ausgebildet sein.
Die genaue Ausbildung des unteren Gehäuseteils hän^t. natürlich von der ,jeweiligen Anwendung ab. Grundsätzlich ist diese Mehrkomponentenbauweise bei steckbaren Gehäusen sowie bei Flach-Gehäusen anwendbar. Kin derartiges Flachp;ohäuse enthält in bekannter Weise in den Seitenwandteilen mehrere Öffnungen für metallische Leitungen. Diese Öffnungen können in bekannter Weise in die getrennten Seit-enwandteile oder in den zusammengebauten Rahmen gebohrt werden.
Die isrfindun.n; ist mit hohem Nutzen auf dem Gebiet der Metallgehäuse anv/endbar. Üblicherweise werden diese Gehäuse aus KOVAIi oder aus kaltgewalztem Stahl hergestellt; rostfreier Stahl und andere ähnliche Metalle können ,jedoch ebenfalls verwendet werden. Es ist natürlich nicht notwendig, daß alle Komponenten des Gehäuseteils aus demselben Metall bestehen. Wenn verschiedene Materialien verwendet werden, muli ,iedoch dafür Sorr;e ^etragen werden, daß die thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Materialien in dein verwendeten 'Pemperatui'bereich ungefähr gleich sind. Somit; können ,"je nach Wunsch Gehäuse mit besonderen Metallboden verwendet werden. Im Fall eines
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Ganzmetallgehäuses wird die Verbindung zwischen den Teilen gewöhnlich durch Löten bewirkt. Eine typische Lötverbindung, die beim Zusammenbau eines .Rahmens aus KOVAH verwendbar d st, enthält Kupfer. Andere Lötmaterialien, die auf die Jeweils verwendeten Metalle zugeschnitten sind, sind dem Fachmann bekannt. Die Temperaturen, bei denen diese Materialien benutzt werden, sind ebenfalls bekannt.
Die Erfindung ist ferner in besonderen Fällen anwendbar, in denen Nichtmetalle, wie z. B. Keramikmaterialien, für den Gehäuseboden verwendet werden. Unter den Keramikmaterialion, die für den Gehäuseboden verwendet werden können,befinden sich Aluminium- und Berylliumoxid.
Fig. 3 zeigt eine teilweise Seitenansicht einer für eine spezielle Anwendung vorgesehenen Ausführungsform des unteren Gehäuseteils. Diese Fig. zeigt einen Gehäuseteil, der einen keramischen Boden 7 und eine metallische Seitenwand 8 aufweist. Eine Leitung 9 verläuft, wie gezeigt, durch eine Glasdichtunr: 10. Der Boden und die Seitenwand sind durch einen metallischen Montagering 11 miteinander verbunden, an dom sich einstückig ein Flansch 12 befindet, der von einem Vorsprung 13 getragen wird. Die Gehäuseanordnung kann mittels vorgefertigter Bohrungen 14 in der Flansch-Vorsprung-Anordnung festgeschraubt werden. Diese Ausführungsform ist eine von vielen möglichen Ausführungen des unteren Gehäuseteils, die im Rahmen der Erfindung möglich sind.
Der zweite Schritt bei der Bildung des mehrteiligen Mikroschaltkreis^ehäuses besteht darin, daß ein einstückiger kontinuierlicher Rahmenoberteil an der oberen Oberfläche des zusammengesetzten oeitenwandrahmens befestigt wird. Dieser Rahmenoberteil hat eine gleichmäßige obere Oberfläche, welche die hermetische Abdichtung eines Deckels an dem Gehäuse durch übliche Techniken erleichtert.
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Der Rahmenoberteil ist vorzugsweise metallisch. Für die meisten Anwendungen kann der Rahmenoberteil aus demselben Metall wie die Seitenwandteile, z. B. aus KOVAR, bestehen. Einander unähnliche Metalle können jedoch ebenfalls verwendet werden, solange diese miteinander befestigt werden können und aufeinander abgestimmte thermische Ausdehnungskoeffizienten haben.
Der Rahmenoberteil kann an der oberen Oberfläche des zusammengesetzten oeitenwandrahmens in irgendeiner üblichen Weise befestigt werden. Für die meisten Anwendungen wird Löten vorgezogen. Wie oben angedeutet wurde, sind die bei den ,ieweils für geeignet befundenen Metallen verwendbaren Lötmaterialien und -temperaturen dem Fachmann bekannt.
Der Rahmenoberteil wird vorzugsweise in einer Größe und Form vorgesehen, die im wesentlichen kongruent ist mit der oberen Oberfläche des kontinuierlichen zusammengesetzten Goitonwandrahmens. Bei der in Fig. 1 und 2 gezeigten Ausführungsi-'orrn ist: somit der Rahmenoberteil 6 ein bildrahmenförmiges Bauteil. Es versteht sich ,iedoch, daß der Rahmenoberteil sich über die Breite des oeitenwandrahmens hinaus erstrecken kann oder auch etwas schmaler als der Seitenwandrahmen sein kann, solange eine gleichmäßige obere Dichtungsflache für den Deckel [gewährleistet ist.
Nachfolgend wird zum besseren Verständnis ein besonderes Ausführungsbeispiel beschrieben.
Dieses Beispiel demonstriert das erfindungsgemäße Verfahren bei der Fertigung eines einfachen rechteckigen mehrteiligen Mikroschaltkreisgehäuses. Die Gesamtabmessungen des fertigen Gehäuses sind 7,62 cm χ 7,62 cm χ 0.6J5 cm (Höhe). Der untere Gehäuseteil wird von vier rechteckigen Seitenwandteilen gebildet, die aus 0,13 cm dickem KOVAR bestehen und so zusammen-
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gelötet worden sind, daß ein boxfürmi^er zusammengesetzter Rahmenteil entstanden ist, der oben und unten offen ist. Dieser boxförmire Rahmenteil v/ird dann auf den nietalliechen Moden aufgelötet. Bei dem letzten Verfahrensschritt wird ein metallischer Rahmenoberteil, der die Form eines einstückir;en Bildrahmens aufweist, an der oberen Oberfläche des >">e:i tenwandrahmens wiederum durch Löten befestigt. Der liuhmpnoborteil besteht nur. 0,0S1 cm dickem KOVAf?, welches vorher chemisch bearbeitet worden ist, um genaue Abmessungen und eine Gleichmäßigkeit der Oberfläche sicherzustellen.
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L e e r s e i t e

Claims (26)

  1. Patentanwälte I^ U L I /6
    Wenzel & Kalkoff
    Postfach 2448
    Witten/Ruhr
    Patentansprüche
    Hermetisch verschließbares mehrteiliges Mikroschaltkreisgehäuse, gekennzeichnet durch
    a) einen unteren Gehäuseteil mit einem Boden (S) und einem kontinuierlichen zusammengesetzten Seitenwandrahmen, der aus mindestens zwei gesonderten oeitenwandteilen (1-4) besteht, die in solcher Weise zusammengefügt worden sind, daß die obere Oberfläche dos zusammengesetzten Seitenwandrahmens mindestens eine „Sei tenwandtei1-Seitenwandtei!-Verbindung au fweist,
    b) und durch einen einstückigen kontinuierlichen iiahmenoberteil (6), der an der oberen Oberfläche des Heitenwandrahmens befestigt ist und eine gleichmäßige obere Oberfläche aufweist, auf der ein Gehäusedeckel hermebisch abdichtend anbringbar ist.
  2. 2. Gehäuse nach Anspruch 1, dadurch gekennzei c h net, daß die Seitenwandteile (1-4) aus Metall bestehen.
  3. j>. Gehäuse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß der Boden (5) aus Metall besteht.
  4. 4. Gehäuse nach Anspruch 1, 2 oder 3» dadurch gekennzeichnet , daß die oeitenwandteile (1-4) aneinander durch Löten, vorzugsweise durch Hartloten, befestigt sind.
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  5. 5. Gehäuse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Boden (5) aus Keramikmaterial besteht.
  6. 6. Gehäuse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Basis (5) mit mindestens einem der Seitenwandteile (1-4) einstückig ausgebildet ist.
  7. 7. Gehäuse nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß der Heitenwandrahmen mit mindestens einer zur Durchführung eines Leitungsdrahtes (9) dienenden Durchgangsöffnung versehen ist.
  8. 8. Gehäuse nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß der Rahmenoberteil (6) aus Metall besteht.
  9. 9. Gehäuse nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß der Rahmenoberteil (6) im wesentlichen kongruent mit der oberen Oberfläche des ooitenwandrahmens ist.
  10. 10. Gehäuse nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , daß der Rahmenoberteil (6) an der oberen Oberfläche des oeitenwandrahmens durch Löten befestigt ist.
  11. 11. Gehäuse nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Rahmenoberteil zur l'Jrzielung einer gleichmäßigen Oberseite chemisch bearbeitet i.r;t.
  12. 12. Gehäuse nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Rahmenoberteil (6) unter Bildung einer gleichmäßigen Oberseite ausgestanzt ist.
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  13. 13· Hermetisch verschließbares mehrteiliges Ganzmetall-Gehäuse zur Aufnahme von Mikroschaltkreisen, gekennzeichnet durch
    a) einen unteren Gehäuseteil bestehend aus einem metallischen Boden (5)» der an einen kontinuierlichen zusammengesetzten Seitenwandrahmen angelötet ist, welcher Seitenwandrahmen durch Zusammenlöten mehrerer metallischer Seitenwandteile (1-4) gebildet worden ist und auf seiner oberen Oberfläche mindestens eine Lötverbindung aufweist,
    b) und durch einen einstückigen kontinuierlichen metallischen Rahmenoberteil (6), der auf der oberen Oberfläche des öeitenwandrahmens angelötet ist, um eine gleichmäßige obere Oberfläche zu bilden, auf welcher ein Gehäusedeckel hermetisch abdichtend angebracht werden kann.
  14. 14. Verfahren zur Herstellung eines hermetisch verschließbaren mehrteiligen Mikroschaltkreisgehäuses nach Ansoruch , dadurch gekennzeichnet ,
    a) daß ein unterer Gehäuseteil mit einem Boden (S) und einem kontinuierlichen zusammengesetzten Seitenwandrahmen vorgesehen wird und der Seitenwandrahmen dadurch gebildet wird, daß mindestens zwei gesonderte Seitenwandteile (1-4) derart aneinander befestigt werden, daß die obere Oberfläche des zusammengesetzten Seitenwandrahmens mindestens eine Seitenwandteil-Seitenwandteil-Verbindung aufweist,
    b) und daß ein einstückiger kontinuierlicher Rahmenoberteil (6) an der oberen Oberfläche des Seitenwandrahmens befestigt wird, um eine gleichmäßige obere Oberfläche bereitzustellen, auf welcher ein Gehäusedeckel hermetisch abdichtend angebracht werden kann.
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    2 9 A 4 2 7
  15. 15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , daß Seitenwandteile (1-4) aus Metall verwendet werden.
  16. 16. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet , daß ein Boden (5) aus Metall verwendet wird.
  17. 17. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet , daß die Seitenwandteile (1-4) durch Löten aneinander befestigt werden.
  18. 18. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , daß ein Boden (5) aus einem keramischen Material verwendet wird.
  19. 19. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , daß ein mit mindestens einem der Seitenwandteile (1-4) einstückig ausgebildeter Boden (5) verwendet wird.
  20. 20. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , daß mehrere Leitungsdraht-Durchführungen in dem kontinuierlichen zusammengesetzten Seitenwandrahmen vorgesehen werden.
  21. 21. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch g e k e η η -
    ζ e i c h η et , daß ein Rahmenoberteil verwendet wird, der im wesentlichen kongruent ist mit der oberen Oberfläche des zusammengesetzten Seitenwandrahmens.
  22. 22. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , daß ein Rahmenoberteil (6) aus Metall verwendet wird.
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  23. 23. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet , daß der Rahmenoberteil (6) an der oberen Oberfläche des Seitenwandrahmens durch Löten befestigt wird.
  24. 24. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet , daß der Rahmenoberteil zwecks Erzielung einer gleichmäßigen oberen Oberfläche chemisch bearbeitet wird.
  25. 25. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet , daß der Rahmenoberteil (6) zur Erzielung einer gleichmäßigen oberen Oberfläche ausgestanzt wird.
  26. 26. Verfahren zur Herstellung eines hermetisch verschließbaren mehrteiligen Ganzmetall-Mikroschaltkreisflachgehäuses aus mehreren getrennten Teilen, dadurch gekennzeichnet ,
    a) daß ein unterer Gehäuseteil mit einem an einen kontinuierlichen zusammengesetzten Seitenwandrahmen angelöteten metallischen Boden (5) vorgesehen wird, welcher zusammengesetzte Seitenwandrahmen dadurch gebildet worden ist, daß mehrere metallische Seitenwandteile (1-4) zusammengelötet worden sind unter Bildung mindestens einer Lötverbindung auf der oberen Oberfläche des Seitenwandrahmens,
    b) und daß ein einstückiger kontinuierlicher metallischer Rahmenoberteil (6) auf die obere Oberfläche des zusammengesetzten Seitenwandrahmens aufgelötet wird, um eine gleichmäßige obere Oberfläche zu bilden, auf welcher ein Gehäusedeckel hermetisch abdichtend angebracht werden kann.
    030020/0793
DE19792944276 1978-11-03 1979-11-02 Mehrteiliges mikroschaltkreisgehaeuse und verfahren zur herstellung desselben Withdrawn DE2944276A1 (de)

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GB (1) GB2048572A (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4451540A (en) * 1982-08-30 1984-05-29 Isotronics, Inc. System for packaging of electronic circuits
US4547624A (en) * 1983-12-02 1985-10-15 Isotronics, Inc. Method and apparatus for reducing package height for microcircuit packages
US4716082A (en) * 1986-10-28 1987-12-29 Isotronics, Inc. Duplex glass preforms for hermetic glass-to-metal sealing
DE3904219C2 (de) * 1988-11-03 1998-12-10 Technotron Elektrotechnische G Verfahren zur Herstellung einer hermetisch verschließbaren Gehäusewanne für ein Hybridschaltkreisgehäuse und danach hergestellte Gehäusewanne
DE3837301A1 (de) * 1988-11-03 1990-05-10 Technotron Elektrotechnische G Herstellverfahren fuer hybridschaltkreisgehaeuse
US5277357A (en) * 1991-05-16 1994-01-11 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Process for making a metal wall of a package used for accommodating electronic elements
CN100337788C (zh) * 2005-05-25 2007-09-19 马军 金属封装外壳壳体的榫接钎焊加工方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2519222A1 (de) * 1975-04-30 1976-11-18 Elmeg Gehaeuse fuer kleingeraete
DE2629207A1 (de) * 1976-06-29 1978-01-05 Siemens Ag Gehaeuse zur aufnahme von mikrowellen- und zf-schaltungen
DE2629916A1 (de) * 1976-07-02 1978-03-30 Siemens Ag Gehaeuse zur aufnahme von leiterplatten und mic-substraten

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3404213A (en) * 1962-07-26 1968-10-01 Owens Illinois Inc Hermetic packages for electronic components
US3340602A (en) * 1965-02-01 1967-09-12 Philco Ford Corp Process for sealing
US3374537A (en) * 1965-03-22 1968-03-26 Philco Ford Corp Method of connecting leads to a semiconductive device
US3408451A (en) * 1965-09-01 1968-10-29 Texas Instruments Inc Electrical device package
US3502786A (en) * 1967-06-14 1970-03-24 Milton Stoll Flat pack spacer of low thermal diffusivity
US3546543A (en) * 1968-08-30 1970-12-08 Nat Beryllia Corp Hermetically sealed electronic package for semiconductor devices with high current carrying conductors
JPS4913660Y1 (de) * 1969-06-16 1974-04-04
JPS495597B1 (de) * 1969-10-17 1974-02-07
US3619734A (en) * 1969-12-17 1971-11-09 Rca Corp Assembly of series connected semiconductor elements having good heat dissipation
US3753054A (en) * 1970-01-02 1973-08-14 Texas Instruments Inc Hermetically sealed electronic package
DE2108520A1 (de) * 1970-02-24 1971-09-09 Owens Illinois Inc Hochtemperaturbestandige goldhaltige Zusammensetzung und ihre Verwendung bei der Herstellung elektronischer Vorrichtungen
US3726006A (en) * 1971-04-28 1973-04-10 Us Army Method for sintering thick-film oxidizable silk-screened circuitry
US3697666A (en) * 1971-09-24 1972-10-10 Diacon Enclosure for incapsulating electronic components
GB1426874A (en) * 1972-05-03 1976-03-03 Mullard Ltd Method of sealing electrical component envelopes
GB1426873A (en) * 1972-05-03 1976-03-03 Mullard Ltd Methods of pressure bonding a ceramic member to another member

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2519222A1 (de) * 1975-04-30 1976-11-18 Elmeg Gehaeuse fuer kleingeraete
DE2629207A1 (de) * 1976-06-29 1978-01-05 Siemens Ag Gehaeuse zur aufnahme von mikrowellen- und zf-schaltungen
DE2629916A1 (de) * 1976-07-02 1978-03-30 Siemens Ag Gehaeuse zur aufnahme von leiterplatten und mic-substraten

Also Published As

Publication number Publication date
FR2440675A1 (fr) 1980-05-30
FR2440675B1 (de) 1984-02-03
GB2048572A (en) 1980-12-10
US4262300A (en) 1981-04-14
CA1128185A (en) 1982-07-20

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