DE2848377C2 - Verfahren zur Herstellung von pulverförmigem ß -Siliciumcarbid - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von pulverförmigem ß -SiliciumcarbidInfo
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Description
Feinteiliges Siliciuincarbidpulver, das insbesondere
für die Herstellung von polykristallinen Siliciumcarbid-Sinterkörpern
Verwendung findet, kann nach mehreren bekannten Verfahren gewonnen werden, beispielsweise
durch direkte Synthese aus den Elementen, durch Reduktion von Siliciumdioxid oder durch Pyrolyse von
Verbindungen, die Silicium und Kohlenstoff enthalten. Es ist ferner bekannt, daß Siliciumcarbid im wesentlichen
in zwei verschiedenen Kristallformen vorliegen kann, nämlich in der kubischen, sogenannten ,i-Form
und in der hexagonalen. sogenannter. alpha-Form. Da gemäß einer vorherrschenden Meinung die besten
Ergebnisse beim Sintern mit /?-SiC-PuIver erreicht werden sollen, das nicht nur besonders feinteilig,
sondern auch sehr rein sein muß, sind einige der bekannten Verfahren auf die Erreichung dieses Ziels
gerichtet.
Gemäß der US-PS 30 85 863 kann reines kubisches SiC-Pulver durch Zugabe von SiCU zu einer Zuckerlösung
unter Bildung eines Kieselsäuregels, anschließender Dehydrierung und Erhitzung des so erhaltenen
feinteiligen Gemisches aus SiO^+ C in einer inerten
Atmosphäre auf etwa I8ÖO°C hergestellt werden, wobei
die Z'ickerlösung zweckmäßig so bemessen wird, daß
für jedes Si-Atom stöchiometrisch äquivalente Mengen an Kohlenstoff zur Verfugung stehen
Feinteiliges /J-SiC Pulver ist ferner nach sogenannten
Plasmaverfahren zugänglich, beispielsweise gemäß der
USPS 34 85 591 (die DF AS 12 83 813 entspricht) aus
SiOj und einem Kohlenwasserstoff in einem ein Inertgas
enthaltenden Plasma oder durdi pyrolytische Zersetzung
von Melhyltrichlörsilari oder Siliciumtetrachlorid,
einem Kohlenwasserstoff und Wasserstoff in einer PlasmaslrahlreaklionsZone, Wobei das Endprodukt
gegebenenfalls durch Mitverwendung von beispielsweise feinteiligen Borverbindungen in gewünschter Weise
dotiert werden kann (vgl. US-PS 38 39 542 und DE-OS 25 18 950).
Derartige Verfahren sind jedoch mit einem ungewöhnlichen hohen Aufwand verbunden.
Die mit geringerem Aufwand verbundenen Verfahren führen indessen nicht zu /}-SiC-Pulver mit dem
erforderlichen Reinheitsgrad. So wird beispielsweise in der US-PS 32 71109 (die der DE-AS 12 50 797
entspricht) ein Verfahren zur Herstellung von pulverförmigem ß-S\C aus Kieselsäure und Ruß beschrieben,
bei dem die Umsetzung in einer strömenden, inerten
ίο Gasatmosphäre bei Temperaturen zwischen 1150 und
16500C durchgeführt wird, wobei das Ausgangsgemisch zweckmäßig 4 — 5 Mol Kohlenstoff je Mol Kieselsäure
enthält. Es wird darauf hingewiesen, daß sowohl die Teilchengröße des Kohlenstoffs einen direkten Einfluß
i> auf die Teilchengröße des gebildeten Siliciumcarbids
hat, als auch das Molverhältnis von Kohlenstoff zu SiOj, das heißt, je größer dieses Molverhältnis ist, um so
geringer ist die Teilchengröße des SiC. Die -^wünschte
Teilchengröße des SiC wird demnach durch einen
Überschuß an Kohlenstoff erkauft, der anschließend oxidativ entfernt werden muß, was die erneute Bildung
von SiO2 auf der Oberfläche der SiC-Teüchen zur Folge
hat, das dann durch Nachbehandlung mit Säuren oder Laugen gereinigt werden muß.
2> Gemäß der US-PS 32 36 673 wild kolloidales SiC aus
Kieselsäure und Ruß gewonnen, wobei ebenfalls der Kohlenstoff im Oberschuß eingesetzt wird. Der
überschüssige Kohlenstoff muß anschließend durch Erhitzen in Luft verbrannt und nicht reagiertes SiO2 mit
Flußsäure entfernt werden und gemäß der US-PS 33 68 871 (die der DE-OS 15 67 593 entspricht) wird
gleichfalls feinkörniges SiC durch Umsetzung von Kieselsäure (Quarz) und Ruß (Überschuß an Kohlenstoff)
in Gegenwart einer inerten Atmosphäre oder im Vakuum gewonnen, vorzugsweise im Wirbelschichtverfahren,
wobei ebenfalls eine Nachbehandlung zur Entfernung des überschüssigen Kohlenstoffs als auch
des unumgesetzten Siliciumdioxids erforderlich ist.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren für die Herstellung von pulverförmigem SiC,
das im wesentlichen in der ^-Modifikation vorliegt, durch Erhitzen von Gemischen aus Kieselsäure und Ruß
auf Temperaturen im Bereich von 1300 bis 1700° C in
Gegenwart einer strömenden inerten Gasatmosphäre
4) oder im Vakuum zur Verfugung zu stellen, das das
gewünschte Endprodukt mit einer spezifischen Oberfläche (gemessen nach BET) von mindestens 5 mVg liefert,
ohne daß hierzu aufwendige Verfahrensmaßnahmen oder Nachbehandlungen erforderlich sind.
in Diese Aufgabe wird erfindungsgem ,3 dadurch gelöst,
daß als Ausgangskomponente hochdisperse Kieselsäure m;" einer Oberfläche von mindestens 100 m2/g (gemessen
nach BET) i.i einem molaren Überschuß von 0.01 bis 0.1 Mol. bezogen auf die stöchiometrisch erforderliche
>i Menge Ruß mit einer Oberfläche win mindestens
100m2/g (gemessen nach BET) verwendet wird, die
Ausgangskomponenten nach dem Vermischen durch Kaltverformung in stückige Form gebracht und
anschließend dem F.rhit/ungsvorgang bei einem CO-
ho Partialdruck von weniger als 100 mbar unterzogen
werden.
Für die Durchführung des erfindungsgernäßen Verfahrens
wird als Ausgangsmaterial vorteilhaft eine hochdisperse Kieselsäure mit einer spezifischen Oberfläche
von mindestens 200 mVg verwendet. Die spezifische Oberfläche, gemessen nach der BET'Methode,
dient als Maß für die Körnfeinheit, da die Körngröße
selbst erfahrungsgemäß im Submikronbereich nicht
mehr mit hinreichender Genauigkeit bestimmt werden kann. Aus der Angabe der spezifischen Oberfläche kann
die mittlere Teilchengröße gemäß der Gleichung
D = mittlere Teilchengröße in μΐη
S = spezifische Oberfläche in m2/g
ρ = Pulverdichte in g/cm3
S = spezifische Oberfläche in m2/g
ρ = Pulverdichte in g/cm3
annäherungsweise berechnet werden.
Die hochdisperse Kieselsäure muß außerdem sehr rein sein, das heißt praktisch frei von Stoffen, wie Bor
oder Borverbindungen, die eine Rekristallisation des gebildeten SiC begünstigen, da sonst die gewünschte
Feinheit des Endprodukts nicht mehr gewährleistet ist. Es ist daher zweckmäßig, daß der Borgehalt der
Kieselsäure unter 1%, vorzugsweise unter 0,5% und insbesondere unter 0,1%, jeweils bezogen auf das
Gesamtgewicht, liegt. Diese Einschränkung gilt auch für
den Reakiionsraum, in dem das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt wird, das heißt beispielsweise
für die Graphitgefäße, die zur Aufnahme des Reaktionsgutes dienen und die ebenfalls praktisch frei von den
genannten Stoffen sein müssen. Hochdisperse Kieselsäuren, die den genannten Anforderrngen genügen, sind
im Handel erhältlich.
Der als zweite Ausgangskomponente eingesetzte Ruß, beispielsweise Acetylenruß, sollte ebenfalls vorteilhaft
eine spezifische Oberfläche von mindestens 200 m2/g aufweist...
Der molare Oberschuß an hochd'cperser Kieselsäure
im angegebenen Bereich, bezogen auf die stöchiometrisch erforderliche Rußmenge, äst für^ie Durchführung
des erfindungsgemäßen Verfahrens von entscheidender Bedeutung. Da für die Bildung von SiC gemäß der
Gleichung
SiO2 + 3C --SiC + 2CO
theoretisch 3 Mol C je Mol S1O2 benötigt werden,
bedeutet das, daß je Mol eingesetzten Kohlenstoff mehr als Ui Mol SiO2 zur Verfügung stehen muß. Durch
diesen Oberschuß an Kieselsäure werden die während der Erhitzungsphase möglichen Verluste an S1O2,
beispielsweise durch SiO-Bildung ausgeglichen und die Erzeugung von praktisch C-freiem SiC garantiert.
Bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens werden zunächst die Ausgangskomponenten in
Wasser dispergiert, beispielsweise durch Kneten einer dickflüssigen Suspension in einer Knetvorrichtung. Die
so erhaltene homogene Masse wird anschließend durch Kaltverformung in stückige Form gebracht, beispielsweise
durch Strangpressen und dann getrocknet. Die Dimensionierung der geformten Teile wird dabei
vorteilhaft so bemessen, daß beim Erhitzungsvorgang eine gute Entgasung und eine vollständige Umsetzung
gewährleistet ist, was beispielsweise durch Pressen von Strängen mir einem Durchmesser von weniger als 4 mm
erreicht werden kann.
Diese Formgebung des Ausgangsmaterials spielt bei der Durchführung des erfindüngsgemäßen Verfahrens
ebenfalls eine entscheidende Rolle,' denn es wurde festgestellt, daß ohne diesen Formgebungsvorgang,
beispielsweise beim einfachen Trocknen der gekneteten Masse auf Hordenblechen das erhaltene SiC-Pulver
nicht dem gewünschten Feinheitsgrad entsprach.
Nach dem Trocknen wird das geformte Ausgangsmaterial in Graphitgefäße eingebracht und dann in einer
Vakuumanlage oder in einem mit Schutzgas, wie Argon, gespültem Durchschubofen erhitzt, wobei sich Temperaturen
von 1500 bis 1600° C besonders bewährt haben.
Zur Erzielung einer vollständigen Umsetzung sind hierbei im allgemeinen Reaktionszeiten von einigen Stunden, beispielsweise bis zu etwa 3 Stunden, erforderlich. Durch Mitverwendung von als Reaktionsbeschleuniger bekannten Zusätzen, wie Eisen- und insbesondere Aluminiumpulver, die vorteilhaft in Mengen bis zu etwa 1%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Ausgangsmaterials, eingesetzt werden, kann die Reaktionszeit verkürzt werden, ohne daß hierdurch die Qualität des Endprodukts beeinträchtigt wira.
Zur Erzielung einer vollständigen Umsetzung sind hierbei im allgemeinen Reaktionszeiten von einigen Stunden, beispielsweise bis zu etwa 3 Stunden, erforderlich. Durch Mitverwendung von als Reaktionsbeschleuniger bekannten Zusätzen, wie Eisen- und insbesondere Aluminiumpulver, die vorteilhaft in Mengen bis zu etwa 1%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Ausgangsmaterials, eingesetzt werden, kann die Reaktionszeit verkürzt werden, ohne daß hierdurch die Qualität des Endprodukts beeinträchtigt wira.
Die letzte entscheidende Maßnahme bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht in
der Kontrolle des CO-Partialdrucks während des Erhitzens, der unabhängig davon, ob im Vakuum oder in
Gegenwart einer strömenden Schutzgasatmosphäre gearbeitet wird, definitionsgemäß weniger als 100 mbar
betragen muß. Die besten Ergebnisse werden bei einem CO-Partialdruck von weniger als 60 mbar erzielt. Die
Kontrolle des CO-Partialdrucks kann durch übliche Maßnahmen vorgenommen werden, beispielsweise
durch Druckregulierung beim Arbeiten im Vakuum oder durch Regulierung der Strömungsgeschwindigkeit
des Schutzgases.
Es wurde nachgewiesen, daß bei höheren CO-Partialdrücken das erhaltene SiC-Pulver zwar dem
erforderlichen Feinheitsgrad entspricht, aber zuviel Kohlenstoff enthält, was beweist, daß die Umsetzung
nicht vollständig verlaufen ist.
Das nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhältliehe
pulverförmige SiC, das im wesentlichen in der ^-Modifikation vorliegt und eine spezifische Oberfläche
von mindestens 5 m2/g aufweist, wird mit einem Reinheitsgrad von mindesetns 98% und einem Kohlenstoffgehalt
von weniger als 0,8%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht, erhalten, ohne daß hierzu eine
Nachbehandlung zur oxidativen Entfernung von überschüssigem Kohlenstoff noch eine Säure- oder Laugenbehandlung
zur Entfernung von überschüssigem SiO? erforderlich ist. Rasterelektronenmikroskopische Aufnahmen
der Pulver zeigen bei einer Vergrößerung von 50 000 überwiegend runde Körner mit einer durchschnittlichen
Größe von 0,1 bis 0,2 μηι.
Die erfindupgsgemäß hergestellten feinteiligen SiC-Pulver zeigen ausgezeichnete Sintereigenschaften
und können daher als Ausgangsmaterial für die Herstellung von Sinterkörpern durch Heißpressen,
isostatisches Heißpressen oder druckloses Sintern Verwendung finden.
Beispiel 1
(zum Vergleich)
(zum Vergleich)
In einer Knetvorrichtung mit einem Fassungsvermögen von 30 1 wurden 12.5 kg entionisiertes Wasser und
4,33 kg hochdisperse Kieselsäure mit einer spezifischen Oberfläche von 46 mVg 10 Minuten geknetet. Dann
wurden 2,5 kg Ruß mit einer spezifischen Oberfläche von 150 mVg zugegeben und 2 Stunden geknetet. Der
SiO2-Überschuß entsprach 0,039 Mol, bezögert auf die
stöchiometrisch erforderliche Menge Ruß. Die geknetete Masse wurde anschließend ohne Kaltverformung auf
Hordenblechen 2 Stunden bei 150°C getrocknet. Von diesem getrockneten Material wurden 670 g in eine
Graphitschatulle eingewogen und diese in einen
Vakuumafen gestellt, der mit Argon gespült und
anschließend bis zu einem Druck von 150 mbar evakuiert wurde. Dann wurde der Ofen auf 1600°C
aufgeheizt und diese Temperatur 3 Stunden gehalten. Während der Reaktion wurde der Druck auf 150 mbar
aufrechterhalten.
Das so erhaltene SiC-Pulver hatte folgende Eigenschaften:
Beispiel 4
(erfindungsgemäß)
(erfindungsgemäß)
Unter den gleichen Bedingungen, wie in Beispiel 3 beschrieben, mit der Abänderung, daß als Ausgangskomponente
Ruß mit einer spezifischen Oberfläche von 200 m2/g eingesetzt wurde, wurde ein SiC-Pulver mit
folgenden Eigenschaften erhalten.
BET(m2/g
SiC(Gew.-q
C(Gew.-%) ίο BET(m2/g)
SiC(Gew.-%)
C(Gew.-%)
98,2
0,7
BET(m2/g)
SiC(Gew.-°/o)
C(Gew.-%
95,7
1,18
BET(ITiVg)
SiC (Gew.-»,
C(Gew.-%)
99,1
0,00
13,5
Dieses Verfahren entspricht dem Stand der Technik, bis auf den SiO2-Überschuß. Das so erhaltene Pulver hat
eine zu kleine Oberfläche. Die Sintereigenschaften entsprechen daher nicht den technischen Anforderungen.
Beispiel 2
(zum Vergleich)
(zum Vergleich)
In einer Knetvorrichtung mit einem Γ «issungsvermögen
von 30 1 wurden 12,5 kg entionisiertes Wasser und 433 kg hochdisperse Kieselsäure mit einer spezifischen
Oberfläche von 400m2/g 10 Minuten geknetet. Dann
wurden 24 kg Ruß mit einer spezifischen Oberfläche von 320 mVg zugegeben und 2 Stunden geknetet. Der
SiO2-Oberschuß entsprach 0,039 Mol.
Die geknetete Masse wurde anschließend in Stränge von 4 mm Durchmesser gepreßt und das geformte
Material 12 Stunden bei 1500C getrocknet. Von diesem getrockneten Material v/urden 670 g in eine Graphitschatulle
eingewogen und diese in einen Vakuumofen gestellt, der mit Argon gespült und anschließend bis zu
einem Druck von 130 mbar evakuiert wurde. Dann wurde der Ofen auf 15500C aufgeheizt und diese
Temperatur 3 Stunden gehalten. Während der Reaktion wurde der Druck von 130 mbar aufrechterhalten.
Das so erhaltene SiC-Pulver hatte folgende Eigenschaften:
Das so erhaltene Pulver hat zwar eine ausreichend große spezifische Oberfläche, aber weder der SiC-Gehalt
noch der C-Gehalt entsprachen den technischen
Anforderungen, da der CO-Partialdruck während der Reaktion zu hoch war.
Beispiel 3
(erfindungsgemäß)
(erfindungsgemäß)
Unter Verwendung derselben Ausgangskomponenten und den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 2
beschrieben, mit der Abänderung, daß der Vakuumofen bis zu einem Druck von 60 mbar evakuiert und dieser
Druck während der Reaktion aufrechterhalten wurde, wurde ein SiC-Pulver mit folgenden Eigenschaften
erhalten:
60 983
0,71
Das so erhaltene Pulver entspricht den technischen Anforderungen.
20 Beispiel 5
(erfindungsg.· /iäß)
(erfindungsg.· /iäß)
Unter Verwendung derselben Ausgangskomponenten wie in Beispiel 4 mit der Abänderung, daß den
Ausgangskomponenten 1 Gew.-% Aluminiumpulver zugegeben wurde, wurde unter den gleichen Bedingungen,
wie in Beispiel 3 beschrieben, ein SiC-Pulver mit folgenden Eigenschaften erhalten:
BET(m2/g) SiC(GeW.-0,
C(Gew.-%)
30
11,4
0,6
Das so erhaltene Pulver entspricht den technischen Anforderungen. Es wurde festgestellt, daß die CO-BiI-dung
während der Reaktion früher abklingt (Druckregulierung), was bedeutet, daß das Aluminiumpulver als
Reaktionsbeschleuniger wirkte ohne Qualitätsveränderung des SiC-Pulvers.
40 Beispiel 6
(erfindungsgemäß)
(erfindungsgemäß)
In einer Knetvorrichtung mit einem Fassungsvermögen von 300 1 wurden 65 kg entionisiertes Wasser und
22,5 kg hochdisperse Kieselsäure mit einer spezifischen Oberfläche von 400 m2/g 50 Minuten geknetet. Dann
wurden 13 kg Ruß mit einer spezifischen Oberfläche von 200 m2/g zugegeben und 2 Stunden geknetet. Der
SiO2-Überschuß entsprach 0,038 Mol. Die geknetete
Masse wurde anschließend, wie in Beispiel 2 beschrieben, stranggepreßt und 12 Stunden bei 150° C geknetet.
Das geknetete Material wurde in Graphitschatullen mit einem Fassungsvermögen von 3 kg eingefüllt und diese
in einen mit Argon gespülten Durchschubofen emgebracht. Die Ofentemperatur lag bei 16000C. Während
der Reaktion wurde durch Regulierung des Argonstromes ein CO-rartialdruck von 60 mbar nicht überschritten.
Das so erhaltene SiC-Pulver hatte folgende
Eigenschaften:
BET(m2/g) SiC(Gew.-%)
C(Gew.-%)
65
0,15
Das so erhalten* Pulver entspricht den technischen Das so erhaltene Pulver entspricht den technischen
Anforderungen. Anforderungen.
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung von pulverförmigem,
im wesentlichen in der ^-Modifikation vorliegendem Siliciumcarbid mit einer spezifischen Oberfläche von
mindestens 5 m2/g (gemessen nach BET), durch Erhitzen von Gemischen aus Kieselsäure und Ruß in
Gegenwart einer strömenden, inerten Gasatmosphäre oder im Vakuum auf Temperaturen im
Bereich von 1300 bis 1700°C, dadurch gekennzeichnet,
daß als Ausgangskomponente hochdisperse Kieselsäure mn einer spezifischen
Oberfläche von mindestens 100 mVg (gemessen nach BET) in einem molaren Oberschuß von 0,01 bis
0,1 Mol, bezogen auf die stöchiometrisch erforderliche Menge Ruß mit einer spezifischen Oberfläche
von mindestens 100 m2/g (gemessen nach BET) verwendet wird, die Ausgangskomponenten nach
dem Vermischen durch Kaltverformung in stückige Form gebracht und anschließend dem Erhitzungsvorgang bei einem CO-Partialdruck von weniger als
100 mbar unterzogen werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß den Ausgangskomponenten Aluminiumpulver
in Mengen bis zu 1 Oew.-°/o zugegeben wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2848377A DE2848377C2 (de) | 1978-11-08 | 1978-11-08 | Verfahren zur Herstellung von pulverförmigem ß -Siliciumcarbid |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2848377A DE2848377C2 (de) | 1978-11-08 | 1978-11-08 | Verfahren zur Herstellung von pulverförmigem ß -Siliciumcarbid |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2848377B1 DE2848377B1 (de) | 1980-01-24 |
DE2848377C2 true DE2848377C2 (de) | 1980-09-25 |
Family
ID=6054119
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2848377A Expired DE2848377C2 (de) | 1978-11-08 | 1978-11-08 | Verfahren zur Herstellung von pulverförmigem ß -Siliciumcarbid |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2848377C2 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2927226A1 (de) * | 1979-07-05 | 1981-01-08 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Dichte formkoerper aus polykristallinem beta -siliciumcarbid und verfahren zu ihrer herstellung durch heisspressen |
DE10143685B4 (de) * | 2001-08-31 | 2008-07-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Strukturierte Siliciumcarbidpartikel, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
-
1978
- 1978-11-08 DE DE2848377A patent/DE2848377C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2848377B1 (de) | 1980-01-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
B1 | Publication of the examined application without previous publication of unexamined application | ||
C2 | Grant after previous publication (2nd publication) |