DE2840529A1 - Mittels elektromagnetischer energie erhitzbarer gegenstand und verfahren zum erhitzen des gegenstandes - Google Patents

Mittels elektromagnetischer energie erhitzbarer gegenstand und verfahren zum erhitzen des gegenstandes

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DE2840529A1
DE2840529A1 DE19782840529 DE2840529A DE2840529A1 DE 2840529 A1 DE2840529 A1 DE 2840529A1 DE 19782840529 DE19782840529 DE 19782840529 DE 2840529 A DE2840529 A DE 2840529A DE 2840529 A1 DE2840529 A1 DE 2840529A1
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Description

DR.-ING. EUGEN MAIER DR.-ING. ECKHARD WOLF
TELEFON: (O711) 24 37 61/2 TELEGRAMME: MENTOR
PATENTANWÄLTE
7 STUTTGARTI, PISCHEKSTR. 19
DRESDNER BANK AG STUTTGART NR. 1920 534 POSTSCHECK STGT. 25200-70B
A 12 230
16. September 1978 i - dm
QUENTIN R. KRANTZ 28 Brinker Road, Barrington, Illinois 60010/USA
Mittels elektromagnetischer Energie erhitzbarer Gegenstand und Verfahren zum Erhitzen des Gegenstandes
Die Erfindung betrifft einen mittels elektromagnetischer Energie erhitzbaren Gegenstand, sowie ein Verfahren zum Erhitzen des Gegenstandes, der aus nichtleitendem Material besteht, jedoch eine durch Ionenimplantation leitende Oberflächenzone aufweist.
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Es ist schon vorgeschlagen worden, aufheizbare Gegenstände mit einer leitenden Oberflächenschicht zu versehen und diese Gegenstände beispielsweise in einem Mikrowellenofen einer elektromagnetischen Strahlung auszusetzen. Solche Gegenstände eignen sich jedoch zum Aufheizen, beispielsweise zum Aufwärmen von Speisen, nur in ungenügender Weise, weil solche eine leiterde Oberfläche bildenden filmartigen dünnen Schichten für elektromagnetische Strahlung unwirksame Empfänger darstellen. Der mittels einer annehmbaren Strahlungsenergie erreichbaren Temperatur sind somit Grenzen gesetzt, die auch nur mit einem erheblichen Aufwand erreicht werden, so daß dieses Verfahren mit großen Kosten verbunden ist. Oberflächenfilme erleiden eine Veränderung ihrer physikalischen und elektrischen Eigenschaften, wenn sie wiederholt auf Temperaturen in der Größenordnung von 150 C erhitzt werden und verbrennen bei Temperaturen von etwa 250 C und sind somit im Bereich von Temperaturen, wie sie beispielsweise zum Kochen oder auch für viele andere Zwecke, benötigt werden, unbrauchbar. Auch aus diesem weiteren Grund verschlechtert sich der Wirkungsgrad und die Betriebssicherheit solcher Heizverfahren. Eine weitere Schwierigkeit in der Verwendung solcher Oberflächenfilme bei Kochgeräten besteht darin, daß sie nur eine geringe Widerstandsfähigkeit gegenüber wiederholtem Reinigen aufweisen. Geräte mit üblichen leitenden Oberflächen dieser Art sind somit ganz allgemein für Heizzwecke in Mikrowellenofen
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u.dgl. nicht geignet. Für solche Zwecke sind daher im allgemeinen nur Geräte, die Ferrit-Materialien aufweisen, brauchbar.
Es wurde nun gefunden, daß Gegenstände mit einer durch implantierte Ionen leitend gemachten Oberflächenzone, die nach der Lehre der US-PS 2 682 700 hergestellt wurden, eine hohe Temperatur erlangen r wenn sie mit elektromagnetischer Strahlung angeregt werden, und daher nicht mit den Schwierigkeiten behaftet sind, die bei Gegenständen auftreten, die nur mit einem Oberflächenfilm beschichtet sind. Die US-PS 3 682 700 beschreibt ein Verfahren zum Implantieren einer leitenden Oberflächenzone in eine nichtleitende Oberflächenschicht oder
auch ein nichtleitendes Trägermaterial, bei dem die Oberflächenschicht des Trägermaterials in seinem molekularen Gefüge
angeregt und auf sie eine Lösung aufgebracht wird, die aus
einem Träger mit Verunreinigungen des n- und p-Typs einer
Valenzstufe besteht, die je nachdem höher oder niedriger als diejenige der Valenzelektronen des Trägermaterials ist. Nach der Lehre der vorgenannten US-PS wird durch die leitende Zone ein elektrischer Strom geschickt, wobei an aus einer Silberdeckschicht bestehende Elektroden eine Spannung angelegt wird.
Neuere Untersuchungen mit Halbleitern aus amorphem Material
haben gezeigt, daß neben den Fermi-Banden Banden vorhanden
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sind, in denen die den Strom leitenden Verunreinigungen beweglich sind. Demzufolge kann man sich einige der Vorteile der nach der Lehre der vorgenannten US-PS hergestellten, eine implantierte leitende Zone aufweisenden Körper zunutze machen, wenn man einen Aufbau wählt, der aus einem Träger mit Verunreinigungen des n- oder des p-Typs besteht. Als Träger kann S Cl. mit nur einer η-dotierten Verunreinigung, wie z.B. einem aus der Gruppe VIa des periodischen Systems ausgewählten Chalkogen, z.B. einem Tellurium-Salz, verwendet werden.
Ein Gegenstand der Erfindung besteht somit in dem Verfahren, einen aus nichtleitendem Material bestehenden, eine leitende Oberflächenzone mit ionenimplantierten Verunreinigungen aufweisenden Körper dadurch aufzuheizen, daß die leitende Oberflächenzone mit elektromagnetischer Energie angeregt wird. Insbesondere wird der Körper einer elektromagnetischen Strahlung, beispielsweise in einem Mikrowellenofen, ausgesetzt.
Ein weiterer Gegenstand der Erfindung besteht im Aufbau eines mittels elektromagnetischer Strahlung aufheizbaren Körpers, der eine nach der Lehre des vorgenannten US-Patentes aufbereitete leitende Oberflächenzone aufweist, die jedoch zum Zweck des Aufheizens des Körpers nicht an eine Spannungsquelle angeschlossen zu werden braucht.
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In der Zeichnung ist ein solcher Körper in schemati scher Weise in einem senkrechten Schnitt dargestellt.
Der die Gestalt einer Schale aufweisende, beispielsweise zum Kochen von Speisen bestimmte Körper besteht beispielsweise aus Glas oder irgend einem anderen nichtleitenden amorphen, beispielsweise keramischen Material, dessen innere Oberfläche 11 nach der Lehre der vorgenannten US-PS elektrisch leitend gemacht wurde. Diese Schale weist jedoch im Gegensatz zu den nach der Lehre der vorgenannten US-PS hergestellten Gegenständen keine Klemmen für den Anschluß an eine Spannungsquelle auf.
Eine quadratische Platte mit einer Kantenlänge von 355 mm und einem Flächenwiderstand von 800 -/* erreichte in einem mit 2450 MHz betriebenen Mikrowellenofen in 7 1/2 Minuten eine Temperatur von etwa 540 C.
Die Vorgänge, die sich beim Auftreffen der elektromagnetischen Energie auf die ionenimplantierte leitende Zone abspielen, sind nicht vollständig geklärt. Die Untersuchung einer solchen ionenimplantierten leitenden Zone zeigt, daß die Verunreinigungen vereinzelte räumlich getrennte Verunreinigungszentren bilden. Es kann daher angenommen werden, daß jeweils Paare von Verunreinigungszentren Dipole bilden, von
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denen eine Anzahl einen Abstand von annäherungsweise einer Viertel-Wellenlänge der eine bestimmte Frequenz aufweisenden elektromagnetischen Strahlung aufweist. Bei einer Frequenz von 2450 MHz würde das einen Abstand von etwa 30 mm ergeben. Die Dipole stellen die Empfänger der elektromagnetischen Strahlung dar. Die zu Schwingungen angeregten elektrostatischen Dipole der leitenden Zone verursachen eine molekulare Reibung und damit aufgrund der Hysterese einen Energieverlust. Dieser führt zu einer Aufheizung des Basismaterials. Insbesondere bei niedrigen Frequenzen können Wirbelströme noch zu dem Aufheizeffekt beitragen. Die Wärmeverteilung ist eine Funktion der elektromagnetischen Feldstärke und des Wärmeleitvermögens des Basismaterials.
Ein weiterer Faktor, der zu einer wirksamen Aufheizung noch wesentlich beitragen kann, besteht darin, daß die Oberfläche der ionenimplantierten Zone, wie man unter dem Mikroskop feststellen kann, zackenförmig und unregelmäßig ausgebildet ist. Die ausgestrahlten elektromagnetischen Wellen werden an diesen Stellen gestreut bzw. gebeugt und von dem Substrat aufgefangen. Nur ein geringer Teil der Energie wird reflektiert.
Darüberhinaus weist 'die ionenimplantierte leitende Zone ei-
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ne merkliche Ausdehnung in die Tiefe des Trägermaterials auf. Die elektromagnetische Strahlung dringt in die leitende Zone ein und wird dort absorbiert. Die mittlere freie Weglänge eines Elektrons der leitenden Zone ist eine direkte Funktion der Eindringtiefe der Strahlung. Dies trägt wesentlich zu einer wirksamen Energieabsorption, insbesondere im infraroten Bereich bei.
Im Gegensatz hierzu ist bei einer durch einen Film aufgebrachten leitenden Oberfläche die Ankopplung und Absorption der elektromagnetischen Energie weitgehend unwirksam. In einem entsprechenden Film können sich keine Vorgänge abspielen, die der Bildung vin Dipolen durch Verunreinigungszentren in der ionenimplantierten leitenden Zone entsprechen. Darüberhinaus wirkt die scharf definierte Grenzfläche zwischen dem leitenden Oberflächenfilm und dem Werkstoff des betreffenden Gegenstandes wie ein Reflektor, so daß die auftreffende Energie mehr zurückgeworfen als absorbiert wird.
Die Dichte der Stromfäden der ionenimplantierten Zone nimmt mit der Tiefe der leitenden Zone ab. Auf diese Weise nimmt der Widerstand allmählich von einem niedrigen Wert an der Oberfläche zu einem hohen Wert in der Tiefe.des Trägerkörpers zu, die größer als die maximale Eindringung der Gitter-
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Struktur der ionenimplantierten Zone ist. Demzufolge erfolgt die Wärmeausbreitung durch die leitende Zone. Auf diese Weise wird der steile Temperaturgradient vermieden, der sich einstellt, wenn ein Gegenstand mit einem Oberflächenüberzug mittels elektromagnetischer Strahlung erhitzt wird, so daß die Gefahr einer durch Wärmeausdehnung verursachten Rißbildung in der Oberfläche weitgehend vermieden wird.
Die elektromagnetische Strahlung, mit der ein Gegenstand mit einer ionenimplantierten leitenden Zone erhitzt wird, kann einen weiten Frequenzbereich aufweisen. Vorzugsweise erfolgt die Erhitzung mit einer Frequenz unterhalb des sichtbaren
15
Spektrums von 10 Hz. Eine in üblichen Mikrowellenöfen ge-
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bräuchliche Frequenz von 2,45 χ 10 Hz wurde als zweckmäßig befunden. Vom praktischen physikalischen Standpunkt aus betrachtet ist es schwierig, Verunreinigungs-Dipole aufzubauen,, deren Abmessungen den niedrigen Radiofrequenzen entsprechen-» Darüberhinaus gewinnen unterhalb etwa 0,5 x. 10 Hz gegenüber der elektrostatischen Hysterese die magnetische Hysterese und Wirbelströme mehr an Bedeutung, leisten jedoch einen geringeren Beitrag zum Aufheizen. Bei höheren Frequenzen wirkt sich die absorbierte Energie eher in der Erzeugung von Leuchteffekten als in der Heizwirkung aus»
Der Widerstand der leitenden Oberflächenzone wird vorteilhaft
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terweise entsprechend der Art der Hitzeanwendung gewählt. Die in dem betreffenden Gegenstand sich entwickelnde Temperatur steht in einer direkten Beziehung zu dem Maß der auf den Gegenstand auftreffenden elektromagnetischen Energie und zwar im umgekehrten Verhältnis zu dem Widerstand der leitenden Zone. Wenn eine hohe Temperatur gewünscht ist, muß ein niedriger Widerstand angestrebt werden. Für eine niedrige Temperatur gibt ein hoher Widerstand zufriedenstellende Ergebnisse. Bei einem in einem Mikrowellenofen verwendeten Kochgerät konnten mit Widerständen in einem Bereich von 1 bis 9QO-JC , bezogen auf eine quadratische Fläche, gute Ergebnisse erzielt werden; vorteilhafterweise wählt man jedoch einen Widerstand in der Größenordnung von 800-m· .
Ein Gegenstand der vorgenannten Art eignet sich insbesondere und in wirtschaftlicher Weise für das Kochen von Speisen in einem Mikrowellenofen. Insbesondere ist ein Gegenstand der vorgenannten Art als Kochtopf bzw. Pfanne zu gebrauchen, wobei man festgestellt hat, daß Gerichte, wie z.B. Pizza in einem solchen Topf fertiggekocht werden können. Solche Gerichte können, ohne in erfindungsgemäßer Weise zu verfahren, im allgemeinen nicht in Mikrowellenofen zubereitet werden. Außer den vorgenannten Anwendungen kann der erfindungsgemäße Gegenstand auch noch zu zahlreichen anderen Zwecken gebraucht werden.
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Claims (15)

  1. KRANTZ A 12 230
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    Patentansprüche
    f l.jVerfahren zum Erhitzen eines aus nichtleitendem Material bestehenden, eine durch eine ionenimplantierte Verunreinigung des n- oder p-Typs gebildete leitende Oberflächenzone aufweisenden Gegenstandes, dadurch gekennzeichnet , daß der Gegenstand im Bereich der leitenden Oberflächenzone der Einwirkung einer elektromagnetischen Energie unterworfen wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Gegenstand einer elektromagnetischen Strahlung ausgesetzt wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß die elektromagnetische Strahlung eine Frequenz aufweist, die in dem Gegenstand elektrostatische Hysterese-Verluste verursacht.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekenn zeichnet , daß die Frequenz der elektro-
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    magnetischen Strahlung über 0,5 χ 10 Hz und-unter 1015 Hz liegt.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß die elektromagnetische Strahlung im Mikrowellen-Bereich liegt.
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , daß die Frequenz der elektro-
    9 magnetischen Strahlung bei etwa 2,45 χ 10 Hz liegt.
  7. 7. Verfahren nach Anspruch 1 zur Erhitzung eines Kochgeschirrs, dadurch gekennzeichnet, daß der Gleichstromwiderstand der leitenden Oberflächenzone in der Größenordnung von 1 bis 90qS2 , bezogen auf eine quadratische Fläche, liegt.
  8. 8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet , daß der Gleichstromwiderstand der leitenden Oberflächenzone in der Größenordnung von 800J? liegt.
  9. 9. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß der Gegenstand der elektro-
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    KRANTZ - 3 - A 12 230
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    magnetischen Strahlung in einem geschlossenen Behälter ausgesetzt ist.
  10. 10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet , daß der geschlossene Behälter ein Mikrowellenofen ist und die Anregungsstrahlung durch die Erregerquelle des Ofens erzeugt wird.
  11. 11. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß der Gegenstand nach der Lehre der US-PS 3 682 700 hergestellt ist.
  12. 12. Gegenstand zur Behandlung nach einem Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Gegenstand als Trägermaterial einen nichtleitenden amorphen Stoff, eine leitende Oberflächenzone und in dieser eine Verunreinigung vom n- oder p-Typ, nicht jedoch Elektroden zum Anschluß an eine Spannungsquelle, aufweist.
  13. 13. Gegenstand nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß die Oberfläche einen Widerstand von 1 bis 90Qj£ , bezogen auf eine quadratische Fläche, aufweist.
    909813/0961
    KRAiITZ - 4 - A 12
    i - dm 16.9.1978
  14. 14. Gegenstand nach den Ansprüchen 12 und 13, dadurch gekennzeichnet , daß die leitende Oberfiächenzone einen Widerstand in der Größenordnung von 800 Jtaufweist.
  15. 15. Gegenstand nach den Ansprüchen 12 bis 14, dadurch gekennzeichnet , daß die leitende Oberflächenzone einen Widerstand in der Größenordnung von 800.AC aufweist und sich in Verbindung mit dieser leitenden Oberflächenzone kein leitendes Material von kleinerem Widerstand befindet.
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DE19782840529 1977-09-19 1978-09-18 Mittels elektromagnetischer energie erhitzbarer gegenstand und verfahren zum erhitzen des gegenstandes Withdrawn DE2840529A1 (de)

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SE7809781L (sv) 1979-03-20
IT7827863A0 (it) 1978-09-19
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JPS5489346A (en) 1979-07-16
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