DE2835711A1 - Vorrichtung zum einschleusen von proben in ein nach aussen dicht abgeschlossenes system - Google Patents
Vorrichtung zum einschleusen von proben in ein nach aussen dicht abgeschlossenes systemInfo
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782835711 DE2835711A1 (de) | 1978-08-16 | 1978-08-16 | Vorrichtung zum einschleusen von proben in ein nach aussen dicht abgeschlossenes system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782835711 DE2835711A1 (de) | 1978-08-16 | 1978-08-16 | Vorrichtung zum einschleusen von proben in ein nach aussen dicht abgeschlossenes system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2835711A1 true DE2835711A1 (de) | 1980-02-28 |
| DE2835711C2 DE2835711C2 (enExample) | 1992-04-16 |
Family
ID=6047068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19782835711 Granted DE2835711A1 (de) | 1978-08-16 | 1978-08-16 | Vorrichtung zum einschleusen von proben in ein nach aussen dicht abgeschlossenes system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE2835711A1 (enExample) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1287828B (enExample) * | 1964-04-20 | |||
| DE1282411B (de) * | 1964-12-28 | 1968-11-07 | Hermsdorf Keramik Veb | Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung und Bearbeitung von Bauelementen der Elektronik unter Vakuum, insbesondere zum Aufdampfen von Schichten |
-
1978
- 1978-08-16 DE DE19782835711 patent/DE2835711A1/de active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1287828B (enExample) * | 1964-04-20 | |||
| DE1282411B (de) * | 1964-12-28 | 1968-11-07 | Hermsdorf Keramik Veb | Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung und Bearbeitung von Bauelementen der Elektronik unter Vakuum, insbesondere zum Aufdampfen von Schichten |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Aufsatz: S.S. Charschan und H. Nestgaard "Thin Film Vacuum Processing machine" Electrochem. Technology, Jan./Feb. 1964 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2835711C2 (enExample) | 1992-04-16 |
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