DE2835711A1 - Vorrichtung zum einschleusen von proben in ein nach aussen dicht abgeschlossenes system - Google Patents

Vorrichtung zum einschleusen von proben in ein nach aussen dicht abgeschlossenes system

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Eberhard Mallwitz
Reimar Dipl Phys Spohr
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    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L1/00—Enclosures; Chambers
    • B01L1/02—Air-pressure chambers; Air-locks therefor
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00—Irradiation devices
    • G21K5/04—Irradiation devices with beam-forming means

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE1287828B (enExample) * 1964-04-20
DE1282411B (de) * 1964-12-28 1968-11-07 Hermsdorf Keramik Veb Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung und Bearbeitung von Bauelementen der Elektronik unter Vakuum, insbesondere zum Aufdampfen von Schichten

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1287828B (enExample) * 1964-04-20
DE1282411B (de) * 1964-12-28 1968-11-07 Hermsdorf Keramik Veb Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung und Bearbeitung von Bauelementen der Elektronik unter Vakuum, insbesondere zum Aufdampfen von Schichten

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Aufsatz: S.S. Charschan und H. Nestgaard "Thin Film Vacuum Processing machine" Electrochem. Technology, Jan./Feb. 1964 *

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