DE2823060C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bestimmen
der Wellenlänge eines monochromatischen Lichtstrahls
nach dem Oberbegriff des einzigen Anspruchs.
Aus der US-PS 32 17 591 ist bereits ein Fizeau-Interferometer
bekannt, das mit zwei spitzwinklig zueinander
verlaufenden Glasplatten versehen ist und das dazu
dient, die Wellenlänge eines monochromatischen Lichtstrahls
durch Erfassen des Abstandes der auftretenden
Interferenzstreifen voneinander unter Verwendung einer
optoelektronischen Einrichtung zu erfassen.
Das bekannte Verfahren ist jedoch nicht ausreichend
genau.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das vorbekannte
Verfahren derart weiterzubilden, daß eine höhere
Genauigkeit erreichbar ist.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die im kennzeichnenden
Teil des einzigen Anspruchs angegebenen
Merkmale gelöst.
Die Erfindung wird im folgenden anhand einer Zeichnung
erläutert. Dabei zeigt:
Fig. 1 eine schematische Draufsicht auf eine
Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens,
Fig. 2 eine Vorderansicht des Fizeau-Interferometers
aus der Sicht der Linie II-II der
Fig. 1;
Fig. 3 eine perspektivische Sicht eines Teils
des Wellenlängenmessers aus der Sicht
der Linie III-III der Fig. 1; und
Fig. 4 ein Flußdiagramm der gesamten, in der
Recheneinrichtung verwendeten Programmfolge.
Fig. 1 zeigt ein schematisches Blockdiagramm der Wellenlängenmeßvorrichtung.
Die Vorrichtung wird zum Bestimmen
der Wellenlänge einer monochromatischen Quelle,
wie beispielsweise einer Laserquelle, verwendet. Der
Laser kann entweder gepulst sein, d. h. also pulsierend
sein, oder aber eine kontinuierliche Wellenaussendung
aufweisen. Weiterhin kann der Laser abstimmbar sein.
Die Wellenlängenmeßvorrichtung wird verwendet, um in
Echtzeit die Wellenlänge des vom Laser 2 ausgesandten
Licht zu bestimmen. Folglich kann die Vorrichtung als
Prüfvorrichtung bei gleichzeitiger Verwendung eines
Lasers für andere Zwecke verwendet werden. Entsprechend
ist ein teilweise reflektierender Spiegel 4 vorgesehen,
um einen Teil 6 eines Lichtstrahls 5 durch einen variablen
Abschwächer 7 in die Wellenlängenmeßvorrichtung
zu lenken. Die Wellenlängenmeßvorrichtung ist in einem
Gehäuse 8 enthalten, das zur Aufnahme verschiedener
optischer Elemente der Vorrichtung dient und die Interferometer-
und photoelektrische Detektoranordnung gegen
äußere Lichtquellen abschirmt. Der Teil 6 des Lichtstrahls
5, der in das Gehäuse 8 der Vorrichtung geführt
wird, wird über einen Spiegel 10 zu einer Objektivlinse
12 gerichtet, die ein einfaches Mikroskopobjektiv sein
kann und die den Lichtstrahl 5 in einer mit einer
schmalen Apertur versehenen Platte 12′, die als räumliches
Filter dient, fokussiert. Die Apertur liegt
beispielsweise in der Größenordnung von 1 bis 10 µm.
Eine achromatische Sammellinse 14 ist eine Brennweite
von der Platte 12′ entfernt angeordnet und erzeugt
einen kollimierten oder parallelen Strahl, der auf das
Fizeau-Interferometer 16 gerichtet ist. Das Fizeau-
Interferometer 16 weist zwei optisch ebene Platten 18
und 20 auf, die mit Abstand voneinander mittels einer
Mehrzahl von Abstandhaltern 22, 24, 26 angeordnet sind.
Die Abstandhalter 22, 24, 26 gewährleisten einen spitzen
Winkel und einen Zwischenraum zwischen den Platten
18 und 20. Der spitze Winkel wird mit α bezeichnet und
liegt typischerweise in der Größenordnung von 20 Bogensekunden.
Die Nominaldicke des Zwischenraums ist 1 mm.
In Fig. 1 ist der spitze Winkel zum Zwecke der
Erläuterung weit vergrößert dargestellt. Die Platten 18
und 20 können scheibenförmig ausgebildet sein, wie in
Fig. 2 dargestellt ist. Sie sind aus Glas
hergestellt. Die Abstandhalter 22, 24, 26 können aus
glaskeramischem Material mit geringer Ausdehnung bestehen,
wie beispielsweise Cer-Vit-Scheiben der Größenordnung
von 1 mm Dicke und 6 mm Durchmesser. Der Zwischenraum
zwischen den Platten 18 und 20 kann einfach ein
Luftzwischenraum sein; alternativ hierzu kann das
Interferometer 16 oder das gesamte Gehäuse 8 evakuiert
sein. Zusätzlich kann eine Heizeinrichtung in der Nähe
des Interferometers 16 vorgesehen sein, um Temperaturveränderungen
und daraus resultierende Abmessungsänderungen
zu reduzieren.
Die Herstellung des Fizeau-Interferometers 16 kann in
herkömmlicher Weise durchgeführt werden.
Eine Antireflexionsbeschichtung ist auf den Flächen
vorgesehen, die nicht den Zwischenraum bilden. Die
Plattenflächen, die den Zwischenraum definieren, sind
unbeschichtet, um optische Phasenstreuungen auszuschalten.
Die Abstandhalter 22, 24, 26 sind mit einer der
den Zwischenraum bildenden Plattenflächen glasverschmolzen.
Die Einheit ist geschliffen, um den gewünschten
spitzen Winkel zu erhalten. Der Winkel kann
mittels eines üblichen Autokollimators geprüft werden.
Die Abstandhalter 22, 24, 26 werden sodann poliert, um
eine optisch ebene Fläche zu erhalten.
Das Fizeau-Interferometer 16 erzeugt ein Streifenmuster
27, wie ist in Fig. 2 gezeigt ist, wo zu sehen ist, daß
das Streifenmuster 27 eine parallele Anordnung von
hellen Streifen 28 (Maxima) und dunklen Streifen 30
(Minima) aufweist. Das Streifenmuster 27 wird durch
Reflexionen von einer Rückfläche 32 der Platte 18 und
einer Vorderfläche 34 der Platte 20 erzeugt. Das von
diesen beiden Flächen 32 und 34 reflektierte Licht
erzeugt des Streifenmuster 27, das daraufhin vom
Fizeau-Interferometer 16 über eine Spiegelfläche 42 auf
eine photoelektrische Detektoranordnung 40 reflektiert
wird. Die Spiegelfläche 32 ist unterhalb des Laserstrahls
angeordnet, der in das Fizeau-Interferometer 16
einläuft, wie am besten in Fig. 3 dargestellt. Das
Fizeau-Interferometer 16 ist geneigt, so daß das Streifenmuster
27 auf die Spiegelfläche 42 und anschließend
zur photoelektrischen Detektoranordnung 40 gelenkt
wird. Die photoelektrische Detektoranordnung 40 dient
zum Erzeugen elektrischer Signale, die der Intensität
des Lichts an verschiedenen Punkten entlang des Streifenmusters
27 entsprechen. Diese Signale werden dazu
verwendet, die Periode zwischen den Streifen und dem
Ort der Streifen (Phase) relativ zu einem Ursprungs-
oder Referenzpunkt mittels einer elektronischen Einrichtung
zu berechnen, die typischerweise außerhalb des
Gehäuses 8 untergebracht ist. Die elektronische Einrichtung
weist einen Signalverarbeitungskreis 44, einen
Analog-Digital-Umwandler 46 und eine Recheneinheit 48
auf. Der Ausgang der Recheneinheit 48 wird zu einer
Anzeige 50 zum Auslesen der berechneten Wellenlänge
geführt. Die Recheneinheit 48 kann auch Wellenlängensignale
als Steuersignale zu einem Vergleicherkreis 60
führen, der außerdem ein Referenz- oder gewünschtes
Wellenlängensignal erhält. Der Ausgang des Vergleicherkreises
60 wird zu einer Abstimmeinheit 64 zum Steuern
der Laserfrequenz geführt, so daß eine wirksame Feedback-
Abstimmfähigkeit gegeben ist. Der Vergleicherkreis
60 kann alternativ durch die Recheneinheit 48 ergänzt
werden, in der die Referenzwellenlänge ein einstellbarer
Eingangsparameter ist. Die Abstimmeinheit 64 weist
eine Digital-Analog-Umwandlungseinrichtung zum Schaffen
eines analogen Ausgangssignals zum Abstimmen des Lasers
auf.
Die Diodenanordnung ist im wesentlichen eine monolithische,
selbstlesende, lineare Photodiodenanordnung, die
1024 einzelne Elemente aufweist, deren jedes eine Breite
von 25,4 µm aufweist und die mit ihren Zentren 25,4 µm
voneinander entfernt angeordnet sind. Die Anordnungselemente
können eine Aperturlänge von 0,43 mm aufweisen,
obwohl andere Aperturgrößen ebenfalls verwendbar
sind. Jedes Element oder jede Zelle besteht aus einem
Photosensor, der parallel mit einem Speicherkondensator
angeordnet ist und über einen Feldeffekttransistorschalter
mit einer gemeinsamen Videoausgangslinie verbunden
ist. Die Vielzahl der Photosensorzellen wird mittels
durch Zwei-Phasen-Taktgeber betriebener Schieberegister
abgetastet.
Der Signalverarbeitungskreis 44 führt Zwei-Phasen-
Taktsignale der Diodenanordnung 40 zu und empfängt das
gemeinsame Videoausgangssignal, das unter Verwendung
eines als Stromverstärker geschalteten Operationsverstärkers
verstärkt wird. Das Videoausgangssignal vom
Signalverarbeitungskreis 44 wird einem Analog-Digital-
Umwandler zugeführt. Ein digitales Ausgangssignal mit
acht Bit wird dem Analog-Digital-Umwandler als Eingang
für die Recheneinheit 48 zugeführt. Ein Leersignal, das
das Ende einer Photodiodenausleseabtastung markiert,
wird ebenso vom Signalverarbeitungskreis 44 der Recheneinheit
48 zugeführt. Das Streifenmuster 27 wird typischerweise
alle 20 Millisekunden aufgesammelt und digital
umgewandelt. Die Recheneinheit 48 speichert das
Streifenmuster, um es in Übereinstimmung mit dem in
Fig. 4 dargestellten Algorithmus-Satz zu verarbeiten.
Beliebige üblicherweise verfügbare Minicomputer oder
Mikrocomputer oder -rechner können als Recheneinheit 48
verwendet werden.
Die Interferenzstreifen werden unter Verwendung der
photoelektrischen Detektoranordnung 40 gemessen, wobei
beispielsweise die Kante des ersten Elements als Ursprungs-
oder Referenzpunkt verwendet wird. Es ist
jedoch auch möglich, eine Referenz oder einen Ursprung
zu berechnen, wobei beispielsweise der Mittelpunkt
zwischen den zwei Markierungen 70 und 72 auf der Interferometerplatte
18 verwendet wird. Die Markierungen 70
und 72 können schmale Reflexionsstreifen sein, die auf
der äußeren Fläche der Platte 18 angeordnet sind. Die
Berechnung des Ursprungs in dieser Weise hat den Vorteil
eines automatischen Selbstkalibrierens der Vorrichtung
für den Fall, daß äußere mechanische Vibrationen
oder Schwankungen des Interferometers 16 auftreten.
Es ist offensichtlich, daß die Linse 14 durch einen
Spiegel und eine außerhalb der Achse befindliche optische
Anordnung ersetzt werden kann, um chromatische
Aberrationen auszuschalten. Zusätzlich kann der Spiegel
42 einfach ein Strahlspalter sein. Andere äquivalente
optische Ablenk- und Kollimier- oder Sammelausführungen
sind für den Fachmann naheliegend.
Das Vorgehen wird anhand des in Fig. 4 dargestellten
Flußdiagramms erläutert. Der Schritt 1 im Flußdiagramm
der Fig. 4 ist der Eingangsschritt, der zum Zurücksetzen
und Lesen verschiedener Computer- oder Rechnerparameter
dient und die Startadresse zum Datenlesen (Adresse
SELCH) in ein Allzweckregister (R3) einbringt. Die
Daten oder Angaben werden in den Computer oder Rechner
nach dem Auftreten eines Leersignals eingegeben (Schritt
2), das durch den Signalverarbeitungkreis 44 am Ende
jedes Abtastens der Photodiodenanordnung erzeugt wird.
Die Daten werden zuerst auf Sättigung überprüft
(Schritt 3), die beispielsweise auftritt, wenn äußeres
Licht in das Gehäuse 8 eintritt. Die Sättigungsprüfung
wird durchgeführt, indem jeweils fünf aufeinanderfolgende
Datenpunkte geprüft werden, um zu bestimmen, ob
sie alle auf ihrem maximalen Zählwert stehen, was 255
für das Eingangsdatenwort mit acht Bit ist. Wenn Sättigung
auftritt, wird eine Anzeige FFFF durch die Recheneinheit
48 auf der Anzeigetafel 50 erzeugt und das
Programm zur Wiederbeginnadresse RSTR des Schrittes 1
zurückgestellt.
Wenn die Eingangsdaten nicht gesättigt sind, geht der
Computer zum Schritt 4 über, um die erhaltenen Daten
auszuglätten oder zu differenzieren. Die Ausglätt- und
Differenzschleife ist einfach eine Faltung der Rohdaten
mit einer Einzelperiode einer symmetrischen Quadratwellenfunktion
mit Einheitsamplitude. Die Nulldurchgänge
der Faltung entsprechen den Maxima und den Minima des
Streifenmusters 27. Um den Nulldurchgang, der mit u₁′
bezeichnet ist, zu finden, interpoliert das Rechnerprogramm
die gefalteten Daten oder Angaben nahezu bis auf
¹/64 eines Fotodiodenelementabstandes (Schritt 5). Es
wird daran erinnert, daß die Fotodiodenanordnung 1024
getrennte Elemente aufweist. Daher sind die Nulldurchgangspunkte
u₁′ einfach Zahlen zwischen 1 und 65 536
(1024 × 64), die die Orte der Streifen Minima und
Maxima an verschiedenen Punkten i entlang der Fotodiodenanordnung
darstellen, wobei diese in Einheiten von
¹/64 eines Elementabstands (Zellenabstands) gemessen
werden (25,4 µm) vom Zentrum und 25,4 µm Zellenbreite).
Nominal sind diese Nulldurchgänge in gleichem Abstand.
Eine Aufzeichnung von u₁′ als Funktion von i sollte
linear sein. Tatsächlich sind die Platten 18 und 20
niemals optisch vollständig eben und haben eine Biegung
oder Wellung, die durch eine Polynomfunktion darstellbar
ist. Schritt 6 des Programms stellt die Nulldurchgänge
u₁′ ein, um die Plattenbiegung oder -unebenheiten
zu korrigieren, indem eine während der ursprünglichen
Kalibrierung experimentell bestimmte Polynomfunktion
verwendet wird. Die sich ergebenden, korrigierten Nulldurchgänge,
die mit u₁′ bezeichnet sind, werden dann
der wahrscheinlichsten geraden Linie mittels des Verfahrens
der kleinsten Quadrate angepaßt, wie in Schritt
7 angezeigt ist. Die Anpassungslinie ist durch u i = (LAMDA/2)+LL₀
gegeben. Die Steigung der angepaßten
geraden Linie ist die Hälfte des Streifenabstandes und
gegeben durch
LAMBDA = (2(mΣiu i -ΣiΣu₁)/(m(Σi ²)-(Σi)²) (1)
wobei
m
= die Gesamtzahl der Nulldurchgänge u₁′,
i
= 1, 2, . . . m und
LAMBDA
= Streifenabstand
ist. Der Wert von LL₀ ist der wahrscheinlichste Ort des
berechneten Nulldurchgangs für i = 0, und dieser Wert
ist gegeben durch:
LL₀ = (2ΣU I -LAMBDAΣi)/(2m) (2)
Für Streifenminimum am berechneten i = 0-Durchgang ist
die optische Interferenz-Wegdifferenz L gegeben durch:
L = L₀+LL₀, (3)
wobei L₀ die optische Wegdifferenz am Ursprung ist, von
dem aus u₁ gemessen ist. L₀ ist eine Kalibrierungs-
oder Eichkonstante des Instruments oder der Vorrichtung,
die vorher mittels eines Lasers mit einer exakt
bekannten Wellenlänge bestimmt wurde. LL₀ ist dann in
geeigneter Skalierung einfach der Wechsel in der optischen
Wegdifferenz zwischen der am Ursprung und der am
berechneten Nulldurchgang für i = 0 befindlichen. Wenn
jedoch ein Streifenmaximum am berechneten Nulldurchgang
für i = 0 gegeben ist, dann muß der Streifen am berechneten
Nulldurchgang für i = 1 ein Minimum sein. In
diesem Fall ist die optische Wegdifferenz gegeben
durch:
L = L₀+LL₀+LAMBDA/2 (4)
LAMBDA ist ein Maß der räumlichen Periode des Streifenmusters,
das der Wellenlänge des Lichtstrahls proportional
ist, welcher das Streifenmuster erzeugt. Wenn
LAMBDA korrekt normiert ist, ist LAMBDA daher eine
erste Näherung für die Wellenlänge des zu messenden
Lichtstrahls. Der wahre Wert der Wellenlänge λ ist am
ersten (oder einem beliebigen) Streifenminimum exakt
durch die folgende Formel gegeben:
L = n λ, (5)
wobei L die optische Interferenz-Wegdifferenz beim
Streifenminimum und
n = eine ganze Zahl (die Interferenzordnungszahl)
ist. Der Algorithmus zum Berechnen von λ besteht einfach
darin, LAMBDA aus Gleichung (1) und L aus Gleichung
(2) und entweder der Gleichung (3) oder der
Gleichung (4) zu berechnen. Das Verhältnis L/LAMBDA ist
etwa gleich der Ordnungszahl n, wie es der Gleichung
(5) entspricht. Tatsächlich bleibt jedoch Rest nach
dem Dividieren von L durch LAMBDA, und der Rest kann
benutzt werden, um die erste Näherung der Wellenlänge λ
zu korrigieren, wie unten beschrieben ist.
Die Schritte 8 bis 14 des Flußdiagramms der Fig. 4
illustrieren den oben beschriebenen Algorithmus. Um
Rundungsfehler zu vermeiden, sind die im Programm zur
Rechnung von LAMBDA und LL₀ verwendeten Formeln gegenüber
den Gleichungen (1) und (2) leicht verändert worden.
Als Ergebnis sind die Einheiten der LAMBDA und LL₀
ein ¹/128 des Abstands der Fotodiodenelemente. Der
berechnete Wert von LAMBDA wird geprüft, um festzustellen,
ob er innerhalb gewisser Grenzen, nämlich 66 bis
195 Diodenelementen, liegt, um sicherzustellen, daß
vorhergehende Rechenschritte einen annehmbar richtigen
Wert für LAMBDA ergeben haben. Wenn LAMBDA innerhalb
akzeptabler Grenzen richtig ist, wandelt der Schritt 9
des Programms LAMBDA LL₀ in geeignete Einheiten unter
Benutzung des Kalibrierungs- oder Eichfaktors SCALE um.
Der Faktor SCALE ist dem Interferometerkeilwinkel α
proportional und wird experimentell unter Verwendung
eines Lasers bekannter Wellenlänge während der ursprünglichen
Instrumentenkalibrierung oder -eichung
bestimmt. Schritt 10 des Programms bestimmt, ob der
berechnete Nulldurchgang i = 0 einen minimalen oder
maximalen Lichtintensitätswert entspricht. Dies wird
durchgeführt, indem einfach die Steigung des Nulldurchgangs
betrachtet wird, d. h. positive Steigung entspricht
einem Maximumwert und negative Steigung einem
Minimumwert. Schritt 11 des Programms berechnet L unter
Verwendung der Gleichung (3) oder der Gleichung (4) in
Kombination mit Gleichung (2). Der Wert von L wird
sodann durch LAMBDA im Schritt 12 dividiert. Der Quotient
L₀ ist gleich der Interferometerordnungszahl. Der
Rest wird mit n₁ bezeichnet, und der relative Rest, der
als n₁/n₀ definiert, ist der Korrekturfaktor
δ LAMBDA, der der ersten Näherung LAMBDA zuaddiert wird,
um die Wellenlänge λ zu erhalten. Der Schritt 13 des
Programms berechnet δ LAMBDA = n₁/n₀, und der Schritt
14 berechnet den Endwert von λ = LAMBDA+δ LAMBDA. Die
resultierende Ausgabewellenlänge wird nach Umwandlung
von der Binär- in die Dezimalform (Binär-Dezimal-Unterprogramm)
auf der Anzeigeeinrichtung angezeigt, wie im
Schritt 15 angedeutet ist.
Im Betrieb wird der angezeigte Wert von λ 10 bis 20 mal
in der Sekunde erneuert. Das Instrument oder die
Vorrichtung hat einen Wellenlängenbereich von etwa 400 nm
bis 1,1 µm mit einer möglichen Auflösung und Genauigkeit
von etwa 10⁸. Die Auflösung und die Genauigkeit
der Vorrichtung werden durch die Phasenmessungen bestimmt,
etwa so wie im Fall eines Fabry-Perot-Interferometers,
aber die Ordnungszahlungenauigkeit der Phasenmessung
wird durch die Bestimmung der räumlichen Frequenz
der Streifen vermieden. Die sich ergebende Vorrichtung
und das Verfahren erlauben eine absolute Bestimmung
der gemessenen Wellenlänge mit einer Genauigkeit
eines kleinen Teils des freien spektralen Bereichs
des Interferometers.
Es ist offensichtlich, daß die Vorrichtung zum Messen
der Wellenlänge sowohl eines CW-Lasers (Laser mit kontinuierlicher
Wellenaussendung) als auch eines gepulsten
oder pulsierenden Lasers verwendbar ist. Wenn ein
gepulster Laser verwendet wird, ist es notwendig, das
Pulsen oder Pulsieren des Lasers mit dem Abtasten der
linearen Fotodiodenanordnung zu synchronisieren. Der
"Startimpuls" des Signalverarbeitungskreises 44 kann
bequemerweise zu diesem Zweck verwendet werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist sowohl anwendbar bei
Lichtquellen im sichtbaren als auch im nicht sichtbaren
Bereich. Beispielsweise können UV- und IR-empfindliche
Fotodiodenanordnungen in der dargestellten Vorrichtung
verwendet werden.
Claims (1)
- Verfahren zum Bestimmen der Wellenlänge eines monochromatischen Lichtstrahls unter Verwendung eines mit zwei spitzwinklig zueinander verlaufenden Glasplatten versehenen Fizeau-Interferometers, wobei der Abstand der auftretenden Interferenzstreifen voneinander unter Verwendung einer optoelektronischen Einrichtung erfaßt wird, gekennzeichnet durch
- a) Berechnen eines Näherungswertes LAMBDA der Wellenlänge aus dem Abstand der Interferenzstreifen,
- b) Ermitteln der Phase der Interferenzstreifen unter Verwendung der optoelektronischen Einrichtung,
- c) Berechnen des optischen Interferenz-Gangunterschiedes L aus der Phase der Interferenzstreifen und aus einer Eichkonstante L₀, die durch Messen eines Gangunterschiedes bei einem Lichtstrahl bekannter Wellenlänge ermittelt wird.
- d) Berechnen eines Näherungswertes für die Interferenz- Ordnungszahl n₀ durch Dividieren des Interferenz- Gangunterschiedes L durch den Näherungswert LAMBDA,
- e) Ermitteln eines Korrekturwertes δ LAMBDA durch Bilden des relativen Restes n₁/n₀, wobei n₁ der beim Dividieren verbleibende Rest ist, und
- f) Addieren dieses Korrekturwertes δ LAMBDA zu dem Näherungswert LAMBDA unter Gewinnung des wahren Wertes der Wellenlänge des Lichtstrahls.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/801,272 US4173442A (en) | 1977-05-27 | 1977-05-27 | Apparatus and method for determination of wavelength |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2823060A1 DE2823060A1 (de) | 1978-12-21 |
DE2823060C2 true DE2823060C2 (de) | 1988-08-11 |
Family
ID=25180644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19782823060 Granted DE2823060A1 (de) | 1977-05-27 | 1978-05-26 | Vorrichtung und verfahren zum messen der wellenlaenge eines lichtstrahls |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4173442A (de) |
JP (2) | JPS53148458A (de) |
DE (1) | DE2823060A1 (de) |
FR (1) | FR2392372A1 (de) |
GB (1) | GB1603155A (de) |
NL (1) | NL188422C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10065127A1 (de) * | 2000-12-21 | 2002-08-29 | Alexander Grossmann | Fizeau-Interferometer für die Phasenschiebungsinterferometrie in einem abgeschlossenen Behälter |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6111644A (en) * | 1981-01-28 | 2000-08-29 | Veridian Engineering, Inc. | Interferometer for detecting and analyzing coherent radiation |
US4455089A (en) * | 1982-08-25 | 1984-06-19 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Refractive index and absorption detector for liquid chromatography based on Fabry-Perot interferometry |
EP0167601A1 (de) * | 1984-01-16 | 1986-01-15 | Ohio University | Interferometrischer spektrometer mit diodennetz |
US4681448A (en) * | 1985-03-25 | 1987-07-21 | Ball Corporation | Method and apparatus for stabilizing angle of acceptance of multiple-beam interferometer means in optical measuring system |
US5168324A (en) * | 1986-09-25 | 1992-12-01 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Wavelength meter having elliptical wedge |
US4905169A (en) * | 1988-06-02 | 1990-02-27 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method and apparatus for simultaneously measuring a plurality of spectral wavelengths present in electromagnetic radiation |
US4969742A (en) * | 1989-06-27 | 1990-11-13 | The Boeing Company | Integrated optic wavemeter |
WO1991001579A1 (fr) * | 1989-07-14 | 1991-02-07 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser excimeur a oscillations a bande etroite et detecteur de longueurs d'ondes |
JPH0436622A (ja) * | 1990-06-01 | 1992-02-06 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | レーザ光の波長検出方法及び装置 |
US5167444A (en) * | 1990-08-13 | 1992-12-01 | Litton Systems, Inc. | Apparatus and method for optical signal source stabilization |
US5543916A (en) * | 1993-10-04 | 1996-08-06 | Science Solutions, Inc. | Interferometer with alignment assembly and with processor for linearizing fringes for determining the wavelength of laser light |
US5420687A (en) * | 1993-10-04 | 1995-05-30 | Science Solutions Inc. | Interferometer with processor for linearizing fringers for determining the wavelength of laser light |
US5430574A (en) * | 1994-07-25 | 1995-07-04 | Litton Systems, Inc. | Rugged optical filter and switch for communication networks |
US5428700A (en) * | 1994-07-29 | 1995-06-27 | Litton Systems, Inc. | Laser stabilization |
US6594022B1 (en) * | 1999-08-23 | 2003-07-15 | Coretek, Inc. | Wavelength reference device |
US20020181515A1 (en) * | 2001-05-31 | 2002-12-05 | Kennet Vilhemsson | Apparatus and method for controlling the operating wavelength of a laser diode |
US20030076568A1 (en) * | 2001-10-22 | 2003-04-24 | Adc Telecommunications, Inc. | Light frequency stabilizer |
DE10158859B4 (de) * | 2001-11-30 | 2004-02-19 | Fachhochschule Hildesheim/Holzminden/Göttingen | Verfahren und Vorrichtung zur Analyse und Überwachung der Lichtintensitätsverteilung über den Querschnitt eines Laserstrahls |
US6859469B2 (en) * | 2001-12-11 | 2005-02-22 | Adc Telecommunications, Inc. | Method and apparatus for laser wavelength stabilization |
US7075656B2 (en) | 2001-12-11 | 2006-07-11 | Adc Telecommunications, Inc. | Method and algorithm for continuous wavelength locking |
US7038782B2 (en) * | 2001-12-11 | 2006-05-02 | Adc Telecommunications, Inc. | Robust wavelength locker for control of laser wavelength |
AU2003272734A1 (en) * | 2002-09-27 | 2004-04-19 | Soquel Technology, Inc. | Method and apparatus for determining the wavelength of an input light beam |
US6859284B2 (en) * | 2002-12-02 | 2005-02-22 | Picarro, Inc. | Apparatus and method for determining wavelength from coarse and fine measurements |
US7333210B2 (en) * | 2003-09-26 | 2008-02-19 | Fizeau Electro-Optic Systems, Llc | Method and apparatus for feedback control of tunable laser wavelength |
US7324207B1 (en) * | 2004-04-30 | 2008-01-29 | Translume, Inc. | Optical pulse correlator having an interferometer array |
US7259860B2 (en) * | 2004-09-22 | 2007-08-21 | Corning Incorporated | Optical feedback from mode-selective tuner |
US7420686B2 (en) * | 2006-02-23 | 2008-09-02 | Picarro, Inc. | Wavelength measurement method based on combination of two signals in quadrature |
US7891866B2 (en) * | 2008-02-18 | 2011-02-22 | The Boeing Company | Emissivity independent non-contact high temperature measurement system and method |
WO2010023442A2 (en) * | 2008-08-26 | 2010-03-04 | The University Court Of The University Of Glasgow | Uses of electromagnetic interference patterns |
CN103868603A (zh) * | 2014-02-18 | 2014-06-18 | 中国科学院理化技术研究所 | 一种真空紫外激光线宽的测量装置和方法 |
CN110940298B (zh) * | 2019-12-17 | 2021-07-27 | 重庆理工大学 | 自准直仪 |
US10948356B1 (en) * | 2020-06-22 | 2021-03-16 | Quantum Valley Ideas Laboratories | Measuring wavelength of light |
WO2022147920A1 (zh) * | 2021-01-11 | 2022-07-14 | 苏州联讯仪器有限公司 | 用于光通信的光波长测量系统 |
US11435234B1 (en) | 2021-02-10 | 2022-09-06 | Quantum Valley Ideas Laboratories | Increasing the measurement precision of optical instrumentation using Kalman-type filters |
CN114485964A (zh) * | 2022-04-18 | 2022-05-13 | 苏州联讯仪器有限公司 | 一种激光波长测量系统、激光波长计算方法及计算系统 |
CN114942081B (zh) * | 2022-07-25 | 2022-10-28 | 苏州联讯仪器有限公司 | 一种光波长测量方法及系统 |
CN115077728B (zh) * | 2022-08-22 | 2022-11-08 | 苏州联讯仪器有限公司 | 一种多波长检测方法、装置、系统 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2472991A (en) * | 1940-07-13 | 1949-06-14 | Thomas W Sukumlyn | Optical light wedge |
US3217591A (en) * | 1962-03-19 | 1965-11-16 | William L Barr | Angled plate scanning interferometer |
US3709610A (en) * | 1970-05-20 | 1973-01-09 | Holobeam | Method and apparatus for measuring and controlling the thickness of a filament or the like |
US3929398A (en) * | 1971-08-18 | 1975-12-30 | Harry E Bates | High speed optical wavelength detection system |
US3937580A (en) * | 1974-07-11 | 1976-02-10 | Recognition Systems, Inc. | Electro-optical method for measuring gaps and lines |
FR2309846A1 (fr) * | 1974-11-14 | 1976-11-26 | Anvar | Procede et dispositif de determination du nombre d'ondes de rayonnements optiques et application a l'asservissement de lasers |
-
1977
- 1977-05-27 US US05/801,272 patent/US4173442A/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-05-24 GB GB21765/78A patent/GB1603155A/en not_active Expired
- 1978-05-26 DE DE19782823060 patent/DE2823060A1/de active Granted
- 1978-05-26 JP JP6317678A patent/JPS53148458A/ja active Pending
- 1978-05-26 FR FR7815837A patent/FR2392372A1/fr active Granted
- 1978-05-26 NL NLAANVRAGE7805751,A patent/NL188422C/xx not_active IP Right Cessation
-
1984
- 1984-02-20 JP JP1984022945U patent/JPS6021783Y2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10065127A1 (de) * | 2000-12-21 | 2002-08-29 | Alexander Grossmann | Fizeau-Interferometer für die Phasenschiebungsinterferometrie in einem abgeschlossenen Behälter |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4173442A (en) | 1979-11-06 |
DE2823060A1 (de) | 1978-12-21 |
GB1603155A (en) | 1981-11-18 |
FR2392372B1 (de) | 1983-02-11 |
FR2392372A1 (fr) | 1978-12-22 |
JPS53148458A (en) | 1978-12-25 |
NL7805751A (nl) | 1978-11-29 |
NL188422B (nl) | 1992-01-16 |
JPS6021783Y2 (ja) | 1985-06-28 |
NL188422C (nl) | 1992-06-16 |
JPS59146733U (ja) | 1984-10-01 |
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