DE2822158A1 - Vorrichtung zur herstellung von photopolymeren platten mit reliefbildbereichen - Google Patents

Vorrichtung zur herstellung von photopolymeren platten mit reliefbildbereichen

Info

Publication number
DE2822158A1
DE2822158A1 DE19782822158 DE2822158A DE2822158A1 DE 2822158 A1 DE2822158 A1 DE 2822158A1 DE 19782822158 DE19782822158 DE 19782822158 DE 2822158 A DE2822158 A DE 2822158A DE 2822158 A1 DE2822158 A1 DE 2822158A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
frame
wheels
photopolymerizable
components
station
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19782822158
Other languages
English (en)
Other versions
DE2822158C2 (de
Inventor
Michio Inoko
Shinichi Kawatsuji
Toshiie Matsui
Shuu Yoshida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Publication of DE2822158A1 publication Critical patent/DE2822158A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2822158C2 publication Critical patent/DE2822158C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/17Surface bonding means and/or assemblymeans with work feeding or handling means
    • Y10T156/1788Work traversing type and/or means applying work to wall or static structure
    • Y10T156/179Work traversing type and/or means applying work to wall or static structure with liquid applying means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/17Surface bonding means and/or assemblymeans with work feeding or handling means
    • Y10T156/1788Work traversing type and/or means applying work to wall or static structure
    • Y10T156/1795Implement carried web supply

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Rotary Presses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

*"■ O "
Vorrichtung zur Herstellung von photopolymeren Platten mit Reliefbildbereichen
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Herstellung von photopolymeren Druckplatten mit Reliefbildbereichen, beispielsweise eine Reliefdruckform oder Tiefdruckform für die Verwendung bei der Photogravüre, aus einer geeigneten photopolymerisierbaren Masse. Die Erfindung ist insbesondere auf Mittel gerichtet, die eine photopolynerisierbare Masse für die Verwendung in der Vorrichtung in der beschriebenen Art zuführen und in der Lage sind, die Dicke der herzustellenden Druckplatte oder Druckform auf jeden gewünschten Wert einzustellen. Metallische Druckformen mit Reliefbildbereichen für die Verwendung zum Zeitungsdruck oder zum Druck von anderen Druckerzeugnissen sind in den letzten Jahren mehr und mehr durch photopolymere Druckformen, die aus photopolymerisierbaren Materialien hergestellt werden, zurückgedrängt worden.
Die verschiedensten photopolymerisierbaren Massen mit verschiedenen Eigenschaften werden für diesen Zweck verwendet. Einige basieren auf den Produkten der Handelsbezeichnung "APR" (hergestellt von der Anmelderin), "Dycril" (hergestellt von E.I. DuPont de Nemours & Co.), "Tilon" (hergestellt von Time Company) und "Sonne" (hergestellt von Kansai Paint Kabushiki Kaisha). Das übliche Verfahren zur Herstellung einer photopolymeren Platte mit Reliefbildbereichen unter Verwendung dieser photopolymerisierbaren Massen besteht darin, daß man gewünschte Bereiche einer Schicht dieses Materials polymerisiert und härtet, indem man das Material durch eine
809848/0915
bildtragende Transparentvorlage, z.B. einen Negativoder Positivfilm, mit aktinischer Strahlung belichtet und hierdurch diese Bereiche für die zum Herauswaschen verwendete Flüssigkeit unlöslich macht und die unbelichteten, ungehärteten Bereiche der Schicht herauswäscht, so daß die belichteten, gehärteten Bereiche der Schicht als Reliefbildbereiche der photopolymeren Druckform dienen.
Die Verwendung dieser Art von photopolymeren Druckformen bietet zahlreiche Vorteile gegenüber den bisher verwendeten metallischen Druckformen. Zunächst kann das Verfahren zur Herstellung der Druckform vereinfacht und die Zahl der zur Herstellung der Druckform angewendeten Arbeitsschritte stark reduziert werden. Zweitens kann die Umgebung für das mit der Herstellung der Druckformen befaßte Personal verbessert werden, weil die Herstellung der photopolymeren Druckformen mit ReliefbiIdem nicht die Verwendung einer Ätzlösung erfordert, die bisher zum Gravieren von metallischen Druckformen verwendet wurde. Drittens kann die Maßnahme der Beseitigung ausgebrauchter Lösungen vereinfacht werden.
Verschiedene Typen von Geräten zur Herstellung von photopolymeren Druckformen mit Reliefbildbereichen wurden bereits für verschiedene Zwecke entwickelt. Ein Typ eines solchen Geräts wird in der US-PS 3 848 998 beschrieben. In den letzten Jahren hat die Verwendung von photopolymeren Druckformen.dieser Art auf dem Gebiet des Flexodruckes Boden gewonnen. Als Ergebnis besteht ein zunehmendes Bedürfnis für die Entwicklung eines Geräts, das es ermöglicht, die Dicke der hergestellten photopolymeren Druckformen leichter zu verändern, als dies bisher der Fall war, weil es notwendig geworden ist, die Dicke der hergestellten Druckformen häufiger als bisher zu ändern.
809848/0915
Die bekannten Geräte zur Herstellung von photopolymeren Druckformen mit Reliefbildbereichen haben den Nachteil, daß ihnen Einrichtungen zur leichten Veränderung der Dicke der herzustellenden Druckplatten fehlen. Beim jetzigen Stand der Technik ist die Veränderung der Dicke der Druckplatten ein komplizierter und zeitraubender Vorgang. Beispielsweise ist es beim Flexodruck notwendig, die Dicke der Druckplatten von etwa 1 bis 10 mm zu verändern. Zur Änderung der Dicke der mit den bekannten Geräten herzustellenden photopolymeren Druckformen müssen Einstellungen und Veränderungen an einer großen Zahl von Abschnitten der Maschine vorgenommen werden. Typische neu einzustellende Teile der Maschine sind der Mechanismus zur Einstellung der Dicke der photopolymerisierbaren Schicht, insbesondere der Laminierzylinderspalt, der Rakelspalt und der Spalt der Muldenführungen zur Verhinderung des Ausbreitens der photopolymerisierbaren Masse über eine vorbestimmte Zone hinaus. Die Abstände in der Belichtungsstation müssen ebenfalls neu eingestellt werden. Bisher werden diese Neueinstellungen vorgenommen, indem die in Frage kommenden Maschinenteile vorübergehend ausgebaut oder Schrauben gelockert werden, um hierdurch die notwendigen Einstellungen vornehmen zu können. Die Neueinstellungen von Maschinenteilen müssen so erfolgen, daß die Teile nach den Neueinstellungen gut aufeinander abgestimmt sind. Die Vornahme der Neueinstellungen an den in Frage kommenden Maschinenteilen ist somit zeitraubend und aufwendig in der Arbeit. Beispielsweise ist für die Vornahme von Neueinstellungen von Maschinenteilen zur Anpassung einer Maschine an eine neue gewünschte Dicke einer herzustellenden photopolymeren Druckform ungefähr ein halber Tag erforderlich. Die kompliziertesten Einstellungen sind .an dem Mittel für die Beschickung mit photopolymerisierbarer Masse vorzunehmen.
809848/0915
Gegenstand der Erfindung ist eine „zur Herstellung von photopolymeren Druckformen mit Reliefbildbereichen be stimmte verbesserte Vorrichtung mit einem zur Zuführung der photopolymerisierbaren Masse dienenden Beschickungs mechanismus/ der so-verbessert ist, daß sr leicht einstellbar ist und leicht an eine gewünschte Dicke einer herzustellenden photopolymeren Platte angepaßt werden
Die Vorrichtung gemäß der Erfindung zur Herstellung von photopolymeren Druckformen mit Reliefbildbereichen umfaßt die folgenden Teile: Eine Station zur Bildung einer Schicht aus der photopolymerisierbaren Masse, einen Beschickungsmechanismus zur Zuführung der photopolymerisierbaren Masse, und Führungsschienen/ auf denen der Beschickungsmechanismus durch die Station hin- und herbewegt wird. Der Beschickungsmechanismus umfaßt Bauteile zum Gießen der photopolymerisierbaren Masse auf ein erstes flächiges Material, das auf die Station gelegt worden ist, zur Bildung einer Schicht der Masse auf dem flächigen Material, eine Rakel zum Einebnen und vorläufigen Reduzieren der Dicke der Schicht der photopolymerisierbaren Masse, Bauteile zur Zuführung eines zweiten flächigen Materials auf die Schicht unter Bildung eines aus dem ersten flächigen Material, dem zweiten flächigen Material und der zwischen den flächigen Materialien eingeschlossenen photopolymerisierbaren Schicht bestehenden Laminats, eine Laminierwalze, die so angeordnet ist, daß sie über das Laminat rollt und die Schicht : auf eine vorbestimmte Dicke reduziert, einen Rahmen und einen ersten Radsatz und einen zweiten Radsatz, die den Rahmen tragen, auf den Schienen rollen und hierbei den lahmen längs der Schienen bewegen, wobei sich der erste Radsatz, in Bewegungsrichtung des Beschickungsmechanismus, in den die photopolymerisierbare Masse zur Bildung ί
809848/891^5
2-82215B
der Schicht in der .Station eingegossen ist, in einer hinter der Stellung des zweiten Radsatzes befindlichen Lage befindet, die Laminierwalze und die Rakel mit dem Rahmen längs der Schienen beweglich und so angeordnet sind, daß sich die Laminierwalze, in der genannten Richtung gesehen, hinter der Rakel befindet. Der Beschickungsmechanismus ist ferner mit Bauteilen versehen, die -die Höhenlage der Laminierwalze und der Rakel so regulieren und einstellen, daß der Abstand zwischen der Laminierwalze und den Führungsschienen und zwischen der Rakel und den Schienen gleichzeitig so eingestellt wird, daß bei jeder Einstellung der Regelungsgrad des Abstandes zwischen der Laminierwalze und den Schienen kleiner ist als der des Abstandes zwischen Rakel und Schienen.
Die Laminierwalze und die Rakel sind vorzugsv/eise am Rahmen befestigt. Die Einstellvorrichtung kann mit Bauteilen zur Änderung der relativen Stellungen des zweiten Radsatzes und des Rahmens in einer solchen Weise versehen sein, daß der Rahmen um die Achse des ersten Radsatzes geschwenkt wird. Die Bauteile zur Veränderung der relativen Stellungen können die Form von Verbxndungsstücken, die den Rahmen mit dem zweiten Wagen verbinden, und von Bauteilen zur Veränderung des Winkels zwischen den Verbxndungsstücken und den Rahmen haben. Das Bauteil zur Änderung des Winkels kann ein Stab sein, der durch den Rahmen geschraubt ist und mit einem Ende gegen das Verbindungsstück, an einer Stelle stößt, die senkrecht auf die Welle des zweiten Radsatzes ausgerichtet ist. Die Bauteile zur Änderung der relativen Stellungen können auch als Gleitbahnen, die mit dem zweiten Radsatz verbunden und im wesentlichen senkrecht relativ zum Rahmen -beweglich sind, und als Nocken ausgebildet sein, die am Rahmen oder an den Gleitbahnen befestigt sind und -sich mit einem Teil gegen den Rahmen oder die
80^848/0315
Gleitbahnen legen, so daß durch Betätigung der Nocken die relativen Stellungen der Gleitbahnen und des Rahmens verändert werden, wobei der Rahmen um die Achse des ersten Radsatzes geschwenkt wird.
Der Einstellmechanismus kann als Alternative auch einen Hilfsrahmen umfassen, der am Rahmen befestigt ist und die Laminierwalze und die Rakel trägt. Ein Ende des Hilfsrahmens kann neben der Achse des ersten Radsatzes schwenkbar mit dem Rahmen verbunden sein, und der Hilfsrahmen kann mit Bauteilen zur Änderung der relativen Stellungen des anderen Endes des Hilfsrahmens und des Rahmens so versehen sein, daß der Hilfsrahmen relativ zum Rahmen gedreht wird. Als Bauteile zur Änderung der relativen Stellungen können Verbindungsstücke, die das andere Ende des Hilfsrahmens mit dem Rahmen verbinden, und Bauteile zur Veränderung des Winkels zwischen dem Rahmen und dem Hilfsrahmen vorhanden sein. Als Bauteil zur Veränderung des Winkels kann ein drehbarer Stab vorhanden sein, der in den Hilfsrahmen geschraubt ist und mit einem Ende gegen ein Verbindungsstück stößt.
Der Abstand zwischen der Achse der Welle des ersten Radsatzes und der Rakel entspricht vorzugsweise dem 1,2-bis 3-fachen Abstand zwischen der Achse der Welle des ersten Radsatzes und der Laminierwalze.
Als Gießvorrichtung dient vorzugsweise eine Mulde, die die photopolymerisierbare Masse in der Flüssigphase enthält und so ausgebildet ist, daß sie die Masse ausgießt, wenn der Beschickungsmechanismus über das erste flächige Material auf der Station geführt wird. Die Mulde ist vorzugsweise so gelagert, daß ein vorbestimmter Abstand zwischen der Mulde und den Führungsschienen in der Station unabhängig von der Betätigung der Einstellvor-
809848/Ό915
richtung, die die Abstände zwischen der Laminierwalze und den Führungsschienen und zwischen der Rakel und den Schienen einstellt,-aufrecht erhalten wird. Besonders bevorzugt wird die Lagerung der Mulde entweder auf dem 5. zweiten Radsatz oder auf einem besonderen, auf den Führungsschienen laufenden Radsatz anstelle des ersten und zweiten Radsatzes.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die Abbildungen beschrieben.
Fig. 1 zeigt schematisch als Vorderansicht eine Ausführungsform einer Vorrichtung zur Herstellung von photopolymeren Druckformen mit Reliefbildern, wobei einige Teile der Vorrichtung weggelassen sind.
Fig. 2 zeigt schematisch als Draufsicht die Vorrichtung, wobei einige Teile weggelassen sind.
Fig. 3 zeigt schematisch als Seitenansicht einen Beschickungsmechanismus für photopolymerisierbares Material in der Vorrichtung gemäß der Erfindung, wobei einige Teile weggelassen sind.
Fig. 4 ist eine Draufsicht auf den Beschickungsmechanismus für die photopolymerisierbare Masse, wobei einige Teile weggelassen sind.
Fig. 5 ist eine Draufsicht auf eine zweite Ausführungsform des erfindungsgemäßen Beschickungsmechanismus für die photopolymerisierbare Masse, wobei einige Teile des Beschickungsmechanismus weggelassen sind.
Fig. 6 ist eine Seitenansicht des in Fig. 5 dargestellten Beschickungsmechanismus für die photopolymerisierbare Masse, wobei einige Teile weggelassen sind.
809848/0915
In Fig. 1 und Fig. 2 ist mit Bezugsziffer 1 ein Hauptkörper des Geräts, mit Bezugsziffer 2 der Mechanismus zur Zuführung der photopolymerxsierbaren Masse und mit Bezugsziffer 3 eine gleichzeitig als Belichtungsstation dienende Station zur Bildung einer Schicht aus der photopolymerisierbaren Masse (nachstehend einfach als "Station" bezeichnet) gekennzeichnet. In der Station 3 sind ein oberer Lichtkasten 4, ein unterer Lichtkasten 5, eine obere Glasplatte 6 und eine untere Glasplatte 7 vorhanden. Die obere Glasplatte 6 ist starr an der Unterseite des oberen Lichtkastens 4 befestigt und bildet mit diesem eine bauliche Einheit, die schwenkbar an dem im oberen Teil von Fig. 2 angeordneten Teil der Apparatur befestigt ist und von einem den oberen Lichtkasten be- -wegenden Schwenkmechanismus, der die Form eines elektrisch betätigten (nicht dargestellten) Zylinders haben kann, geschwenkt wird. Die Belichtungsstation kann nach Bedarf so modifiziert werden, daß sie beispielsweise der in der US-PS 3 848 998 dargestellten Belichtungsstation ähnelt. Die Bezugsziffer 8 bezeichnet eine Laminierwalze, die Bezugsziffer 9 einen Schacht zur Einführung eines Trägermaterials, die Bezugsziffer 10 eine Mulde, die Bezugsziffer 11 eine Rakel und die Bezugsziffer 12 eine Skala zur Einstellung der Plattendicke. In einem Schrank 13 sind Regelvorrichtungen für die Lichtquellen und verschiedene Mechanismen und die Netzanschlüsse untergebracht. Auf der Oberseite des Schrankes 13 sind Schalter, Anzeigelampen usw. angeordnet.
Das in der vorstehend beschriebenen Weise ausgebildete Gerät arbeitet im allgemeinen wie folgt: Zunächst wird der obere Lichtkasten 4 in seine offene Stellung geschwenkt, und ein bildtragendes Transparent, beispielsweise ein Negativfilm, wird auf die untere Glasplatte 7 gelegt. Die Transparentvorlage wird mit einer Schutz-
8098 4 8/0915
folie bedeckt, um zu verhindern, daß photopolymerisierbare Masse daran haften bleibt. Dann wird der Zuführungsmechanismus 2 aus seiner in Fig. 1 dargestellten Ausgangsstellung zur Station 3 geführt. Er wird dann in seine in Fig. 1 dargestellte Ausgangsstellung zurückgeführt, während die Mulde 10 gedreht wird, um photopolymerisierbare Masse auf die Schutzfolie in Station 3 zu geben. Zu diesem Zeitpunkt wird ein Trägermaterial durch den Schacht 9 zugeführt und mit der Laminierwalze 8 auf die auf die Schutzfolie gegebene photopolymerisierbare Schicht laminiert. Die Laminierwalze 8 hat die Aufgabe, das mehrschichtige Material aus photopolymerisierbarer Schicht und Trägermaterial auf eine vorbestimmte Dicke einzustellen. Da, in Bewegungsrichtung des Beschickungsmechanismus 2 gesehen, die Rakel 11 vor der Laminierwalze 8 liegt, bildet die Rakel 11 vorläufig eine Schicht der photopolymerisierbaren Masse vor der Einstellung der Dicke des mehrschichtigen Materials aus der photopolymerisierbaren Schicht und dem Trägermaterial durch die Laminierwalze 8. Der Abstand zwischen der Unterkante der Rakel 11 und der Oberseite der Station 3 ist größer als der Abstand zwischen dem untersten Teil des Außenumfangs der Laminierwalze 8 und der Oberseite der Station 3.
Nach Beendigung der vorstehend beschriebenen Vorgänge in der Station 3 wird der obere Lichtkasten 4 in seine Schließstellung zurückgeschwenkt. Dann wird die photopolymerisierbare Schicht durch das Trägermaterial mit aktinischer Strahlung aus der oberen Lichtquelle belichtet, so daß die photopolymerisierbare Schicht von oben durch das Trägermaterial vorbelichtet wird. Anschließend wird die photopolymerisierbare Schicht mit aktinischer Strahlung aus der unteren Lichtquelle durch die Transparentvorlage belichtet. Es ist zu bemerken, daß es nicht wesentlich ist, die photopolymerisierbare
809 8 48/0 915
Schicht von oben durch das Trägermaterial zu belichten. Wenn dies der Fall ist, kann der obere Lichtkasten 4 durch eine Druckplatte ersetzt werden, die die mehrschichtige Anordnung aus Trägermaterial, photopolymerisierbarer Schicht und Schutzfolie auf dem Transparent niederhält. Es ist auch möglich, die Belichtung der photopolymerisierbaren Schicht mit aktinischer Strahlung zur Bildung der Reliefbildbereiche auf der Schicht von oben vorzunehmen.
Wenn die Belichtungen durchgeführt worden sind, wird der obere Lichtkasten 4 wieder in seine offene Stellung geschwenkt und die photopolymerisierbare Schicht zusammen mit dem Trägermaterial und der Schutzfolie aus der Belichtungsstation 3 entfernt. Die Schutzfolie wird dann abgestreift und das zweischichtige Material aus photopolymerisierbarer Schicht und Trägermaterial der nächsten Entwicklungsstation zugeführt, wo unbelichtete, ungehärtete Bereiche der Schicht herausgewaschen und die Schicht dann getrocknet wird, wobei eine fertige photopolymere Druckform mit Reliefbildbereichen erhalten wird. Die bevorzugten Arten der photopolymerisierbaren Masse, der Schutzfolie und des Trägermaterials, bevorzugte Lichtquellen und ein Beispiel einer bevorzugten Ausführungsform des Auswaschens werden ausführlich in der US-PS 3 848 998 beschrieben.
In Fig. 3 und Fig. 4 ist der Beschickungsmechanismus 2 für die photopolymerisierbare Masse im einzelnen dargestellt. Hierbei sind gewisse Teile zur Einfachheit der Erklärung nur schematisch dargestellt. An einem Rahmen sind eine Welle 8a der Laminierwalze 8, die Rakel 11, der Schacht 9 für die Zuführung des Trägermaterials, eine Hilfslaminierwalze 8b, die mit der Laminierwalze 8 zusammenwirkt und das Trägermaterial zwischen den WaI-
809848/0915
zen hält, eine daran angeformte Platte 22 mit einer Gewindebohrung zum Einschrauben des mit Außengewinde versehenen Teils eines Stabes 21, der als Antrieb für die Verbindungsstücke 23 dient, eine Welle 24, die die Verbindungsstücke 2 3 drehbar miteinander verbindet und Lager 27 befestigt, in denen eine Welle 26 für zwei Räder 25, die einen ersten Raasatz bilden, gelagert ist. Führungsschienen 28 verlaufen bis zu dem vom Beschickungsmechanismus 2 am weitesten entfernten Ende der unteren Glasplatte 7 und führen die Bewegung der Räder 25 des ersten Radsatzes, der Räder 29 eines zweiten Radsatzes und der Räder 30 für die Mulde 10. Der Beschickungsmechanismus 2 als ganzes wird durch einen nicht dargestellten Antriebsmechanismus auf den Schienen 28 bewegt. Die Laminierwalze 8 wird synchron mit der Bewegung des Beschickungsmechanismus 2 mit Hilfe von Riemen 33 gedreht, die über Scheiben 31 auf der Welle 26 des ersten Radsatzes 25 und Scheiben 32 auf der Welle 8a der Laminierwalze 8 laufen. Vorzugsweise werden die Abmessungen der Scheiben 31 und 32 bzw. der Räder 25 so gewählt, daß die Umfangsgeschwindigkeit der äußeren Umfangsfläche der Laminierwalze 8 der Laufgeschwindigkeit des Beschickungsmechanismus 2 gleich ist.
Jedes Verbindungsstück 23 ist an einem Ende schwenkbar an der Welle 2 4 und am anderen Ende starr mit einer Welle 34 der Räder 29 des zweiten Radsatzes verbunden. Ein (nicht dargestelltes) Lager ist zwischen der Welle 34 und jedem Rad 29 so angeordnet, daß nur die Räder 2 9 sich drehen, wenn der Beschickungsmechanismus 2 in Bewegung ist. Es ist jedoch zu bemerken, daß die Welle 34 auch starr mitden Rädern 29 verbunden sein kann und sich mit ihnen dreht. Wenn dies der Fall ist, ist das andere Ende jedes Verbindungsstückes 23 mit der Welle 34 zur Drehung relativ zur Welle verbunden.
809848/0915
Auf der Oberseite des Stabes 21 ist starr eine Skala befestigt, die mit Teilstrichen oder einem geeigneten Zeiger versehen ist, die so ausgebildet sind., daß sie im Zusammenwirken mit einem Zeiger oder einer Strichteilung auf dem Rahmen 20 die Dicke der zu bildenden photopolymerisierbaren Schicht anzeigen. Das untere Ende des Stabes 21 stößt gegen die Oberseite eines der Verbindungsstücke 23 und ist senkrecht auf die Welle 34 ausgerichtet.
Die Mulde 10 ist an ihrem Boden schwenkbar an einer Welle 37 befestigt, die an ihren gegenüberliegenden Enden in zwei Seitenplatten 38 gelagert ist, die durch einen Stab 37a, auf dem der Boden der Mulde 10 aufliegt, miteinander verbunden sind. Die Seitenplatten 38 sind an der Welle 34 der Räder 29 und auch an den Achsen 36 der Räder 30 befestigt, so daß die Platten 38 in einer im wesentlichen feststehenden Winkelstellung relativ zu den Schienen 28 gehalten werden. Die Mulde 10 kann dann um die Achse der Welle 37 gekippt oder gedreht werden. Es ist jedoch zu bemerken, daß die Halterung für die Mulde 10 nicht auf die vorstehend beschriebene Anordnung begrenzt ist und die Mulde unabhängig und getrennt von der Welle 34 von vier Rädern, die auf den Schienen 28 rollen können, getragen werden kann. Mit anderen Worten, jede beliebige Anordnung kann für die Befestigung der Mulde 10 verwendet werden, solange die untere Gießkante 10a der Mulde 10 dann, wenn die Mulde in ihre Gießstellung gekippt wird, zur Oberseite der Station 3 einen vorbestimmten Abstand während ihrer Bewegung längs der Schienen 28 unabhängig von einer etwaigen Winkelstellung hat, in die der Rahmen 20 geschwenkt wird. Es ist wesentlich, daß ein Mechanismus, durch den die Mulde relativ zu den Achsen 36- glatt beweglich ist, z.B. ein Kupplungsmechanismus od.dgl., zwischen der Mulde und den
809848/0915
Achsen vorgesehen wird. Die Mulde kann entweder so ausgebildet sein, daß sie in beiden Richtungen drehbar oder schwenkbar ist, oder sie kann mit einem Boden versehen sein, der zur Freigabe der photopolymerisierbaren Masse in der Station 3 geöffnet werden kann.
Der in der vorstehend beschriebenen Weise ausgebildete Beschickungsmechanismus für die photopolymerisierbare Masse arbeitet wie folgt, wenn die Dicke der herzustellenden photopolymeren Druckform geändert werden muß: Die auf dem Stab 21 befestigte Skala 35 wird so gedreht, daß die Dicke der photopolymeren Druckplatte zu einer gewünschten Dimension vergrößert wird. Der Stab 21 bewegt sich relativ zum Rahmen 20 nach unten, weil der Stab 21 durch die am Rahmen 20 befestigte Platte 22 geschraubt ist. Da jedoch das untere Ende des Stabes gegen eines der an der Welle 34 des Radsatzes 29 befestigten Verbindungsstücke 23 stößt, ist der Stab 21 nicht in der Lage, den Teil des Verbindungstückes 23, gegen den er stößt, nach unten zu bewegen, so daß die Platte 22 sich nach oben bewegt mit dem Ergebnis, daß der Rahmen 20 zusammen mit der Platte 2 2 entgegen dem Uhrzeigersinn gegeneinander geschwenkt werden, wie in Fig. 3 dargestellt. Zu diesem Zeitpunkt kippt der Stab natürlich entgegen dem Uhrzeigersinn. Das Ausmaß dieser Kippbewegung ist jedoch so gering, daß sie vom betrieblichen Standpunkt vernachlässigbar ist. Während der Rahmen 20 entgegen dem Uhrzeigersinn in Fig. 3 geschwenkt wird, bewegt sich somit ein Ende jedes Verbindungsstückes 23 nach oben, während die Welle 24 sich relativ dazu dreht, und das andere Ende jedes Verbindungsstückes vollführt eine Winkelbewegung mit den Rädern 29 um die Welle 34.
Der Rahmen 20 ist an einem Ende mit der Welle 26 des
809848/0915
ersten Radsatzes 25 so verbunden, daß er eine Schwenkbewegung relativ dazu vollführen kann, so daß die Schwenkbewegung des Rahmens 20 entgegen dem Uhrzeigersinn um die Achse der Welle 26 des ersten Radsatzes 25 stattfinden kann. Die Schwenkbewegung des Rahmens 20 entgegen dem Uhrzeigersinn veranlaßt somit die Laminierwalze 8 und die Rakel 11 sich relativ zu den Schienen 28 nach oben zu bewegen, obwohl die Räder 25 und 29 und die Räder 30 für die Mulde 10 mit den Schienen 28 in Berührung bleiben. Durch diese Anordnung ist es möglich, die Dicke der herzustellenden photopolymeren Druckplatte zu vergrößern. Wenn die Druckplatte dünner werden soll, kann dies erreicht werden, indem man die in Frage kommenden Mechanismen und Teile umgekehrt zu der vorstehend beschriebenen Weise betätigt.
Die Mulde 10 wird aus den nachstehend genannten Gründen vorteilhaft unabhängig von dem Vorgang der Einstellung der Dicke gehalten. Wenn die Mulde 10 gekippt wird, um die photopolymerisierbare Masse in der Station 3 zuzuführen, hat die untere Gießkante 10a der Mulde zur Oberseite der Station 3 einen erheblich größeren Abstand als die Dicke der herzustellenden Druckplatte, so daß die Einstellung des Abstandes nach der Dicke der Druckplatte keinen Sinn hat. Es ist wichtiger, daß Muldenführungen in üblicher Weise an beiden Seiten der Mulde 10 angeordnet sind, um Überlaufen oder Ausbreiten der photopolymerisierbaren Masse in einer Richtung senkrecht zur Bewegungsrichtung des Zuführungsmechanismus 2 oder in Bereiche außerhalb der Oberfläche der Station 3 zu verhindern, wenn die Mulde 10 gekippt wird, um die photopolymerisierbare Masse in der Station zu entleeren. Die Muldenführungen und die Oberseite der Station 3 haben einen dichten Abstand zueinander, so daß es notwendig ist, Neueinstellungen der Muldenführungen ge-
809848/0915
trennt von der Mulde vorzunehmen, wenn die Mulde selbst neu eingestellt wird, wenn die Dicke der herzustellenden Druckplatte zu ändern ist. Bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform wird die Mulde 10 jedoch durch die Welle 34 des zweiten Radsatzes 29 getragen, d;i-e mit der Schwenkbewegung des Rahmens 20 nichts zu tun hat. Durch diese Anordnung wird das vorstehend genannte Problem hinsichtlich der Muldenführung ausgeschaltet.
Wie Fig. 3 zeigt, sind die Räder 25 des ersten Radsatzes, die Laminierwalze 8, die Rakel 11 und die Mulde 10 des Beschickungsmechanismus 2 für die photopolymerisierbare Masse in der genannten Reihenfolge vom hinteren Ende zum vorderen Ende des Beschickungsmechanismus 2 auf seinem Weg oder Hub zur Bildung der photopolymerisierbaren Schicht auf der auf die Oberfläche der Station 3 gelegten Schutzfolie angeordnet. Wenn daher der Rahmen zur Einstellung der Dicke der herzustellenden Schicht geschwenkt wird, bewirkt die Schwenkbewegung des Rahmens 20 jederzeit eine kleinere Änderung des Abstandes zwischen dem untersten Teil des Außenumfangs der Laminierwalze 8 und der Oberseite der Station 3 als des Ab-standes zwischen dem untersten Teil der Rakel 11 und der Oberseite der Station 3. Mit anderen Worten, eine Änderung, die am Abstand zwischen Laminierwalze 8 und Station 3 vorgenommen wird, ist kleiner als eine Änderung, die am Abstand zwischen Rakel 11 und Station 3 vorgenommen wird. Dies ist vorteilhaft gegenüber dem Fall, in dem diese beiden Abstände die gleiche Veränderung erfahren. Vorzugsweise hat die von der Rakel vorläufig gebildete Schicht aus photopolymerisierbarer Masse etwa die 1,2- bis 3-fache Dicke der Schicht, die endgültig von der Laminierwalze 8 eingestellt wird. Als optimaler Bereich gilt ungefähr die 1,3- bis 1,6-fache Dicke. Dieser Bereich wird unter Berücksichtigung
809848/0915
des Eindringens der Laminierwalze 8 in die photopolymerisierbare Schicht und das Reduktionsverhältnis der Schicht der photopolymerisierbaren Masse bestimmt- Wenn daher einmal die Beziehung zwischen der Dicke einer vorläufig von der Rakel gebildeten Schicht und der Dicke einer durch die Laminierwalze endgültig eingestellten Schicht für eine gegebene Dicke der photopolymeren Druckform festliegt, ist es zweckmäßig, keine große Änderung in der Beziehung vorzunehmen, auch wenn die Dicke der herzustellenden Druckplatte geändert wird.
Es ist offensichtlich, daß, wenn Einstellungen der Dicke der herzustellenden Druckplatten durch Anordnung der Bauteile des Beschickungsmechanismus 2 in der vorstehend beschriebenen Weise und durch Schwenken des Rahmens mit dem als Drehpunkt dienenden ersten Radsatzes 25 vorgenommen werden, durch die Festlegung der vorstehend genannten Beziehung zwischen den durch die Rakel und die Laminierwalze 8 eingestellten Dicken der Schicht der photopolymerisierbaren Masse das Ziel der Erfindung erreicht wird. Es ist vorteilhaft, das Verhältnis des Abstandes zwischen der Achse des ersten Radsatzes 25 und der Rakel 11 zum Abstand zwischen der Achse des ersten Radsatzes 25 und der Laminierwalze 8 auf etwa 1,2:1 bis 3:1 einzustellen. Dieser Bereich des Abstands-Verhältnisses entspricht im wesentlichen dem Verhältnis der Abstände zwischen der Rakel 11 und der Oberfläche der Station 3 und zwischen der Laminierwalze 8 und der Oberfläche der Station 3.
Eine zweite Ausführungsform des Mechanismus zur Einstellung der Abstände der Rakel 11 und der Laminierwalze 8 zur Oberfläche der Station 3 ist in Fig. 5 und Fig. 6 dargestellt. Er besteht aus zwei seitlich ausgerichteten Gleitstücken 39, die mit den Enden der WeI-
809848/0915
le 34 relativ drehbar zueinander verbunden und längs im wesentlichen senkrecht der Nuten 3 9a, die in den äußeren Seitenflächen eines Rahmens 2O gebildet sind, verschiebbar sind. Exzenterscheiben 40 sind an den Enden einer Welle 41 befestigt, die sich drehbar durch gegenüberliegende Seitenteile des Rahmens 20 erstreckt. Die Exzenterscheiben 40 liegen auf den Oberseiten der Gleitstücke 39 auf. Eine Exzenterscheibe ist mit einer Skala versehen und an einem Hebel 42 so befestigt, daß die Exzenterscheiben mit Hilfe des Hebels 42 um die Achse der Welle 41 in beiden Richtungen drehbar sind, um den Rahmen 20 zu kippen und hierdurch die Dicke der herzustellenden photopolymeren Druckplatte einzustellen.
aus der vorstehenden Beschreibung ist es ersichtlich, daß durch die Erfindung Verbesserungen im Beschickungsmechanismus für die photopolymerisierbare Masse erzielt worden sind. Der Beschickungsmechanismus für die photopolymerisierbare Masse in der Vorrichtung gemäß der Erfindung ist einfach konstruiert und läßt sich leicht betätigen, um die Vorrichtung auf die Herstellung von photopolymerisierbaren Schichten der gewünschten Dicke einzustellen.
809848/0915
Leerseite

Claims (12)

  1. VON KREISLER SCHÖNWALD MEYCS EISKOLD FUES VON KRE1SLER KELLER SELTING
    PATENTANWÄLTE Dr.-Ing. von Kreisler + 1973
    Ür.-Ing. K. Schönwald, Köln Dr.-Ing. Th. Meyer, Köln Dr.-Ing. K. W. Eishold, Bad Soden Dr. J. F. Fues, Köln Dipl.-Chem. Alek von Kreisler, Köln Dipl.-Chem. Carola Keller, Köln Dipl.-Ing. G. Selting, Köln
    Ke-Ax/Tcu 5 ICCLLN 1 , 19. Mai 1^78
    DEICHMANNHAUS AM HAUPTBAHNHOF
    ASAHI KASEI KOGYO KABUSHIKI KAISHA,
    2-6, Dojima-hama 1-chome, Kita-ku, Osaka (Japan)
    Patentansprüche
    Vorrichtung zur Herstellung von photopolymeren Platten mit Reliefbildbereichen, gekennzeichnet durch eine Station (3), die photopolymerisierbare Schichten bildet, einen Beschickungsmechanismus (2) für eine photopolymerisierbare Masse und Führungsschienen (28) , auf denen der Beschickungsmechanismus (2) durch die Station (3) hin- und herbewegbar ist, wobei der Beschickungsmechanismus (2) Bauteile zum Gießen der photopolymerisierbaren Masse auf ein auf die Station (3) gelegtes erstes flächiges Material zur Bildung einer Schicht der photopolymerisierbaren Masse auf dem flächigen Material, eine Rakel (11) zum Einebnen und vorläufigen Verringern der Dicke der Schicht aus der photopolymerisierbaren Masse, Bauteile zur Zuführung eines zweiten flächigen Materials auf die photopolymerisierbare Schicht unter Bildung eines Laminats aus dem ersten flächigen Material, dem zv/eiten flächigen Material und der zwischen diesen
    809848/0915
    oi·- '02 21' 23 45 41-4 Te!ex: 888 2307 dopa d Teteqramm: Dompatent Köln
    Materialien eingeschlossenen photopolymerisierbaren Schicht, eine Laminierwalze (8), die so angeordnet ist, daß sie über das Laminat rollt und die Dicke der photopolymerisierbaren Schicht auf einen vorbestimmten Wert verringert, einen Rahmen (20), einen ersten Radsatz (25) und einen zweiten Radsatz 129) , die den Rahmen (2-0) tragen und über jdie Führungsschienen ^28) laufen und hierbei den Rahmen (20) längs der Schienen (28) bewegen, wobei der erste Radsatz in einer Stellung angeordnet ist, die sich, in Bewegungsrichtung des Beschickungsmechanismus (2), in den die photopolymerisierbare Masse zur Bildung einer Bildung einer Schicht in der Station (3) eingegossen ist, gesehen, hinter der Stellung des zweiten Radsatzes (30) befindet, die Laminierwalze (8) und die Rakel (11) mit dem Rahmen (20) längs der Schienen (28) beweglich und so angeordnet sind, daß sich die Laminierwalze (8), in Bewegungsrichtung des Beschickungsmechanismus (2) gesehen, hinter der Rakel (11) befindet, der Beschickungsmechanismus (2) außerdem mit Bauteilen zur Einstellung der Höhenlage der Laminierwalze (8) und der Rakel (11) in einer solchen Weise versehen ist, daß der Abstand zwischen der Laminierwalze (8) und den Führungsschienen (28) und zwischen der Rakel (11) und den Führungsschienen (28) gleichzeitig und so eingestellt wird, daß zu jedem Zeitpunkt der Einstellung der Einstellungsgrad des Abstandes zwischen der Laminierwalze (8) und den Führungsschienen (28) kleiner ist als der des Abstandes zwischen der Rakel (11) und den Führungsschienen (28).
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Laminierwalze (8) und die Rakel (11) am Rahmen (20) befestigt sind und zur Höheneinstellung Bauteile vorhanden sind, die die relativen Stellungen des zweiten Radsatzes (29) und des Rahmens (20) so verändern, daß
    809848/0915
    der Rahmen (20) um die Achse des ersten Radsatzes (25) geschwenkt wird.
  3. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Bauteile zur Veränderung der relativen Stellungen des zweiten Radsatzes (29) und des Rahmens (20) Verbindungsstücke (23) , die den Rahmen (20) mit dem zweiten Radsatz (29) verbinden, und Bauteile, die den Winkel zwischen den Verbindungsstücken (23) und dem Rahmen (20) verändern, vorgesehen sind.
  4. 4. Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Bauteil zur Veränderung des Winkels ein drehbarer Stab (21) vorhanden ist, der in den Rahmen (20) geschraubt ist und mit einem Ende gegen ein Verbindungsstück (23) an einer Stelle stößt, die senkrecht auf die Welle (34) des zweiten Radsatzes ausgerichtet ist.
  5. 5. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Bauteile zur Veränderung der relativen Stellungen des zweiten Radsatzes (29) und des Rahmens (20) Gleitstücke (39), die mit dem zweiten Radsatz (29) verbunden und im wesentlichen senkrecht relativ zum Rahmen (20) beweglich sind, und eine am Rahmen (20) oder am Gleitstück (39) befestigte Exzenterscheibe (40) vorgesehen sind, wobei ein Teil der Exzenterscheibe (40) mit dem Gleitstück (39) so in Berührung ist, daß durch Betätigen der Exzenterscheibe die relativen senkrechten Stellungen der Gleitstücke (39) und des Rahmens (20) verändert werden und hierdurch der Rahmen (20) um die Achse des ersten Radsatzes (25) geschwenkt wird.
  6. 6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Bauteile zur Veränderung der relativen Stellungen des zweiten Radsatzes (29) und des Rahmens (20) ein am Rahmen (20) befestigter Hilfsrahmen, der die Laminier-
    809848/091 5
    walze (8) und die Rakel (11) trägt und mit einem Ende schwenkbar am Rahmen (20) neben der Achse des ersten Radsatzes (25) befestigt ist, und Bauteile zur Veränderung der relativen Stellungen des anderen Endes des Hilfsrahmens so vorgesehen sind, daß der Hilfsrahmen relativ zum Rahmen (20) gedreht wird.
  7. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Bauteile zur Veränderung der relativen Stellungen des zweiten Radsatzes (29) und des Rahmens (20) Verbindungsstücke, die das andere Ende des Hilfsrahmens mit dem Rahmen (20) verbinden, und Bauteile zur Veränderung des Winkels zwischen dem Rahmen (20) und dem Hilfsrahmen vorhanden sind.
  8. 8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß als Bauteil zur Veränderung des Winkels ein drehbarer Stab (21), der in den Hilfsrahmen geschraubt ist und mit einem Ende gegen ein Verbindungsstück (23) stößt, vorgesehen ist.
  9. 9. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen der Achse der Welle (26) des ersten Radsatzes (25) und der Rakel (11) das 1,2- bis 3-fache des Abstandes zwischen der Achse der Welle (26) des ersten Radsatzes (25) und der Laminierwalze (8) beträgt.
  10. 10. Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß als Bauteil zum Gießen der photopolymerisierbaren Masse eine Mulde (10) vorgesehen ist, die die photopolymerisierbare Masse in flüssiger Phase enthält, und so ausgebildet ist, daß sie die photopolymerisierbare Masse ausgießt, wenn der Beschickungsmechanismus sich über dem ersten flächigen Material auf der Station (3) befindet, und so gelagert ist, daß ein vorbestimmter Abstand zwischen der Mulde (10) und den Führungsschienen
    809848/0915
    "J" 2322158
    (23) in der Station (3) ohne Rücksicht auf die Betätigung der die Abstände zwischen der Laminierwalze (S) und den
    Führungsschienen (28) und zwischen der Rakel (11) und
    den Führungsschienen (28) regelnden Bauteilen aufrecht
    erhalten wird.
  11. 11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Mulde (10) auf dem zweiten Radsatz (29) gelagert ist.
  12. 12. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Mulde (10) auf einem ebenfalls auf den Führungsschienen (28) laufenden anderen Radsatz als dem ersten und
    zweiten Radsatz gelagert ist.
    809848/0915
DE2822158A 1977-05-24 1978-05-20 Vorrichtung zur Herstellung von photopolymeren Platten Expired DE2822158C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6033877A JPS53145709A (en) 1977-05-24 1977-05-24 Device for supplying photosensitive resin to photosensitive resin engraver

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2822158A1 true DE2822158A1 (de) 1978-11-30
DE2822158C2 DE2822158C2 (de) 1983-01-05

Family

ID=13139268

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2822158A Expired DE2822158C2 (de) 1977-05-24 1978-05-20 Vorrichtung zur Herstellung von photopolymeren Platten

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4214942A (de)
JP (1) JPS53145709A (de)
DE (1) DE2822158C2 (de)
FR (1) FR2392420A1 (de)
GB (1) GB1593024A (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4332873A (en) * 1979-08-22 1982-06-01 Hercules Incorporated Multilayer printing plates and process for making same
US4383759A (en) * 1980-06-23 1983-05-17 Hercules Incorporated Method and apparatus for producing a capped printing plate
US4403566A (en) * 1980-06-23 1983-09-13 Hercules Incorporated Apparatus for producing a printing plate
US4475810A (en) * 1980-10-06 1984-10-09 Hercules Incorporated Docking sensor system
US4450226A (en) * 1981-10-26 1984-05-22 Hercules Incorporated Method and apparatus for producing a printing plate
JPS6396661A (ja) * 1986-10-14 1988-04-27 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性樹脂版製版機の版厚変更装置
US5348605A (en) * 1993-09-15 1994-09-20 Hercules Incorporated Tilting bucket assembly for photopolymer platemaking
GB2298816B (en) * 1995-03-15 1998-04-29 Sony Corp Method of and apparatus for applying a film to a substrate
US9096090B2 (en) 2012-05-09 2015-08-04 Ryan W. Vest Liquid platemaking with laser engraving

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1882333U (de) * 1960-08-17 1963-11-07 Plate Gmbh Dr Bogenhaar aus kunststoff.
DE2355854A1 (de) * 1972-11-10 1974-05-16 British Insulated Callenders Optisches lichtleitkabel

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3832177A (en) * 1969-06-16 1974-08-27 Asahi Chemical Ind Process for the preparation of printing plate of photosensitive resin
US3687785A (en) * 1969-06-16 1972-08-29 Kiyoshi Akamatsu Apparatus for the preparation of printing plate of photosensitive resin
US3837887A (en) * 1969-06-16 1974-09-24 Asahi Chemical Ind Process for the preparation of printing plate of photosensitive resin
CA995049A (en) * 1972-05-02 1976-08-17 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Apparatus and process for the production of photopolymer plates
US3970040A (en) * 1973-03-15 1976-07-20 James A. Black Coating tray
US3971691A (en) * 1975-03-27 1976-07-27 Hercules Incorporated Apparatus for film application
US4056423A (en) * 1975-04-23 1977-11-01 Hercules Incorporated Platemaking apparatus

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1882333U (de) * 1960-08-17 1963-11-07 Plate Gmbh Dr Bogenhaar aus kunststoff.
DE2355854A1 (de) * 1972-11-10 1974-05-16 British Insulated Callenders Optisches lichtleitkabel

Also Published As

Publication number Publication date
DE2822158C2 (de) 1983-01-05
FR2392420A1 (fr) 1978-12-22
FR2392420B1 (de) 1981-05-22
JPS53145709A (en) 1978-12-19
US4214942A (en) 1980-07-29
JPS5533061B2 (de) 1980-08-28
GB1593024A (en) 1981-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE68917309T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum drucken.
DE60008196T2 (de) Vorrichtung zum auswechselbares Halten und Positionnieren von Druckzylinder in eine Offsetdruckmaschine
DE112010004165B4 (de) Walzendruckvorrichtung
DE3028098C2 (de)
EP0983135A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen eines films oder einer schicht mit beidseitiger oberflächenstruktur
DE2614525B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von photopolymeren Druckplatten
EP2556412B1 (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen von kontaktkopien von reflexions-volumenhologrammen
DE2611096A1 (de) Vorrichtung zum faltenfreien aufbringen eines films auf eine flache platte
DE2822158A1 (de) Vorrichtung zur herstellung von photopolymeren platten mit reliefbildbereichen
EP0553475B1 (de) Kaschiermaschine
DE69918573T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum rotationsformen von strukturen mit oberflächenrelief
DE69826655T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum auftragen eines musters auf einem träger
DE4324577C1 (de) Druckform für ein Hochdruckverfahren, Verwendung der Druckform zum Bedrucken von Glasoberflächen sowie Verfahren zur Herstellung einer ein Druckraster aufweisenden Druckform für das Flexodruckverfahren
DE3713788A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum verbinden einer druckplatte mit einem flexiblen endlosen druckriemen
EP2171542B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von strukturierten optischen materialien
EP0512267A2 (de) Kaschiermaschine
DE930145C (de) Vorrichtung zum Einrichten von Druckplatten
DE1057877B (de) Elektronische Klischiermaschine mit veraenderbarem Reproduktionsmassstab
EP0963687B1 (de) Auftragsvorrichtung zum auftragen von lötstopp-lack auf beide seiten einer leiterplatte
DE1561194B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Zurichten von Druckformen außerhalb der Presse
DE3110432A1 (de) Vorrichtung zum positionieren von originalfilmen auf einem unterlagebogen
DE2408748A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen von druckklischees
DE3346128C2 (de)
DE3207903C2 (de) Anlage zum Belichten von fotopolymeren Materialien
WO2001036199A2 (de) Druckeinrichtung zum beidseitigen simultanen bedrucken von bogenförmigen starren oder flexiblen substraten oder substratbahnen

Legal Events

Date Code Title Description
OAP Request for examination filed
OD Request for examination
8125 Change of the main classification

Ipc: G03F 7/16

8126 Change of the secondary classification

Ipc: G03C 1/74

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition