DE2812168A1 - Verfahren zur entfernung von chlorverunreinigungen aus tio tief 2 - Google Patents
Verfahren zur entfernung von chlorverunreinigungen aus tio tief 2Info
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Description
Patent an s ρ r ü c h e
1.- Verfahren zur Entfernung von Chloridvsrunreinigungen aus TiOy1 das durch
Dampfphase.noxidation von TiCl. bei erhöhton Temperaturen hergestellt worden
ist, dadurch gekennzeichnet, daß man
A. das TiOo in die Behandlungskammer einführt,
B. ein Gas aus der Gruppe von Wasserdampf, Luft und Stickstoff ncior uiner
Mischung derselben bei Schall- oder Überschallgeschwindigkeit in die* Behandlungskatnmer
einspritzt und. die:;os so führt, daß es in Querrichtung in das
TiOp fließt, so daß ec eine Druckdifferenz bildet, die daa TiO? in die Behandlung^
kammer zieht und dispergiert, wobei der Anfangsdruck etwa 1,72-'*·!, 3 bar
und seine Temperatur etwa 1*40-650 C. betrafen und das Gewichtsverhh'ltnis von
Gas zu TiOp 0,2-6,0 beträft, und
C. das TiOo vom Gas und den Chloriden abtrennt,
2,- Verfahren zur Entfernung von Chloridveruareinigungea aus einem durch
Dampfphasenoxidation von TiCL bei erhöhten Temperaturen hergestellten TiO9,
dadurch gekennzeichnet, daß man
A. TiO9 vertikal abwärts in eine Behandlungskammer leitet,
B. ein Gas aus der Gruppe von Wasserdampf, Luft und Stickstoff oder einer
Mischung derselben bei Schall- oder Überschallgeschwindigkeit dvrch eine Düse
in die Behandlungskammer einführt, so daß das Düsenendo, durch welches das |
i Gas ausgestoßen wird, sich im TiO9 Beschickungsstrom befindet und das Gas in ί
Querrichtung zum TiOg F'luß eingeführt wird, wobei der Anfangsgasdruck j
etwa 1,72-ΛΙ,3 bar und seine Temperatur etwa 1^0-6500C. botragen und das
Gewichtsverhältnis von Gas zu TiO9 0,2-6,0 beträgt, und j
C. das TiO9 vom Gas und den Chloriden abtrennt, j
Der Patentanwalt: i
05,;
8fl9840/0e<
Ή, BAD ORIGINAL
ΡΑΤΕΝΤΛΝΥι/ΛΙ-ΤΕ
Dlpl.-lng. P. WIRTH · Dr. V. SCHMIED-KOWARZIK
DlpL-lna. G. DANNENDERG · Dr. P. WEINHOLD · Dr. D. GUDEL
2ΒΠ3·1 θ FRANKFURT AM MAIN
TELEron (oain
2870M Gn. CGCHENHEIWtR STRASSE 39
StC/f.K
I1G-1799
fiCHUKR AKD VMLUT
E 1. DuPont do KeniOur.T f.nd Company
Wilmington IXjI. /USA
Verfahren zur Entfernung von Chlorv^runreinigungen
aus T
Die vorliefiendf! krfindrnft besieht s.ich auf fein Verfahren zur Entfernung von
Chloridverunieiniruru-en &!>.:>
TiO0. Pir.f.entares T50o kann dv;reh Oxidieren von
TiCl. bei üi-hühttn Tomner^.turen herpo;,hellt werden (vel. ε,B. die I\S P.:;
2 48Ü -Ί39). D-'is in n;ai>föi:Mp;en Rfiaktic.isprodukten r.-it-^efiihrte TiOo Pror.:::!-rt
tritt aus dsn Oxidaticnfsreaktor bei VOO-1600 C. au κ und kann nach den Verfahren
der US Γΐ-.'ί ?. 833 63? und 2 721 626 auf e.uie Tens^ratur r.wieehen
300-fiiK) C. abgekühlt werdfüi. Das abgekühlte TiO0 k"nn von den f?:^sförini}-:s.-n
Produkten durch jale p:eei^nets Trcnnvoj-richtunc, z.B. eine Zentrifuge oder
Zyklonvorrichtunff, abgetrennt werden. Das aus der Abtrennung erhaltene TiOp
Produkt enthält eine gerinne Konzentration unbehnnleiter Chloridverunrt ini-Rungen,
wie TiCl^, TiUCL1, HCl und CIp, die auf der Oberflache des TiO2 absorbiert
sind. Gewöhnlich sind etwa 0,1-0,')- Gevi.-t gesamte Chloride, ausgedrückt
als IKJl1 iri Produkt anwesend. Diese Chloridverunreinirunpieti müssen
aus dem TiO^ Produkt entfernt werden, da ein solches Produkt für viele l-irraontzwocke,
z.B. in Farben, Emails und Kinisclien, nicht veivendnt werden
8098A0/0805
kann, da die Chloridverunreinigungen mit Trägern, in welchen das TiO2 dispergiert
wird, unverträglich sind und gewöhnlich mit diesen reagieren.
In der Vergangenheit wurde zur Entfernung der Chloridverunreinifiungen aus
dem TiOp eine etwa 2-stündige Calcinierung bei 600 C. angewendet. Aber obgleich
dieses Verfahren zur Entfernung von Verunreinigungen wirksam ist, erfordert es vial Zeit und hohe Kosten.
Zwei weitere Verfahren zur Entfernung von Chloriden aus TiOp werden in dar
US PS 3 253 889 und der GB PS 1 003 957 beschrieben. Das Verfahren der US
PS 3 253 889 bezieht sich darauf, das TiO2 in Aerosuspension bei einer Konzentration
von 1,6-320 g T1O2 pro 1 Aerosuspension für eine Dauer
unter'5 Hinuten in einer auf einer Temperatur von ^OC-IOOO C. gehaltenen Behandlxingszone
einem direkten Kontakt mit einem gasförmigen Behandlungsmittel aus der Gruppe von Wasserdampf, Luft, Sauerstoff und Mischungen derselben
zu unterziehen. Das Verfahren der GB PS 1 003 957 beschreibt die Einführung
hoch dispargierter Oxide von Silicium, Aluminium, Titan und/oder Zirkonixw.
in eine Behandlungskammer in pariäleler Beziehung zu einem Wasserdampfstrom,
der mit einem inerten Gas verdünnt sein kann, um eine turbulente Suspension der Oxide im Wasserdampf zu bilden, die auf eine Temperatur von VjO-1000 C.
erhitzt wird, worauf die behandelten Oxide und die erhaltenen, Verunreinigungen
enthaltenden Gase von dem Ende der Behandlungskamr>;er entfernt werden, das dem
Einführungsende gegenüberliegt. Bei beiden Verfahren ist jedoch die zur Entfernung
der Verunreinigungen aus den Produkten erforderte Zeit relativ lang. Daher besteht das Bedürfnis nach einem Verfahren, das Chloridverunreinigungen
von TiOp schneller als eines der oben beschriebenen Verfahren entfemt.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Entfernung von
Chloridverunreinigungen aus TiOp, das durch Dampfphasenoxidation von TiCl^
bei erhöhten Temperaturen hergestellt worden ist, das dadurch gekennzeichnet
809840/0805
- 2 - BAD
ist, daß man das TiOo in eine Behänd].ungskammer einführt, ein Gas aus der
Gruppe von Wasserdampf, Luft, Stickstoff oder einer Mischung derselben
bei Schall- oder Überschallgeschwindigkeit in die Behandlungskammer einleitet
und das Gas so ausrichtet, daß es quer in das TiOr, fließt und eine Druckdifferenz
schafft, die das TiO? in die Behandlungsakmmer zieht und dispergiert,
wobei der Anfangsgasdruck etwa 1,72-41,3 bar und seine Temperatur
etwa 140-6500C. betragen und das Gewichtsverhältnis von Gas zu TiO9 0,2-6,0
beträgt} und das TiOp vom Gas und den Chloriden abtrennt.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich veiter a.uf ein Verfahren zur Entfernung
von Chloridverunreinigungen aus einem durch Damfphasenoxidation von
TiCl. bei erhöhten Temperaturen hergestellten TiO2, das dadurch gekennzeichnet
ist, daß man TiO2 vertikal abwärts in eine Behandlungskammer einführt, ein
Gas aus der Gruppe von Wasserdampf, Luft und Stickstoff oder einer Mischung
derselben bei Schall- oder Überschallgeschwindigkeit durch eine Düse in eine Behandlungskampier einleitet, so daß da.s Düsenende, durch welches das Gas ausgestoßen
wird, sich im TiO2 Beschickungsstrom befindet und das Gas quer zum
TiOo Fluß eingespritzt wird, wobei das Anfangsgasdruck etwa 1,72-4-1,3 bar
und seine Temperatur etwa 140-650°C. betragen und das Gewichtsverhältnis von
Gas zu TiO2 0,2-6,0 b'eträgt und das TiO2 vom Gas und den Chloriden abtrennt.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich somit allgemein auf ein Verfahren zur
Entfernung von Chloridverunreinigungen aus
Wenn TiO2 durch Oxidation von TiClj, bei hoher Temperatur hergestellt und von
den gasförmigen Reaktionsprodukten abgetrennt wird, dann enthält es Chloridverunreinigungen,
wie TiCl^, TiOCl2, HCl und Cl2, die auf der TiO2 Oberfläche
adsorbiert sind. Das TiD2 wird in diesem Zustand als rohes TiO2 bezeichnet.
Die pigmentären Eigenschaften von rohem TiO2 können durch Entfernung der
Chloridverunreinigungen von diesen verbessert werden.
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Erfindungsgemäß wird nun rohes TiD2 in eine Bshandlungskammer eingeführt, und
in diese wird ein Gas bei Schall- oder Überschallgeschwindigkeit eingeleitet, so daß es im Querstrom in das TiOg einfließt. Dies dispergiert das rohe TiOg
in praktisch diskrete Teilchen und befreit die Chloridverunreinigungen von der Oberfläche derselben. Schallgeschwindigkeit wird als XkR T0 definiert, wobei
k das Verhältnis der spezifischen Wärmen für die Gase ist, R ist die Gaskonstante und Iq die absolute Temperatur dos Gases bei Stagnation. Überschallgeschwindigkeit
ist jeder Wert über diesem Wert. In der Praxis liegt die maximal verwenddte Überschallgeschwindigkeit nicht über dein 2,2-Kachen der
Schallgeschwindigkeit. "Praktisch diskrete Teilchen von TiOp" bedeuten die
einzelnen kristallinen TiO? Teilchen und Aggregatgruppen der TiOp Teilchen.
Die Behandlungskammer ist der Bereich, in welchem das Gas auf das TiO? auftrifft
und dieses in praktisch diskrete Teilchen dispergiert. Die TiOo Teilchen
können bis zu 5 Sekunden in der Behandlungskammer sein, in der erfindungsgemäöen,
tatsächlichen Praxis bleiben die Teilchei/jedoch nur etwa 0,1
Sekunde in der Behandlungskammer. In den bevorzugten erfindungsgoraäßen Ausführungsformen
ist die Behandlungskammer zylindrisch; es sind jedoch auch andere Formen, wie konische oder rechteckige, möglich, solange das TiO? in
praktisch diskrete Teilchen dispergiert wird. Die Behandlungäkammer ist
gewöhnlich unmittelbar an eine Abtrennvorrichtung angeschlossen, so daß das TiOo von den Chloridverunreinigungen und dem Gas abgetrennt werden kann, sobald
es die Behandlungskammer verlassen hat. '
Das in die Behandlungskammer eingeführte Gas kann Wasserdampf, Luft, Stickstoff
oder eine Mischung derselben, z.B. eine Mischung aus Wasserdampf und Luft, sein. Wasserdampf ist das bevorzugte Gas, weil dieser beim Dispergieren
des TiOg am wirksamsben ist. Das Gasdruck kann etwa 1,?2-M,3 bar
und die Temperatur etwa 1^K)-65O C. betragen. In den bevorzugten Ausführungsformen liegt der Druck bei etwa 20,0-2'/,6 bs.r und die Temp-eratur
8O-9840/08U5
bei etwa 200-350 C. Diese Bedingungen werden bevorzugt, da sie ein Optimum
zwischen einer wirksamen Chloridentferoung aus dem TiOp und den Kosten zum
Betrieb dos Verfahrens ergeben.
Das Gewichtsverhältnis von Gns zu TiDp beträgt 0,2-6,0, wobei ein Verhältnis
von 1,0-3,0 bevorzugt wird, da dies dio verwendete Gassenge und die Wirksamkeit
der Chloridcntfernunr; optimiert.
Das Gas muß in die Behandlimgskarsrier in Querrichtung zum TiOp Fluß eingeführt
worden. In der bevorzugten /.usführungcform, in welcher die Behandlungskammcr
zylindrisch-ist, wird das Gas entlang der Zylinderachse in die Behandlungskammer
eingeführt, und das TiOp wi-rtl i" diese durch einen Beschickungfistrom-senkrecht
zum Gasfluß eingeführt.
Das Gas wird so in die Kammer eingeführt, daß es eine Druckdifferenz schafft,
die das TiO^ in die Behandlungskanimer zieht und dispergiert. In der bevorzugten
Ausführuriiisforai wird zur Gas!3inführunf- in die Kammer eine Düse verwendet.
Zur Schaffung einer Druckdifferenz, die das TiO? wirksam in die Karner zieht,
sollte das Düsenende, durch welches das Gas austritt, direkt im TiOp Strom gelegen sein. Das in don TiOp Strom eingespritzte Gas bewirkt ein Dispergieren
der TiOo Teilchen und befreit so die auf der Teilchenoberfläche adsorbiorten
Chloridverunreinigungen. Dann treibt das Gas die TiOp Teilchen und Chloridverunreinigungen aus der Behandlungskammer heraus. Die Düse liegt vorzugsweise
nahe des Mittelpunktes des TiO2 Stromes, ui/das Druckdifferential zu
optimieren, das dia TiO2 Teilchen in die Kammer zieht. Eine zu lange oder zu
kurze Düse verringert das Druckdifferential, wodurch das Fluß der TiD2 Teilchen
in dio Kammer verringert wird.
Das TiO2 kann vom Ga3 und den Chloridverunreinigungen unter Verwendung jeder
geeigneten Abtrennungsvorrichtung, z.B, einem Zyklon oder Filterbeutel
abgetrennt werden. In den bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden
809840/0 8Q5
Erfindung ist die Behandlungskammer unmittelbar an die Abtrennvorrichtung
angeschlossen, so daß die Trennung unmittelbar nachdem die TiO2 Teilchen,
das Gas ind die Chloridverunreinigungen die Behänd lungskammer verlassen,
erfolgen kann.
Fig. 1 zeigt eine zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens besonders
zweckmäßige Vorrichtung.
Gemäß Fig. 1 wird rohes TiO2 in die zylindrische Behandlungskammer 1 durch
Leitung 8 und Öffnung 2 eingeführt. Während das rohe TiO2 in die Kammer eingeführt
wird, wird Gas bei Überschallgeschwindigkeit durch Düse 3 in die Kammer eingeführt, so daß das Gas das rohe TiOp in Querstromrichtung berührt
und eine Druckdifferenz schafft, die das TiO2 in die Kammer zieht. Das
Ende der Düse 3» durch welches das Gas ausgestoßen wird, befindet sich direkt
unter der Öffnung 2. Dies bedeutet, dai3 sich das Ende der Düse 3 im TiC2
Beschickungsstrora befindet. Das Gas dispergiert das TiO2 in praktisch diskrete
Teilchen und bewirkt eine Trennung der Chloridverunreinigungen vom
TiD2. Weiter treibt das Gas das TiO2 aus der Behandlungskammer 1 durch eine
Austrittskammer 7 und in die Zyklonvorrichtung k, wodurch das TiO vom Gas
und den Chloridverunreinigungen getrennt wird. Gas und Chlorid verunreinigungen
verlassen die Zyklonvorrichtung k durch Leitung 6, und das TiO2 tritt
durch Ventil 5 aus.
Die folgenden Beispiele vemanschaulichen die vorliegende Erfindung. Falls
nicht anders angegeben, sind alle Teile, Prozentangaben und Verhältnisse
Gew.-Teile, Gew.-# und Gewichtsverhältnisse.
Die Beispiel 1 und 2 erfolgten unter Anwendung der Vorrichtung von Fig.
Die Behandlungskammer ist ein zylindrisches Alurainiumrohr von 3*2 cm
innerem Durchmesser und 4^,2 cm Länge; die an die Zyklonvorrichtung k angeschlossene
Austrittkammer 7 ist ein zylindrisches Aluminiumrohr von 15 cm
809840/0805 - 6 -
- r -S
innerem Durchmesser und 90 om Länge· Das rohe TiO? betritt die Behandlungskararaer
1 durch Leitung 8 und Öffnung 2, die eine elliptische Öffnung mit radialem inneren Dimensionen - von 2,22 χ 3f8 cm ist» Die Düse 3 ist eine
Kohlestahldüso von 1,5 cni innerem Durchmesser, deren Spitze sich am
Mittelpunkt des TiOp Stromes befindet.
B e i s ρ i e 1 1
337 kg/std rohes TiCU mit 0,25 Gew.-£ Chloridverunreinigungen, bezogen auf
das Gesamtgovicht dos rohen TiO? wurden durch Leitung 8 in die Behandlungskammer 1 eingeführt. Das rohe TiD „ wurde mit Wasserdampf in Berührung gebracht,
der die Behandlungskammer i durch Düse 3 bei k^k kg/std, 2*t0 C.
und ^,'Jl bar betrat. Die Geschwindigkeit des Wasserdampfes am
Düsenhals betrug 5'49 m/sac. Das Verhältnis von Wasserdampf zu Pigment betrug
1»35· Das TiOo wurde vom Wasserdampf urid den Chloriden durch eine Zyklonvorrichtung
abgetrennt. Mach der Abtrennung enthielt das TiOp 0,12 Gew.-Jb C hloridverunre in i gungen.
967 kg/std rohes TiOp mit 0,25 Gew.-^ Chloridverunreonigungon, bezogen auf
das Gesamtgewicht des rohen TiOp, wurden durch Leitung 8 in die Behandlungskammer 1 eingeführt. Das rohe TiOp wurde mit Wasserdampf in Berührung gebracht,
der die Behandlungskarmier 1 durch Düse 3 bei 1VjH- kg/std, 2^0°C.
und U-,kl bar betrat. Die Geschwindigkeit des Wasserdampfes am
Düsenhals betrug 5^9 m/sec. Das Verhältnis von Wasserdampf zu Pigment lag
bei 0Λ7. Das TiO^ wurde vom Wasserdampf und den Chloriden durch eine Zyklonvorrichtung
abgetrennt. Nach der Abtrennung enthielt das TiO2 0,12 Gew.-^ Chloridverunreinigungen.
Beispiel 3 bis 10
Beispiel 3 bis 10
Die Beispiele 3 bis 10 erfolgten in einer modifizierten Vorrichtung von
Fig. 1. Die Behandlungkammer 1 war ein zylindrischos Kohiestahlrohr von
2,5 cm innerem Durchmesser und 3 m Länge. Die Behandlungskammer war direkt
809840/0805
an die Zyklonvorrichtung k angeschlossen. Das rohe TiD2 betrat die Behand-Iung3kammer
durch Leitung 8 und Öffnung 2, die eine ringförmige Öffnung war. Das Gas betrat die Behandlungskammer durch Düse 3» die eine rostfreie Stahldüse
mit variierendem Durchmesser war, deren Spitze sich am Mittelpunkt des Stromes befand. Das Gas berührte das rohe TiOp und trieb es in die
Zyklonvorrichtung-
Tabelle 1 nennt die unterschiedlichen Bedingungen jedes Beispiels» Das rohe
TlD9 enthielt 0,22 Gew.-$ Chloridverunreinigungen, beTogen auf das Gesamtgewicht
des rohen TiO9.
8098AO/080B
Beisp. Art d.Gases
Wasserdampf
5
6
6
"
"
Luft
Luft & Wasser
+ = 0,0689 bar = 1 psi
Gasgeschwindigk. Gasflui3- Gasdruck Gas- Düseninnen- TiO2 Beschick.-m/sec
menge bar t.mi. rf,,-r.r.v..-«-~~-
640 724 579 570,5
it
570
517 512
menge g/min
2135
1905 241,8
483,7 366ο
:ι
1910
Luft 1910 Wasser 75
bar 2,76
2,07 4,82
tgnp. durchmesser
C. mm
2,07
Il
10,2
Il
'S09
It
10,2
Il
9,63
Il
menge
g/min
g/min
ΙΙ23
ΙΟ53
216,7
ΙΟ53
216,7
407,0
30So
2C00
1440
1610
2C00
1440
1610
Chloridverüneinierunsen in TiO2
nach Trennung
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2035978B (en) * | 1978-11-09 | 1982-10-20 | Tioxide Group Ltd | Process for the treatment of halide titanium dioxide pigments to improve durability |
US4225564A (en) * | 1979-02-22 | 1980-09-30 | Uop Inc. | Purification of rutile |
US4427451A (en) | 1981-09-17 | 1984-01-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation concentrated TiO2 slurries from spent steam |
US4578090A (en) * | 1984-10-15 | 1986-03-25 | Kerr-Mcgee Chemical Corporation | Method for processing gaseous effluent streams recovered from the vapor phase oxidation of metal halides |
DE3666450D1 (en) * | 1986-02-27 | 1989-11-23 | Kronos Titan Gmbh | Process for improving dioxide pigments by after-treatment |
US6524548B1 (en) * | 1994-12-17 | 2003-02-25 | Degussa Ag | Zirconium dioxide powder, method of its production and use |
US5824146A (en) * | 1997-07-03 | 1998-10-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making a photodurable aqueous titanium dioxide pigment slurry using a high level of aluminum co-oxidant |
US6648982B1 (en) | 2001-06-11 | 2003-11-18 | Quantum Global Technologies, Llc | Steam cleaning system and method for semiconductor process equipment |
US7108002B1 (en) | 2001-06-11 | 2006-09-19 | Quantum Global Technologies, Llc. | Steam cleaning system and method for semiconductor process equipment |
US7338995B2 (en) * | 2004-03-06 | 2008-03-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Titanium dioxide—containing polymers and films with reduced melt fracture |
WO2006016718A2 (en) * | 2004-08-11 | 2006-02-16 | Showa Denko K.K. | Fine particulate titanium dioxide, and production process and use thereof |
EP1802697B1 (de) | 2004-10-20 | 2011-07-20 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Zusatzverpackung für thermoplastische kondensationspolymere |
US7611588B2 (en) * | 2004-11-30 | 2009-11-03 | Ecolab Inc. | Methods and compositions for removing metal oxides |
TWI314919B (en) * | 2005-02-28 | 2009-09-21 | Showa Denko Kk | Fine particulate titanium dioxide, and production process and uses thereof |
WO2006133247A2 (en) | 2005-06-07 | 2006-12-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Paper and paper laminates containing modified titanium dioxide |
US7247200B2 (en) * | 2005-11-01 | 2007-07-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Titanium dioxide finishing process |
US8114377B2 (en) * | 2006-11-02 | 2012-02-14 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for producing titanium dioxide particles having reduced chlorides |
JP7116857B1 (ja) * | 2022-05-23 | 2022-08-10 | 東邦チタニウム株式会社 | 酸化チタン粉末、酸化チタン粉末の製造方法及び、酸化チタン粉末の判別方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1002957A (en) * | 1961-02-20 | 1965-09-02 | Anocut Eng Co | Improvements in or relating to electrolytic machining |
US3253889A (en) * | 1964-06-30 | 1966-05-31 | Du Pont | Process for removing chloride impurity from tio2 product |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1150955B (de) * | 1961-04-20 | 1963-07-04 | Degussa | Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von hochdispersen Oxyden |
GB1081549A (en) | 1965-08-11 | 1967-08-31 | British Titan Products | Purification of pigments |
-
1977
- 1977-03-23 US US05/780,341 patent/US4083946A/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-02-24 IT IT20624/78A patent/IT1095434B/it active
- 1978-03-20 DE DE19782812168 patent/DE2812168A1/de not_active Ceased
- 1978-03-20 MX MX172835A patent/MX148159A/es unknown
- 1978-03-21 CA CA299,401A patent/CA1093790A/en not_active Expired
- 1978-03-21 AU AU34349/78A patent/AU515503B2/en not_active Expired
- 1978-03-22 JP JP3180178A patent/JPS53118299A/ja active Pending
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- 1978-03-23 GB GB11695/78A patent/GB1596675A/en not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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GB1002957A (en) * | 1961-02-20 | 1965-09-02 | Anocut Eng Co | Improvements in or relating to electrolytic machining |
US3253889A (en) * | 1964-06-30 | 1966-05-31 | Du Pont | Process for removing chloride impurity from tio2 product |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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GB1596675A (en) | 1981-08-26 |
FR2384719A1 (fr) | 1978-10-20 |
US4083946A (en) | 1978-04-11 |
AU515503B2 (en) | 1981-04-09 |
MX148159A (es) | 1983-03-22 |
JPS53118299A (en) | 1978-10-16 |
BR7801800A (pt) | 1978-12-19 |
IT7820624A0 (it) | 1978-02-24 |
CA1093790A (en) | 1981-01-20 |
IT1095434B (it) | 1985-08-10 |
FR2384719B1 (de) | 1985-03-01 |
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