DE2757405A1 - Elektrostatischer schirm fuer ein kurzwellendiathermiegeraet und verfahren zur anwendung eines solchen geraetes - Google Patents
Elektrostatischer schirm fuer ein kurzwellendiathermiegeraet und verfahren zur anwendung eines solchen geraetesInfo
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Description
International Medical Electronics Ltd.
Kansas City, Missouri,
V.St.A.
Kansas City, Missouri,
V.St.A.
Elektrostatischer Schirm für ein Kurzwellendiathermiegerät
und Verfahren zur Anwendung eines solchen Gerätes
und Verfahren zur Anwendung eines solchen Gerätes
Die Erfindung betrifft einen elektrostatischen Schirm für ein
Kurzwellendiathermiegerät und insbesondere eine Vorrichtung zum Reduzieren des durch herkömmliche Diathermiegeräte bei
der Wärmebehandlung von inneren Körpergeweben abgestrahlten elektrostatischen Feldes ohne nennenswerte Hautoberflächenerwärmungseffekte.
der Wärmebehandlung von inneren Körpergeweben abgestrahlten elektrostatischen Feldes ohne nennenswerte Hautoberflächenerwärmungseffekte.
Bei der medizinischen Diathermie werden elektrische Hochfrequenzströme
für die therapeutische Wärmebehandlung von Körpergeweben benutzt. Die benutzten Hochfrequenzen sind ausreichend
hoch, so daß Nerven und Muskeln nicht nachteilig
gereizt werden. Die benutzte Intensität ist ausreichend niedrig, so daß die in dem Gewebe entwickelte Temperatur unterhalb derjenigen liegt, die zur Zerstörung des Gewebes oder
zur Beeinträchtigung von dessen Vitalität erforderlich wäre.
gereizt werden. Die benutzte Intensität ist ausreichend niedrig, so daß die in dem Gewebe entwickelte Temperatur unterhalb derjenigen liegt, die zur Zerstörung des Gewebes oder
zur Beeinträchtigung von dessen Vitalität erforderlich wäre.
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Hochfrequenzströme, die durch das Diathermiegerät erzeugt werden, werden in kontrollierter Weise dem Patienten über
den Diathermieapplikatorkopf zugeführt, der Hochfrequenzenergie transkutan zu tiefen, kranken Gewebebereichen überträgt.
Die abgestrahlte Energie muß jedoch eine Haut- und Fettschicht durchdringen, bevor sie das zu bestrahlende Muskelgewebe
erreicht. Die Fettschicht hat eine geringe Vaskulations- und Kühlkapazität und außerdem eine niedrigere
spezifische Wärme als tiefere Gewebe, was zu einem größeren Temperaturanstieg pro Einheit an zugeführter Wärme führt.
Bei der Verwendung von typischen Applikatorköpfen ist daher eine schmerzhafte Erwärmung der subkutanen Fettschicht
nicht ungewöhnlich. Reizungen und schmerzhafte Hautverbrennungen sind regelmäßige Vorkommnisse bei der herkömmlichen
Diathermiebehandlung. Auf die anfängliche Erwärmung der Haut hin kommt es zum Schwitzen. Schweiß enthält eine relativ
große Menge an Natriumchlorid in Lösung und der Schweiß ist daher äußerst elektrisch leitend. Es kommt zu Dampfverbrennungen,
wenn in dem Salzwasser fließende Ströme die Temperatur auf den Verdampfungspunkt erhöhen.
Es hat sich gezeigt, daß die vorstehend beschriebenen schädlichen Oberflächenerwärmungseffekte hauptsächlich durch die
elektrostatischen Felder verursacht werden, welche durch herkömmliche Diathermieapplikatoren abgestrahlt werden.
Eine Erläuterung dazu findet sich beispielsweise in dem Aufsatz "Therapeutic Application of Electromagnetic Power" in
Proceedings of the I.E.E.E., Band 62, Nr. 1, Januar 1974,
S.55.
Das abgestrahlte elektromagnetische Feld verursacht jedoch kein schädliches Verbrennen von Oberflächengeweben. Es dringt
vielmehr tief genug ein, um eine Relativerwärmung in den Muskelgeweben hervorzurufen. Dieser Tieferwärmungseffekt ergibt
sich aufgrund der Tatsache, daß die elektromagnetischen Feldlinien zu den Gewebegrenzflächen tangential statt senk-
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recht sind, so daß Grenzbedingungen Oberflächenerwärmungseffekte nicht nennenswert beeinflussen oder verursachen.
Die therapeutischen Tieferwärmungsvorteile der Diathermiebehandlung
werden daher hauptsächlich durch elektromagnetische Energie verursacht. Diese Schlußfolgerung widerlegt
den Stand der Technik, wie er sich beispielsweise aus S.285 des Buches Second Edition of Therapeutic Heat and Cold
von Sydney Licht, M.D., WaverIy Press Inc., Baltimore, Maryland,
V.St.A., 1965, ergibt.
Die vorliegende Erfindung schafft einen Schirm für Diathermieköpfe,
der abgestrahlte elektrostatische Felder stark dämpft, die übertragung von elektromagnetischer Energie
durch ihn hindurch aber gestattet, sowie ein Verfahren zur Wärmebehandlung von inneren Geweben mit einem Diathermiegerät.
Der Schirm enthält mehrere nichtmagnetische metallische Streifen (vorzugsweise aus Kupfer), die im Innern einer
koplanaren, insgesamt kreisförmigen Schleife angeordnet sind. Diese Streifen sind jeweils insgesamt rechtwinkelig zu den
stromführenden Spulen in dem Diathermieapplikatorkopf ausgerichtet, auf welchem der Schirm angebracht ist. Die Breite
der Streifen ist in bezug auf die Wellenlänge der durch den Diathermieapplikatorkopf abgestrahlten Energie ziemlich
klein. Die Streifen erstrecken sich jeweils von der Nähe des Schleifenmittelpunktes aus insgesamt radial auswärts, endigen
an der Schleife und sind mit dieser elektrisch verbunden. Die Schleife, die ausreichend breit ist, um eine Störung
des durch sie hindurch abgestrahlten elektromagnetischen Feldes zu vermeiden, erzeugt weitere elektrostatische
Abschirmungseffekte durch Verhinderung der Streuung des elektrostatischen Feldes.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung sind zwei vorzugsweise
kreisförmige Schirme, die insgesamt in der oben angegebenen Weise aufgebaut sind, aufeinandergeschichtet. Einer
der kreisförmigen Schirme kann in bezug auf den anderen re lativdrehbar angeordnet sein, so daß er nach Bedarf gedreht
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werden kann, um die durch den Patienten hindurchgehende
Menge an elektrostatischer Energie zu steuern. In einer ersten Position sind die Streifen in jedem kreisförmigen
Schirm in einer Flucht, damit elektrostatische Energie zu dem Patienten übertragen werden kann. In einer Schließposition
liegen jedoch die Streifen des ersten kreisförmigen Schirms zwischen den Streifen des zweiten Schirms, so daß
die Übertragung von elektrostatischer Energie zu dem Patienten wesentlich geringer ist.
Das Verfahren nach der Erfindung beinhaltet das Erzeugen von elektrischen Hochfrequenzströmen, um durch diese elektrostatische
und elektromagnetische Energie zu erzeugen, die über den Diathermieapplikatorkopf auf das zu behandelnde
Körpergewebe gerichtet werden kann. Das Verfahren beinhaltet außerdem das Dämpfen wenigstens eines Teils der abgestrahlten
elektrostatischen Energie, bevor sie die äussere Hautoberfläche erreicht, um die mit der Diathermiebehandlung
verbundenen Hauterwärmungseffekte zu minimieren. Schließlich beinhaltet das Verfahren nach der Erfindung
die im wesentlichen unbehinderte transkutane übertragung der abgestrahlten elektromagnetischen Energie zu den zu
behandelnden Körpergeweben. Die Dämpfung der elektrostatischen Energie kann am besten durch Verwendung eines elektrostatischen
Schirms erreicht werden, der auf dem Diathermieapplikatorkopf angebracht ist.
Demgemäß ist es Hauptziel des Verfahrens und des Gerätes nach der Erfindung, die Oberflächenerwärmungseffekte (wie
Hautverbrennungen), die mit herkömmlichen Kurzwellendiathermieapplikatorköpfen
verbunden sind, zu reduzieren und gleichzeitig die therapeutische Muskelbehandlung zu erleich
tern. Erfindungsgemäß wird die übertragung von schädlicher elektrostatischer Energie zu dem behandelten Patienten ge-
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dämpft, während der Durchgang der erwünschteren elektromagnetischen
Energie im wesentlichen unbehindert gestattet wird.
Der erfindungsgemäße Schirm ist so ausgebildet , daß
Verluste an elektromagnetischer Energie minimal sind. Die Breite der leitenden Streifen ist bei dem Schirm nach der Erfindung
im Vergleich zu der Wellenlänge der emittierten Energie extrem klein. Der Kurzschlußwindungseffekt wird verringert,
indem in der Mitte der Schleife ein Zwischenraum gelassen wird, in den sich die Streifen nicht erstrecken. Schließlich
umschließt eine Schleife die Streifen, um eine elektrostatische Streuung zu verhindern. Diese Merkmale fördern gemeinsam
den Gesamtwirkungsgrad des Schirms, erleichtern die übertragung von elektromagnetischer Energie und behindern
den Durchgang von elektrostatischer Energie.
Die Erfindung schafft einen elektrostatischen Schirm, der leicht in Verbindung mit den verschiedensten Diathermieapplikatorköpfen
benutzt werden kann, denn die Streifen und die Schleife können durch Leim oder Klebstoff an bereits
vorhandenen Applikatorköpfen befestigt werden. Außerdem können
die Streifen und die Schleife durch geeignete Metallniederschlagsverfahren hergestellt werden. Beispielsweise kann
das Muster auf dem Kunststoffdeckel von herkömmlichen Applikatorköpfen
metallisiert werden.
Weiter schafft die Erfindung Einrichtungen, mittels welchen sich der Verstimmungseffekt reduzieren läßt, der bei Diathermieapplikatorköpfen
auftritt, wenn die Köpfe an die gewünschte "Belastung", bei welcher es sich um den Körper des
Patienten handelt, angelegt werden. Gemäß der Erfindung wird die unerwünschte elektrostatische (kapazitive) Kopplung
zwischen dem Körper des Patienten und dem Applikator- kopf beträchtlich reduziert, wenn der Schirm installiert
ist. Wenn ein Applikatorkopf nach der Erfindung an dem Kör-
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per des Patienten angebracht wird, wird er daher nicht sehr verstimmt, d.h. nicht sehr aus der Resonanz gebracht.
Das letztgenannte Merkmal ist ein bedeutender synergisti-.scher Effekt, der sich durch die Erfindung ergibt. Wenn
der Schirm auf herkömmlichen Diathermieköpfen angebracht wird, werden daher die Einfachheit des Betriebes und der
Wirkungsgrad erhöht und unerwünschte Nebeneffekte verringert.
Ferner schafft die Erfindung einen "veränderlichen" Schirm für Diathermieapplikatorköpfe, der durch den Patienten oder
die Bedienungsperson des Diathermiegerätes eingestellt werden kann, damit nur eine vorgewählte Menge an elektrostatischer
Energie durch ihn hindurchgeht.
Mehrere Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden
unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine Draufsicht auf einen elektrostatischen Schirm nach der Erfindung für Diathermieapplikatorköpfe
,
Fig. 2 in auseinandergezogener Darstellung einen DIathermieapplikatorkopf,
der mit dem elektrostatischen Schirm versehen ist,
Fig. 3 eine Draufsicht auf einen verstellbaren elektrostatischen Schirm nach der Erfindung für Diathermieapplikatorköpfe,
und
Fig. 4 einen Schnitt durch den Schirm auf der Linie 4-4
von Fig. 3.
Gemäß den Fig. 1 und 2 enthält ein in seiner Gesamtheit mit
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der Bezugszahl 10 bezeichneter elektrostatischer Schirm
eine ümfangsschleife 11 und mehrere elektrisch leitende
Streifen 12. Die Schleife 11 und die Streifen 12 sind auf
einer nichtmetallischen Trägerfläche 13 angeordnet und
vorzugsweise an deren Innenfläche durch Klebstoff oder
dgl. befestigt. Stattdessen können die Schleife und die Streifen auf der Fläche 13 auch durch herkömmliche Ätzverfahren metallisiert werden. Mehrere Befestigungslöcher 14 sind an entgegengesetzten Ecken des Schirms 10 innerhalb der Schleife 11 angeordnet. Der Schirm 10 wird an dem Applikatorkopf 15 durch Befestigungsschrauben 16 befestigt, die durch die Löcher 14 hindurchgeführt und in Gewindelöcher in dem Kopf 15 eingeschraubt werden. Die Schrauben 16 sorgen für die
richtige Erdung der Schleife 11 und somit des Schirms 10 an dem metallischen Rahmen des Applikatorkopfes.
eine ümfangsschleife 11 und mehrere elektrisch leitende
Streifen 12. Die Schleife 11 und die Streifen 12 sind auf
einer nichtmetallischen Trägerfläche 13 angeordnet und
vorzugsweise an deren Innenfläche durch Klebstoff oder
dgl. befestigt. Stattdessen können die Schleife und die Streifen auf der Fläche 13 auch durch herkömmliche Ätzverfahren metallisiert werden. Mehrere Befestigungslöcher 14 sind an entgegengesetzten Ecken des Schirms 10 innerhalb der Schleife 11 angeordnet. Der Schirm 10 wird an dem Applikatorkopf 15 durch Befestigungsschrauben 16 befestigt, die durch die Löcher 14 hindurchgeführt und in Gewindelöcher in dem Kopf 15 eingeschraubt werden. Die Schrauben 16 sorgen für die
richtige Erdung der Schleife 11 und somit des Schirms 10 an dem metallischen Rahmen des Applikatorkopfes.
Die Schleife 11 muß ausreichend breit sein, damit eine Störung
des elektromagnetischen Feldes, das durch den Diathermieapplikatorkopf
abgestrahlt wird, vermieden wird. Die
Schleife muß jedoch nahe genug bei den Rändern des Applikatorkopfes sein, um das Streuen der abgestrahlten elektrostatischen Felder zu verhindern. Infolgedessen sollte
die Schleife 11 ungefähr die Größe des Applikatorkopfes haben, d.h. gerade breit genug sein, um die darunter befindliche stromführende Spule 18 innerhalb des Kopfes (Fig. 2) zu umschließen. Wenn die Schleife über die Schrauben 16 an Masse liegt, verhindert sie das Streuen des elektrostatischen Feldes, das durch herkömmliche Diathermieapplikatorköpfe abgestrahlt wird, und hilft die Oberflächengewebeerwärmung zu verhindern.
Schleife muß jedoch nahe genug bei den Rändern des Applikatorkopfes sein, um das Streuen der abgestrahlten elektrostatischen Felder zu verhindern. Infolgedessen sollte
die Schleife 11 ungefähr die Größe des Applikatorkopfes haben, d.h. gerade breit genug sein, um die darunter befindliche stromführende Spule 18 innerhalb des Kopfes (Fig. 2) zu umschließen. Wenn die Schleife über die Schrauben 16 an Masse liegt, verhindert sie das Streuen des elektrostatischen Feldes, das durch herkömmliche Diathermieapplikatorköpfe abgestrahlt wird, und hilft die Oberflächengewebeerwärmung zu verhindern.
Die Streifen 12, die ebenso wie die Schleife 11 vorzugsweise
aus Kupfer bestehen, erstrecken sich jeweils von der Mitte des durch die Schleife 11 umschlossenen Gebietes 17 aus
radial auswärts. Die Streifen 12 sind zu der Schleife ko-
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planar und mit ihr durch Lötung oder dgl. elektrisch verbunden. Es sei angemerkt, daß die Breite der Streifen 12 im
Verhältnis zu der Wellenlänge (gewöhnlich ungefähr 11m) der durch das zugeordnete Diathermiegerät emittierten Energie
sehr klein ist, um das Zirkulieren von Strömen sowie damit verbundene Verluste an elektromagnetischer Energie zu minimieren.
Jeder Streifen 12 ist im wesentlichen rechtwinkelig zu der
Schleife 11 und zu der darunterliegenden Spule 18 (Fig. 2) in dem Applikatorkopf ausgerichtet. Die Streifen bilden gemeinsam
einen Faradayschen Käfig oder elektrostatischen Schirm, der die Energie des elektrostatischen Feldes, die
durch den Diathermiekopf emittiert wird, wirksam von dem Patienten fernhält. Die Energie des elektrostatischen Feldes
wird in Form von Wirbelströmen in jedem Streifen 12 im wesentlichen verbraucht.
Die Streifen 12 sind in ausgewählter Weise so bemessen, daß das Gebiet 17 geschaffen wird, um Kurzschlußwindungseffekte
zu vermeiden. Wenn sich beispielsweise die Streifen in dieses Gebiet erstrecken würden, wurden in den Streifen aufgrund
des elektromagnetischen Feldes Ströme induziert und dadurch der Keizwirkungsgrad verringert werden. Die "Kurzschlußwindung"
um den äußeren Rand des Schirms, d.h. die Schleife 11 befindet sich außerhalb des magnetischen Feldes,
so daß durch sie hervorgerufene Verluste an elektromagnetischer Energie minimal sind.
Gemäß Fig. 2 enthält ein Diathermieapplikatorkopf 20 eine spiralförmig gewickelte Induktionsspule 13, die innerhalb
eines vorzugsweise metallischen, kastenartigen und sich insgesamt verjüngenden Gehäuses 22 untergebracht ist. Die Spule
18 ist vorzugsweise auf einer ebenen Trägerfläche 19 angeordnet,
die in einem vorbestimmten Abstand von der unteren
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metallischen Fläche des Gehäuses 22 angeordnet ist. Dieser Abstand minimiert die Auswirkungen des metallischen Gehäuses
auf das abgestrahlte Magnetfeld. Der Applikatorkopf ist durch einen Arm 27 abgestützt, der mit dem Diathermiegenerator
(nicht gezeigt) mechanisch verbunden ist. Der Arm 27 ist an dem Gehäuse 22 über ein herkömmliches Kugelgelenk 28 einstellbar
befestigt. Ein Kabel 23 führt von dem Generator zu dem Applikatorkopf und versorgt die Spule 18 über Anschlußenden
24 und 25 mit Hochfrequenzenergie. Die Fläche 13, die
dem Gehäuse 22 angepaßt ist, bildet die Oberseite des Applikatorkopf es . Aus Darstellungsgründen ist der Schirm 10
in einer funktionalen Betriebsposition auf der Oberseite der Trägerfläche 13 dargestellt.
Die Streifen 12 sind jeweils im wesentlichen orthogonal zu den darunterliegenden Windungen der Spule 18 ausgerichtet,
die durch die Schleife 11 im wesentlichen umschlossen wird.
Die Schleife 11 kann zwar in verschiedenerlei Weise mit Masse verbunden werden, in der hier beschriebenen Ausführungsform
wird jedoch die Masseverbindung über die Befestigungsschrauben 16 hergestellt, wenn die Fläche 13 wieder
an dem Gehäuse 22 befestigt und dadurch die Schleife 11 mit dem Rahmen des Diathermieapplikatorkopfes elektrisch verbunden
wird.
Wenn der Spule 18 über das Kabel 23 Hochfrequenzenergie zugeführt wird, wird das elektrostatische Feld, das sonst
durch den Applikatorkopf abgestrahlt würde, durch den Schirm 10 wesentlich verringert und dadurch die unerwünschte Oberflächeng
ewebeerwärmung bei dem Patienten minimiert. Gleichzeitig geht jedoch die elektromagnetische Energie durch den
Schirm 10 hindurch, tritt in den Patienten ein und ruft die gewünschten therapeutischen Erwärmungseffekte hervor.
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rungsform enthält ein kreisförmiger, einstellbarer Schirm 30 zwei übereinander angeordnete Schirmflächen 31 und 32.
Der Schirm 30 ist, wie zuvor, zum Anbringen zwischen dem Patienten und den stromführenden Spulen in dem Diathermieapplikatorkopf
vorgesehen. Jede Schirmfläche enthält eine kreisförmige, elektrisch leitende Schleife 34 und mehrere
in gleichmäßigen Abständen voneinander angeordnete elektrisch leitende Streifen 36 bzw. 36a, die sich von einem zentralen
Gebiet 37 aus radial nach außen zu der Schleife 34 erstrekken. Das Gebiet 37, das dem Gebiet 17 von Fig. 1 und 2 entspricht,
ist elektrisch nichtleitend und verhindert dadurch den Kurzschlußwindungseffekt.
Die Streifen 36 sind mit der Schleife 34 elektrisch verbunden. Die Schleife 34 hat mehrere Befestigungslöcher 38 zur
Erdung und zur Befestigung an dem Rahmen eines passenden Diathermieapplikatorkopfes. Die Schleife verhindertauf diese
Weise, wie oben erläutert, die elektrostatische Streuung, während die Streifen die durch den Schirm hindurchgehende
elektrostatische Energie dämpfen.
Gemäß Fig. 3 nimmt die Breite jedes Streifens 36 zwischen dem zentralen Gebiet 37 und der Schleife 34 gleichmäßig zu.
Wichtig ist, daß die Abmessungen jedes Zwischenraums 40 zwischen benachbarten Streifen im wesentlichen gleich den
Abmessungen der Streifen 36 sind. Wenn die Fläche 30 in Deckung bringbar auf der Oberseite der Fläche 32 angeordnet
und an dieser durch einen Niet 40b drehbar befestigt ist, kann sie daher in eine Schließstellung gedreht werden,
in welcher die Streifen 36 in der Fläche 31 unter ihnen befindliche Zwischenräume 40a in der Fläche 32 blockieren
und in welcher die Streifen 36a in der Fläche 32 Zwischenräume 40 in der Fläche 31 blockieren. Andererseits kann die
Fläche 31 in eine geöffnete Stellung gedreht werden, so daß die Streifen 36 direkt über den Streifen 36a liegen. Es ist
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zu erkennen, daß eine Vielzahl von Zwischenstellungen ausgewählt
werden kann. Der Schirm 30 kann daher durch den Patienten oder durch die Bedienungsperson eingestellt werden,
um die hindurchgehende Menge an Hochfrequenzenergie zu verändern.
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Claims (16)
- Patentansprüche :Elektrostatischer Schirm für ein Kurzwellendiathermiegerät mit einem Diathermieapplikatorkopf, wobei der Schirm zwischen dem Diathermieapplikatorkopf, der stromführende Spulen enthält, und dem Körper des zu behandelnden Patienten anzuordnen ist, gekennzeichnet durch Einrichtungen zum Dämpfen der elektrostatischen Energie, die aus dem Kopf austritt und den Patienten erreicht, wobei die Dämpfungseinrichtungen elektrisch leitende Streifen enthalten, die zwischen den stromführenden Spulen in dem Kopf und dem Patienten angeordnet sind, und durch Einrichtungen zum Erden der Dämpfungseinrichtungen.
- 2. Schirm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Streifen eine Ebene definieren, die im wesentlichen parallel zu der Ebene der Spulen ist.
- 3. Schirm nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch Vorrichtungen zum Befestigen des Schirms an dem Applikatorkopf.
- 4. Schirm nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch eine Schleife zum Verringern der elektrostatischen909827/0130ORIGINAL INSPECTEDStreuung, die mit den Dämpfungseinrichtungen elektrisch verbunden ist.
- 5. Schirm nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Streifen eine Ebene definieren, die im wesentlichen parallel zu der Ebene der Spulen und zu der Ebene der Schleife ist.
- 6. Schirm nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Schleife im wesentlichen die Größe des Applikatorkopfes hat.
- 7. Schirm nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Streifen von der Mitte des durch die Schleife festgelegten Gebietes aus insgesamt radial auswärts erstrecken und mit der Schleife elektrisch verbunden sind.
- 8. Schirm nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Mitte des durch die Schleife festgelegten Gebietes wenigstens einen Teil hat, der nicht von den Streifen eingenommen ist.
- 9. Schirm nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Streifen zu der Schleife koplanar sind.
- 10. Verstellbarer elektrostatischer Schirm für ein Kurzwellendiathermiegerät mit einem Diathermieapplikatorkopf, wobei der Schirm zwischen dem Diathermieapplikatorkopf, der stromführende Spulen enthält, und dem Körper des zu behandelnden Patienten anzuordnen ist, gekennzeichnet durch eine erste und eine zweite Schirmfläche, die jeweils mit Einrichtungen zum Dämpfen der elektrostatischen Energie, die den Patienten erreicht, und mit einer Schleife zum Erden der Dämpfungseinrichtungen versehen sind, wobei die Dämpfungseinrichtungen mehrere elektrisch leitende Streifen enthalten, die zwischen den stromführenden Spulen und dem Patienten angeordnet sind, und durch Vorrichtungen zum Befestigen der ersten Schirmflä che derart, daß sie in bezug auf die zweite Schirmfläche drehbar ist.909827/0130
- 11. Schirm nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Streifen im wesentlichen orthogonal zu der Schleife ausgerichtet sind.
- 12. Schirm nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und die zweite Schirmfläche ein zentrales Gebiet haben, das nicht durch Streifen eingenommen ist, die sich von diesem Gebiet aus insgesamt radial auswärts erstrecken.
- 13. Verfahren zur Anwendung eines Hochfrequenzdiathermiegerätes mit wenigstens einem Applikatorkopf bei der therapeutischen Wärmebehandlung von inneren Körpergeweben und zum gleichzeitigen Begrenzen der mit der Behandlung verbundenen Oberflächenhauterwärmung, gekennzeichnet durch folgende Schritte:Erzeugen von elektrischen Hochfrequenzströmen in dem Diathermiegerät, um dadurch elektrostatische und elektromagnetische Energie in dem Behandlungskopf zu erzeugen, Richten der elektrostatischen und der elektromagnetischen Energie über den Diathermieapplikatorkopf auf das Körpergewebe,Dämpfen wenigstens eines Teils der elektrostatischen Energie, die die äußere Hautoberfläche erreicht, um dadurch den äusseren Erwärmungseffekt zu begrenzen, und transkutanes Erwärmen des zu behandelnden Körpergewebes durch die elektromagnetische Energie.
- 14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Dämpfungsschritt das Anordnen eines elektrostatischen Schirms zwischen dem Diathermieapplikatorkopf und der äusseren Hautoberfläche beinhaltet.
- 15. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Dämpfungsschritt das Befestigen eines elektrostatischen Schirms an dem Diathermieapplikatorkopf beinhaltet.909827/0130
- 16. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Dämpfens der elektrostatischen Energie den weiteren Schritt des Veränderns der Auswirkung des elektrostatischen Schirms auf die elektrostatische Energie beinhaltet, um dadurch die Menge an durch den elektrostatischen Schirm hindurchgehender elektrosta tischer Energie zu steuern.909827/0130
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US56256875A | 1975-03-27 | 1975-03-27 | |
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Publication Number | Publication Date |
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DE2757405A1 true DE2757405A1 (de) | 1979-07-05 |
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GB (1) | GB1593525A (de) |
NL (1) | NL7713774A (de) |
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