DE2748056C3 - Legierung auf Kupferbasis - Google Patents
Legierung auf KupferbasisInfo
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- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
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Description
15
enthält
Z Legierung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß sie
0,01 bis 0,1% Aluminium,
0,005 bis 0,01 % Hafnium,
Rest Kupfer
0,005 bis 0,01 % Hafnium,
Rest Kupfer
enthält.
3. Legierung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie
0,1 bis 0,5% Aluminium,
0,01 bis 0,5% Hafnium,
Rest Kupfer
Rest Kupfer
enthält
4. Legierung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie
0,5 bis 1 % Aluminium,
0,5 bis 1% Hafnium,
Rest Kupfer
0,5 bis 1% Hafnium,
Rest Kupfer
enthält.
5. Legierung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich 0,01-1 % Titan enthält
6. Legierung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich 0,01 bis 0,05% Titan
enthält
7. Legierung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich 0,05 bis 0,5% Titan
enthält
8. Legierung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich 0,5 bis 1 % Titan enthält.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich eine Legierung auf Kupferbasis.
Diese Legierung kann in der Elektrotechnik, Elektronik und dem Gerätebau sowie für wärmebeständige
Leiter, Werkzeuge für Elektrofunkenbearbeitung, Schweißelektroden, Kollektorlamellen, Krafttransformatorwicklungen
oder Bauteile elektronischer Geräte eingesetzt werden.
Zur Zeit verwendet man als Leiterwerkstoffe weitgehend Kupfer und niedriglegierte Kupferlegierungen,
die durch Kaltverformung oder Abschrecken unter anschließendem Ausscheidungshärten^Alterung) verfestigt
werden. Unter diesen Kupferlegierungen, die eine ausreichend hohe Leitfähigkeit, von über 70 bis 80%
IACS, aufweisen, sind insbesondere durch Verformung zu verfestigende Silber-, Kadmium- und Magnesiumbronzen sowie Chrom-, Zirkonium- und Chrom-Zirkoniumbronzen
verbreitet, die sich durch Ausscheidungshärten verfestigen lassen. Bei einer ausreichend hohen
Leitfähigkeit, von über 70 bis 80% IACS haben die genannten Legierungen genau so wie das Reinkupfer
niedrige Festigkeitswerte besonders bei erhöhten Temperaturen.
Die Festigkeit des Kupfers und der erwähnten Legierungen bei Raumtemperatur nimmt ebenfalls stark
ab, wenn sie einem Vorglühen zu unterwerfen sind, welches manchmal eine unumgängliche Arbeitsstufe bei
der Herstellung von Erzeugnissen darstellt.
Im verfestigten Zustand schwankt zum Beispiel die durch die Zugfestigkeit (ob) ausgedrückte Festigkeit des
Kupfers und der aufgezählten Legierungen zwischen 40 und 50 kp/mm2. Nach dem Glühen bei einer zwischen
600 und 10000C liegenden Temperatur wird die Zugfestigkeit Ob auf 20 bis 30 kp/mm2 herabgesetzt.
Erhöht sich die Prüftemperatur beispielsweise auf 600 und 10000C, so fällt aB auf 5 bis 25 bzw. 1 bis 2 kp/mm2
ab.
Die Entfestigung des Kupfers und der genannten Legierungen beim Erhitzen ist mit der geringen
Wärmebständigkeit ihres Gefüges zu erklären. Das Erhitzen von verformten! Kupfer oder verformten
Kupferlegierungen führt dazu, daß die Erholungs- und Rekristallisationsprozesse intensiv vor sich gehen und
der verfestigte Zustand somit verlorengeht.
J5 Beim Erhitzen von kaltaushärtbaren Legierungen
werden die fein verteilten Partikel, die Reinmetalle, Mischkristalle oder intermetallische Verbindungen sind,
stark vergröbert oder lösen sich in der Kupfermatrix auf und verlieren somit ebenfalls ihre verfestigende
Wirkung.
Es ist ferner eine Legierung auf Kupferbasis bekannt, die 0,1 bis 1 Gew.-% Aluminium enthält und durch
innere Oxydation verfestigt wird. Diese Legierung ist ein hitzebeständiger Leiterwerkstoff (s. GB-PS
11 52 481).
Nach den Härtemessungen weist die genannte Legierung bei guter Leitfähigkeit (über 85% IACS)
einen bedeutend höheren Entfestigungswiderstand beim Glühen gegenüber Kupfer und den genannten
w niedriglegierten Kupferlegierungen auf, d. h. die Festigkeitseigenschaften
dieser Legierung verändern sich in geringem Maße, wenn man die Legierung bei Temperaturen bis 1000°C glüht. Nach dem Glühen im
Temperaturbereich von 500 bis 1000° C übersteigt zum
» Beispiel die Härte der Legierung die des geglühten
Kupfers um das dreifache.
Die Festigkeit der aluminiumhaltigen Legierung ist jedoch bei Raumtemperatur und erhöhten Temperaturen
verhältnismäßig gering und zwar beträgt die
W) Zugfestigkeit bei Raumtemperatur 45 bis 47 kp/mm2,
bei 600° C 15 bis 17 kp/mm2, bei 950° C etwa 5 kp/mm2.
Zweck der vorliegenden Erfindung ist es die genannten Nachteile zu vermeiden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, durch die
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, durch die
tr> Zugabe von Legierungszusätzen eine Legierung auf
Kupferbasis zu entwickeln, die eine Leitfähigkeit, von 75% IACS mit einer erhöhten mechanischen Festigkeit
bei Raumtemperatur und der Fähigkeit, die hohe
Festigkeit unter Bedingungen einer kurzzeitigen oder langzeitigen Temperatureinwirkung beizubehalten, vereinigt
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß einer Kupferlegierung mit 0,01 bis 1% Aluminium 0,005 bis
1 % Hafnium zulegiert werden.
Die Zugabe von Hafnium in die Legierung ermöglicht je nach der Halbzeugart die Erhöhung der Zugfestigkeit
beispielsweise bei Raumtemperatur auf 48 bis 70 kp/ mm2.
Diese Festigkeit erfüllt die Anforderungen, die an wärmebeständige Leiter, Bauteile elektronischer Geräte
und an Schweißelektroden gestellt werden.
In den Fällen, in denen eine höhere Festigkeit gefordert wird, ist für die genannten Erzeugnisse
zweckmäßigerweise eine Legierung zu verwenden, die noch Titan in einer Menge von 0,01 bis 1% enthält
Die Titanzugabe erhöht die Zugfestigkeit (bei Raumtemperatur) auf 48 bis 85 kp/mm2.
Zur Herstellung von Feindrahtleitern, insbesondere von Drähten mit unter 0,2 mm Durchmesser und
Bändern mit unter 0,1 mm Dicke sind Legierungen zu empfehlen, die in Gewichtsprozent enthalten:
Aluminium: | 0,01 bis 0,1, |
Hafnium: | 0,005 bis 0,01, |
Kupfer: | Rest |
oder | |
Aluminium: | 0,01 bis 0,1, |
Hafnium: | 0,005 bis 0,01, |
Titan: | 0,01 bis 0,05, |
Kupfer: | Rest |
Die genannten Legierungen zeichnen sich durch eine leichtere Herstellung und Verformung bei einer guten
Festigkeit (oB beträgt 48 bis 55 kp/mm2 und Leitfähigkeit
über 90% IACS) aus.
Zur Herstellung von Drähten mit mindestens 0,2 mm Durchmesser, Bändern mit mindestens 0,1 mm Dicke
sowie Stäben, Rohre und anderen Halbzeugen ist es zweckmäßig, die Legierungen zu verwenden, die in
Gewichtsprozent enthalten:
Aluminium: | 0,1 bis 0,5, |
Hafnium: | 0,01 bis 0,5, |
Kupfer: | Rest, |
oder | |
Aluminium: | 0,1 bis 0,5, |
Hafnium: | 0,01 bis 0,5, |
Titan: | 0,05 bis 0,5, |
Kupfer: | Rest |
Aluminium: | 0,5 bis | 1, |
Hafnium: | 0,5 bis | 1, |
Kupfer: | Rest, | |
oder | ||
Aluminium: | 0,5 bis | 1, |
Hafnium: | 0,5 bis | 1, |
Titan: | 0,5 bis | 1, |
KuDfer: | Rest |
Diese Legierungen zeichnen sich durch größte Festigkeit (ob liegt zwischen 60 und 85 kp/mm2) und
Härte aus und sind für die Herstellung von Schweißelektroden, Kollektorlamellen und Werkzeuge für die
Elektrofunkenbearbeitung bestimmt
Das Verfahren zur Herstellung der vorgeschlagenen Kupferlegierung besteht in folgendem.
Man schmilzt Kupfer mit Aluminium, Hafnium bzw. Aluminium Hafnium und Titan, entweder einzeln oder in
ίο Form von Zusatzlegierungen derselben, in einem
Vakuumofen oder offenen Ofen nach üblicher Technologie zusammen. Beim Zusammenschmelzen im Ofen
mit offenem Schmelzkanal wird unter Holzkohlenschicht gearbeitet Man erhitzt zuerst das Reinkupfer
auf eine Temperatur von 1150 bis 12000C Die Schmelze
wird während 5 bis 10 min bei dieser Temperatur gehalten, und dann werden der Schmelze die Legierungsbestandteile
in folgenden Mengen in Gewichtsprozent zugesetzt:
Die genannten Legierungen zeichnen sich dadurch aus, daß sie eine höhere Festigkeit (ob liegt zwischen 50
und 80 kp/mm2) und befriedigende Herstellbarkeit vereinigen.
Zur Herstellung von Erzeugnissen in Form von Rundstäben oder Profilen mit ausreichend großem
Querschnitt empfehlen sich Legierungen, die in Gewichtsprozent enthalten:
Aluminium:
Hafnium:
Titan:
0,01 bis 1
0,005 bis 1
0,01 bis 1
0,005 bis 1
0,01 bis 1
Nach der Durchmischung mit einem Graphitstab wird die Schmelze in Eisen- oder Graphitkokillen vergossen.
Zur Herstellung von Halbzeugen können die Legierungen wärmebehandelt und verformt werden.
Die Eigenschaften der bekannten Legierungen auf Kupferbasis und der erfindungsgemäßen Legierung auf
Kupferbasis, enthaltend 0,2 Gew.-% Aluminium, 0,05 Gew.-% Titan und 0,01 Gew.-% Hafnium, sind in
Tabelle 1 zusammengestellt Die Werte in dem in der Tabelle angegebenen Bereich umfassen verschiedene
Halbzeuge und ihre Fertigung für jede der Zusammensetzungen. Die Angaben zeigen, daß die erfindungsgemäße
Legierung den bekannten Legierungen an elektrischer Leitfähigkeit nicht nachsteht, aber an
Festigkeit in einem weiten Temperaturbereich überlegen ist.
Typisch für diese Legierung ist auch der hohe Entfestigungswiderstand bei kurzzeitigen und langzeitigen
Erhitzungen auf Temperaturen bis 10500C. Dadurch, daß man die chemische Zusammensetzung
im vorgesehenen Bereich und die Bedingungen für die Verformung und das Glühen variiert, kann man auf
verschiedene Weise Festigkeit Plastizität und elektrische Leitfähigkeit kombinieren, was den an diese oder
jene Erzeugnisse gestellten Forderungen gerecht zu
5» werden vermag. So liegt zum Beispiel die Zugfestigkeit
bei Raumtemperatur zwischen 48 und 85 kp/mm2, und die elektrische Leitfähigkeit liegt zwischen 75 und 97%
von der Kupferleitfähigkeit
Nach dem Glühen bei Temperaturen von 600 bis 1050° C behält die Legierung ihre Zugfestigkeit ob von
35 bis 65 kp/mm2 bei. Die relative Dehnung der Legierung, die ihre Plastizität charakterisiert, beträgt
nach der Warmverformung oder dem Glühen 3 bis 40%, je nach der chemischen Zusammensetzung.
W) Enthält die Legierung die Bestandteile in einer
nachstehend angegebenen Menge in Gewichtsprozent:
Aluminium:
Hafnium:
Titan:
0,01 bis 0,1
0,005 bis 0,01
0,01 bis 0,05,
0,005 bis 0,01
0,01 bis 0,05,
s· ist sie
elektrische
übersteigt.
elektrische
übersteigt.
leicht herstellbar. Sie besitzt dann eine Leitfähigkeit, die 90 bis 95% IACS
27 43
Lfd. Chemische Zusammensetzung der Legierung, Elektrische Zugfestigkeit, aB kp/mm2, bei einer Temperatur von
Nr. Gew.-% Leitfähigkeit,
%/IACS 20 C 600 C 800 C 950 C nach 1 h
Glühen bei 1050 C
1. Kupfer 100
2. Silberbronze, bestehend aus Kupfer und 98
0,ü3 bis 0,12 Ag
0,ü3 bis 0,12 Ag
3. Kadmiumbronze, bestehend aus Kupfer 80
und 0,9 bis 1,2 Cd
und 0,9 bis 1,2 Cd
4. Chrombronze, bestehend aus Kupfer 80-85 und 0,8 Cr
5. Legierung, bestehend aus Kupfer und 88
0,27 Al
0,27 Al
6. Legierung, bestehend aus Kupfer und 87-91 0,2 AI, 0,05 Ti, 0,01 Hf
40 | 5 | 1-2 | 1-1,5 | 20 |
45 | 6 | <4 | - | -20 |
50-60 | 6-8 | <4 | - | 20-22 |
45-55 | 15-20 | <5 | - | 23-25 |
47,6 | 15,1 | 9,8 | 4,5 | - |
50-80 | 21-35 | 10-26 | 6-20 | 48-53 |
Gleichzeitig übersteigt die Festigkeit der Legierung insbesondere bei Temperaturen von über 300 bis 5000C
sowie bei Raumtemperatur, jedoch nach vorherigem Glühen, die Festigkeit der bekannten Legierungen, die
die gleiche hohe elektrische Leitfähigkeit aufweisen.
Die Erhöhung der Konzentration von Legierungsbestandteilen
ruft eine Steigerung der Festigkeit unter to gleichzeitigem Vermindern der Plastizität und elektrischen
Leitfähigkeit in gewissem Maße hervor. Bei beliebiger Vereinigung der genannten Eigenschaften ist
jedoch die erfindungsgemäße Legierung den bekannten Legierungen, die die gleiche elektrische Leitfähigkeit
haben, an Festigkeit überlegen.
Die Herabsetzung der Konzentration an Legierungsbestandteilen unter dem angemeldeten Bereich sichert
nicht ausreichende Festigkeit sowohl im Anfangszustand als auch nach dem Glühen.
Bei erhöhtem Gehalt an jedem der Legierungsbestandteile, der über 1 Gew.-% beträgt, kommt es zu
einem unzulässigen Abfall der elektrischen Leitfähigkeit und Technologiegerechtheit.
Zum besseren Verstehen der vorliegenden Erfindung werden nachstehend konkrete Beispiele angegeben.
Eine Legierung auf Kupferbasis, enthaltend 0,2 Gew.-% Aluminium, 0,05 Gew.-% Titan und 0,01
Gew.-% Hafnium, wird in einem Vakuumofen durch das
Zusammenschmelzen von Kupfer und Zusatzlegierungen, bestehend aus Kupfer und 50 Gew.-°/o Aluminium,
Kupfer und 20 Gew.-% Titan, Kupfer und 20 Gew.-% Hafnium, hergestellt Dazu erhitzt man das Kupfer auf
eine Temperatur von 11500C Die Schmelze hält man
bei dieser Temperatur während 10 min und gibt dann der Schmelze die genannten Zusatzlegierungen zu.
45 Nach der Durchmischung der Schmelze mit einem Graphitstab während 1 min wird sie in eine Eisenkokille
vergossen. Aus dem erhaltenen Block fertigt man dann Halbzeuge in Form von Stäben von 15 mm Durchmesser,
Drähten von 2 bis 0,2 mm Durchmesser und Bändern von 0,15 mm Dicke. Die Eigenschaften der
gefertigten Halbzeuge sind in Tabellen 2 bis 5 angegeben. Die Werte in dem in Tabelle 2 angeführten
Bereich entsprechen einem Draht von 2 bis 0,2 mm Durchmesser.
Eigenschaften eines Drahtes bei Raumtemperatur
Zustand | Zugfestigkeit ag kp/mm2 |
Streckgrenze σο,2 kp/mm2 |
Dehnung δ % |
Spezifischer elektrischer Widerstand p, Ohm · mm2 |
Elektrische Leitfähigkeit %/IACS |
67-80 | 68-77 | 1-5 | mm | ||
Nach Kaltverfonfiung durch Ziehen |
65-70 | 60-63 | 3-9 | 0,0199 | 87 |
Glühen 500' C 1 h | 60-66 | 58-62 | 4-10 | 0,0197 | 87,5 |
Glühen 700C 1 h | 55-61 | 52-59 | 6-12 | 0,0197 | 87,5 |
Glühen 900' C 1 h | 53-57 | 48-53 | 7-12 | 0,0197 | 87,5 |
Glühen 1050 C 1 h | 0,0196 | 88 |
Eigenschaften von 0,15 mm dickem Band bei Raumtemperatur
Zustand | Zugfestigkeit ag kp/mm2 |
Streckgrenze σο kp/mm2 |
,2 Dehnung δ | Spezifischer elektrischer Widerstand p, Ohm · mm2 |
Elektrische Leitfähigkeit %/IACS |
65 55 50 |
64 54 47 |
5 9 13 |
mm | ||
Nach Kaltwalzen Glühen 50OCIh Glühen 1050 C 1 h |
0,0202 0,0200 0,0200 |
87 87 88 |
Eigenschaften eines Stabes bei Raumtemperatur
Zustand | Zugfestigkeit aH kp/mm2 |
Streckgrenze σ0; kp/ninr |
Dehnung δ | Spezifischer elektrischer Widerstand />, Ohm · mm2 |
Elektrische Leitfähigkeit %/IACS |
50 49 |
44 43 |
15 20 |
mm | ||
Nach Warmpressen Glühen 1050 C 1 h |
0,0192 0,0192 |
90 91 |
Zugfestigkeit aH (kp/mnr) eines Drahtes von 2 mm Durchmesser und eines Stabs von 15 mm Durchmesser bei
Raumtemperatur und erhöhten Temperaturen
Prüftemperatur, C | Beispiel | 20 | 200 | 400 | 600 | 800 | 900 |
Draht | 67 | 56 | 44 | 35 | 26 | 21 | |
Stab | 50 | 42 | 32 | 20 | 10 | 7 | |
2 | bis 50 kp/mm2 erhalten. | Die Dehnung im anH **rrpi/-"Vit 1 Π Ki |
warmverform- | ||||
Eine Legierung auf Kupferbasis, enthaltend 0.05 Gew.-% Aluminium. 0.01 Gew.-% Titan und 0,005
Gew.-% Hafnium, wird analog zu dem im Beispiel 1 beschriebenen Verfahren hergestellt.
Aus der Legierung fertigt man einen Draht von unter 0,2 mm Durchmesser und ein unter 0,1 mm dickes Band.
Die Zugfestigkeiten eines Drahtes von 0,12 mm und
eines Bandes von 0.08 mm Dicke betragen bei Raumtemperatur 55 kp/mm-\ nach dem Glühen bei
1050°C bleiben sie auf 35 kp/mm- erhalten. Die elektrische Leitfähigkeit der Legierung liegt zwischen
94 und 97% IACS.
Die Dehnung im warmverformten oder geglühten (weichen) Zustand erreicht 20 bis 30%.
Eine Legierung auf Kupferbasis, enthaltend 0.2
Gew.-% Aluminium und 0.2 Gew.-% Hafnium, wird analog zu dem im Beispiel 1 beschriebenen Verfahren
hergestellt Die hergestellte Legierung hat eine elektrische Leitfähigkeit, die 86 bis 88% IACS betrag!.
Die Zugfestigkeit von aus der erhaltenen Legierung gefertigten Halbzeugen bei Raumtemperatur folgende
Werte:
Stab von 15 mm Durchmesser 49 kp/mm;
Draht von 0.5 mm Durchmesser 60 kp/mm-Band von 0.15 mm Dicke 57 kp/mm-
Nach dem Glühen bei einer Temperatur von 1050rC
bleibt die Zugfestigkeit der genannten Halbzeuge auf 49
Eine Legierung auf Kupferbasis, enthaltend 0,5 Gcw.-% Aluminium. 0.1 Gew.-% Titan und 0,1 Gew.-%
Hafnium, wird analog zu dem im Beispiel beschriebenen Verfahren hergestellt. Die Zugfestigkeit von aus der
erhaltenen Legierung gefertigten Halbzeuge hat bei Raumtemperatur folgende Werte:
Stab von 15 mm Durchmesser
Draht von 0,5 mm Durchmesser
Band von 0,15 mm Dicke
Draht von 0,5 mm Durchmesser
Band von 0,15 mm Dicke
55 kp/mm2
80 kp/mm2
67 kp/mm2.
80 kp/mm2
67 kp/mm2.
Nach dem Glühen der genannten Halbzeuge bei einer Temperatur von 1050° C bleibt die Zugfestigkeit auf 55
bis 60 kp/mm2 erhalten. Die elektrische Leitfähigkeit der hergestellten Legierung beträgt 83 bis 85% IACS.
Eine Legierung auf Kupferbasis, enthaltend 1 Gew.-% Aluminium. 1 Gew.-% Titan, 1 Gew.-°/o
Hafnium, wird analog zu dem im Beispiel 1 beschriebenen Verfahren hergestellt Ein aus der Legierung
gefertigter Stab weist eine Zugfestigkeit von 80 kp/mm2 bei Raumtemperatur und ein 2 mm dickes Band
85 kp/mm2 auf. Nach dem Glühen der genannten Halbzeuge bei einer Temperatur von 1050°C bleibt die
Zugfestigkeit bei Raumtemperatur auf 60 bis 65 kp/mm2 erhalten.
Die elektrische Leitfähigkeit der Legierung beträgt 75 bis 77% IACS.
Claims (1)
1. Legierung auf Kupferbasis, dadurch gekennzeichnet, daß sie
0,01 bis 1% Aluminium,
0,005 bis 1% Hafnium,
Rest Kupfer
0,005 bis 1% Hafnium,
Rest Kupfer
10
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19772748056 DE2748056C3 (de) | 1977-10-26 | 1977-10-26 | Legierung auf Kupferbasis |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19772748056 DE2748056C3 (de) | 1977-10-26 | 1977-10-26 | Legierung auf Kupferbasis |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2748056A1 DE2748056A1 (de) | 1979-05-03 |
DE2748056B2 DE2748056B2 (de) | 1980-09-25 |
DE2748056C3 true DE2748056C3 (de) | 1981-05-21 |
Family
ID=6022333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19772748056 Expired DE2748056C3 (de) | 1977-10-26 | 1977-10-26 | Legierung auf Kupferbasis |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2748056C3 (de) |
-
1977
- 1977-10-26 DE DE19772748056 patent/DE2748056C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2748056A1 (de) | 1979-05-03 |
DE2748056B2 (de) | 1980-09-25 |
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