DE2648516C3 - Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfschicht - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer AufdampfschichtInfo
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- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
Description
Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfschicht auf einem halogenhaltigen
Kunststoff-Substrat unter Verwendung einer haftverbessernden Zwischenschicht Es ist bereits ein
Verfahren bekannt (US-PS 24 82 054), bei dem auf ein silbiumhaltiges Material wie Glas, Porzellan oder
dergleichen eine haftvermittelnde Schicht aus einer « Metallverbindung, beispielsweise aus einem Fluorid.
aufgebracht wird. Dieses bekannte Verfahren hat jedoch insbesondere den Nachteil, daß in einem
aufwendigen Verdampfungsprozeß unter schwierigen Bedingungen eine schwer zu verdampfende Substanz
verdampft werden muß. Insbesondere bereitet es bei dem bekannten Verfahren Schwierigkeiten, in ein und
demselben Bedampfungsverfahren, d. h. im gleichen Kessel, die haftvermittelnde Zwischenschicht und die
darüberliegende Aufdampfschicht aufzubringen, weil « sich die Aufdampfbedingungen beispielsweise einer
metallischen Aufdampfschicht nicht mit dem Verdampfungsbedingungen für ein Halogenid vereinbaren lassen.
Weiterhin ist aus der DE-AS 12 25 940 ein Verfahren zum haftfesten Vakuum-Aufdampfen einer vorzugswei- ■><>
se metallischen Schicht auf einer Unterlage aus halogeniertem
Polyethylen unter Anordnung einer Haftzwischenschicht bekannt. Diese soll insbesondere zur
Vervendung gelangen als Unterlage für eine Lotmetallschicht. Die Haftschicht besteht aus einer Metalloxid- M
schicht, welche durch Kathodenzerstäubung aufgebracht wird. Hierbei handelt es sich um eine
Haftzwischenschicht, welche nach dem Verfahren der Kathodenzerstäubung hergestellt ist und somit auf
einem andersartigen Herstellungsverfahren als die eigentliche Aufdampfschicht basiert. Dies bedingt zwei
prinzipiell unterschiedliche Auftragungsverfahren, nämlich das Aufdampfen einerseits Und das Aufstäuben
andererseits, Welche praktisch nicht in ein Und derselben
Vakuumanlage durchgeführt werden können, zumindest nicht unter gleichartigen Vakuumbedingungen und nur
mit verschiedenartiger Beschickungstechnik, Darüber hinaus führt das Verfahren des Aufstäubens zu einer
höheren thermischen Belastung der Substrate als das Verfahren des Aufdampfens. Schließlich handelt es sich
bei der bekannten Schicht um eine Metalloxidschicht, die schwieriger herzustellen ist als eine reine Metallschicht
Verfahrensmäßig ist es günstiger, eine reine Metallschicht mit Haftzwischenschicht aufzubringen, da diese
leichter zu verdampfen ist und dann z. B. mit dem Fluor der Polytetrafluorethylen-Fluorethylenpropylen-Folie
reagiert und dadurch zu einer hohen Haftfestigkeit der aufgedampften Schicht führt
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, mit geringem Verfahrensaufwand eine wirksame haftvermittelnde
Zwischenschicht aufzubringen. Dies wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß sls Zwischenschicht
eine dünne Metallschicht aufgedampft wird, weiche mit dem Halogen reagiert
Das erfindungsgemäße Verfahren hat d*n Vorteil,
daß zur Erzeugung der haftvermittelnden Zwischenschicht eine leicht zu verdampfende Substanz wie
beispielsweise Aluminium in dem gleichen Rezipienten, d h. im gleichen Verfahrensgang mit der erwünschten
Aufdampfschicht auf das Substrat aufgebracht werden kann. Für viele Anwendungszwecke, beispielsweise zur
Herstellung elektrischer Kondensatoren oder eines elektrosensitiven Registriermetallpapiers kann sogar
für die Zwischenschicht und die darüberliegende Aufdampfschicht das gleiche Material, nämlich Aluminium
verwendet werden. Die haftvermittelnde Zwischenschicht besteht bei Einhaltung geeigneter Schichtdicken
vorwiegend aus einem Halogenid, jedoch treten beispielsweise auch Oxide des zur Bildung der
Zwischenschicht aufgedampften Metalls auf Die Zwischenschicht gewährleistet eine außergewöhnlich gute
Verbesserung der Hafteigenschaften und liefert eine absorptionsfreie Zwischenschicht, welche neben ihrer
Eigenschaft der Haftverbesserung noch den Vorteil besitzt, daß sie optisch neutral ist. Letztgenannte
Eigenschaft ist z. B. wichtig zur Herstellung von Registriermetallpapier, wenn nach dem Ausbrennen der
metallischen Aufdampfschicht eine klare Kontur einer darunterliegenden Kon'.rastschicht sichtbar werden soll.
Bei optischen Schichten ist also die Transparenz der entstehenden Schicht von Bedeutung.
Durch die in den L'nteransprüchen aufgeführten
Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen des im Hauptanspruch angegebenen
Verfahrens möglich. Als besonders vorteilhaft hat sich eine Dicke der Zwischenschicht von ca. 2 nm bewährt,
als Substrat wurde mit gutem f.rfolg Polytetrafluorethylen-Fluorethylenpropylen
verwendet, dessen Fluor-Ante'l
mit einer aufgedampften Aluminium-Zwischenschicht reagiert und eine als haftvermittelnde Schicht
besonders geeignete und transparente Zwischenlage bildet.
Das Aluminium der Zwischenschicht reagiert mit dem Fluor des Kunststoffes zu AlF) und bildet eine
absorptionsfreie (optisch neutrale) Zwischenschicht. Als Kunststoffsubstrat wurde das zuvorgenannte Polymerisationsprodukt
Polytetrafluorethylen Fluorethylenpropylen
PTFF FEP benutzt. Die vorwiegend durch das Halogenid des PEP gebildete Haftschicht wurde
beispielsweise mit Erfolgt verwendet bei der Bedamp*
fUng Von PTFE-FEP mit Silber zur ReflexiönsefhöhUng
und Von interferenzfiltern, die als degradälionshemmende
Schichten bei der UV-Bestrahlung aufgedampft wurden.
Anstelle Von halogenhaltigen Kunststoffen ist es auch
möglich, eine Mischung von anderen Kunststoffen mit halogenhaltigen Kunststoffen zu verwenden; auch bei
derartigen Mischungen erreicht man eine Verbesserung der Haftung, beispielsweise beim Aufdampfen von
Aluminiumschichten,
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfschicht auf einem halogenhaltigen Kunststoff-Substrat
unter Verwendung einer haftverbessernden *>
Zwischenschicht, dadurch gekennzeichnet, daß als Zwischenschicht eine dünne Metallschicht
aufgedampft wird, welche mit dem Halogen reagiert
2. Verfahren nach Anspruch 1. dadurch gekenn- in
zeichnet, daß die aufgedampfte Zwischenschicht eine Aluminiumschicht ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminium-Zwischenschicht eine
Dicke von 0,5 bis 5 nm vorzugsweise eine Dicke von ca. 2 nm besitzt
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Kunststoff-Substrat aus
Polytetrafluorethylen-Fluorethylenpropylen besteht mit welchem die aufgedampfte Aluminium-Zwischenschicht
zu AIF3 reagiert
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß die Aufdampfschicht aus Silber
besteht
25
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762648516 DE2648516C3 (de) | 1976-10-27 | 1976-10-27 | Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfschicht |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762648516 DE2648516C3 (de) | 1976-10-27 | 1976-10-27 | Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfschicht |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2648516A1 DE2648516A1 (de) | 1978-05-03 |
DE2648516B2 DE2648516B2 (de) | 1981-07-09 |
DE2648516C3 true DE2648516C3 (de) | 1982-04-29 |
Family
ID=5991462
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762648516 Expired DE2648516C3 (de) | 1976-10-27 | 1976-10-27 | Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfschicht |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2648516C3 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8712789D0 (en) * | 1986-06-25 | 1989-10-18 | Secr Defence | Pyrotechnic train |
GB8905747D0 (en) * | 1989-03-13 | 1989-04-26 | Secr Defence | Pyrotechnic material |
FR2716258A1 (fr) * | 1991-10-01 | 1995-08-18 | Secr Defence Brit | Fusée éclairante propulsée. |
FR2715219A1 (fr) * | 1991-10-01 | 1995-07-21 | United Kingdom Government | Fusée pyrotechnique infrarouge de forte intensité. |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT215159B (de) * | 1959-06-23 | 1961-05-25 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Herstellung einer haftfesten Verbindung zwischen Werkstücken aus Polyhalogenolefinen u. a. Werkstoffen |
-
1976
- 1976-10-27 DE DE19762648516 patent/DE2648516C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2648516A1 (de) | 1978-05-03 |
DE2648516B2 (de) | 1981-07-09 |
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