DE2503526A1 - Fotopolymere - Google Patents

Fotopolymere

Info

Publication number
DE2503526A1
DE2503526A1 DE19752503526 DE2503526A DE2503526A1 DE 2503526 A1 DE2503526 A1 DE 2503526A1 DE 19752503526 DE19752503526 DE 19752503526 DE 2503526 A DE2503526 A DE 2503526A DE 2503526 A1 DE2503526 A1 DE 2503526A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
molecular weight
photopolymer
solvent
acid
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19752503526
Other languages
English (en)
Inventor
Bauke Schoustra
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Production Printing Holding BV
Original Assignee
Oce Van der Grinten NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oce Van der Grinten NV filed Critical Oce Van der Grinten NV
Publication of DE2503526A1 publication Critical patent/DE2503526A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/34Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
    • C08G65/48Polymers modified by chemical after-treatment
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

PATENTANWÄLTE
Dipping. P. WIRTH ■ Dr. V. SCHMIED-KOWABZIK 2503526 Dipl.-lng. G. DANNENBERG ■ Dr. P. WEINHOLD · Dr. D. GUDEL 281134 6 FRANKFURT/M.
TELEFON (Ο6Π3 287oi4 GR ESCHENHEIMER STR.39
Ref.; 717
wd/sch
Oce-van der Grinten N. V. St.Urbanusweg 102 V e η 1 o/Holland
"Fotopolymeren
509832/0ii.S
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein neues Fotopolymeres , das sich zur Verwendung in der Lithographie und in fotomechanischen Verfahren eignet, sowie auf das neue Fotopolymere enthaltende lichtempfindliche Zusammensetzungen. Die Erfindung bezieht sich auch auf eine lichtempfindliche Platte, die mit einer das neue Fotopolymere enthaltenden Schicht versehen ist, sowie auf eine bildtragende. Platte, die durch bildweise Belichtung und Entwicklung einer solchen lichtempfindlichen Platte erhalten worden ist.
Es ist bereits bekannt, Polymere mit Gruppen zu versehen, welche unter der Einwirkung von Licht dimerisiert oder polymerisiert werden können, um kurze Ketten zu ergeben, so daß das Polymere durch Licht vernetzt werden kann. Solche fotovernetzbare Polymere werden bei lichtempfindlichen Kopierschichten angewendet, um Druckformen und insbesondere alle Arten von Ätz-"Resists" zu erhalten.
In diesem Zusammenhang sind die Ester von Polyalkoholen mit Zimtsäure, die beispielsweise von ganz oder teilweise verseiften Polyvinylestern und von Zellulose erhalten worden sind, von besonderer Bedeutung.
Da die Ester oder Amide von Zimtsäure gegenüber den Lichtquellen, die gewöhnlich bei fotografischen Reproduktionsverfahren verwendet werden, nur eine sehr niedrige Lichtempfindlichkeit besitzen, wurden bereits wiederholt Versuche unternommen, die Lichtempfindlichkeit dieser Verbindungen zu den längeren Wellenlängen hin durch Sensibilisierung zu erweitern oder diese Zimtsäurederivate durch Produkte zu ersetzen, die gegenüber den üblichen Lichtquellen empfindlicher sind.
Durch Zugabe eines Sensibilisierungsmittels wird die Lichtempfindlichkeit der Kopierschichten zwar tatsächlich zu den längeren Wellenlängen hin erweitert, die vollständige Vernetzung der Flächen in den tieferen Schichten wird jedoch
509832/091&
durch die Sensibilisierungsmittel behindert, da diese im allgemeinen bei der Belichtung nur in einem geringen Maß oder überhaupt nicht ausgebleicht werden und folglich als eine Art Filter wirken. ■
Außerdem können die Sensibilisierungsmittel die Ätzbeständigkeit der Kopierschicht erheblich vermindern.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist daher die Schaffung eines Fotopolymeren , das eine derartige Lichtempfindlichkeit besitzt, daß es unter Verwendung der herkömmlichen Lichtquellen im graphischen Gewerbe,insbesondere für lithographische Druckplatten und Ätz-Resists, verwendet werden kann, ohne daß dabei die Zugabe von Sensibilisierungsmitteln notwendig ist.
Das neue erfindungsgemäße Fotopolymere besteht aus dem 3-(2-Furyl)-acrylsäureester eines Phenoxyharzes mit einem Molekulargewicht von wenigstens etwa 15.000.
Das erfindungsgemäße Fotopolymere , das eine neue Verbindung darstellt, kann erhalten werden, indem man ein Phenoxyharz mit einem Molekulargewicht von wenigstens etwa 15.000 in Anwesenheit eines geeigneten Lösungsmittels mit 3-(2-Furyl)-acrylsäure (im folgenden als Furylacrylsäure bezeichnet) oder mit einem zum Verestern geeigneten Derivat von dieser verestert. ■ ■ : . ' :
Der Begriff "Phenoxyharz" bezieht sich in der vorliegenden Beschreibung auf Polyhydroxyäther mit einem hohen Molekulargewicht der folgenden Formel: -
0- CH0 - CE -CH-2 ! I R R1
η > 50
5098 32/0915
worin R und R1 Wasserstoffatome bzw. Hydroxylgruppen bedeuten.
Verbindungen der oben genannten Strukturformel werden im allgemeinen hergestellt, indem Bis-phenol A(=2,2-Bis-(phydroxyphenyl)propan) und Epichlorhydrin miteinander umgesetzt werden.
Die erfindungsgemäß verwendbaren Phenoxyharze unterscheiden sich von den Epoxyharzen, welche von den gleichen Ausgangsmaterialien hergestellt werden können, dadurch, daß die Phenoxyharze keine Epoxydringe enthalten.
Die Phenoxyharze haben daher keine endständigen Epoxydgruppen, wie Epoxyharze, sondern endständige Phenolgruppen. Außerdem ist ihr Molekulargewicht in der Regel wesentlich höher als dasjenige der Epoxyharze, welche meist ein Molekulargewicht von etwa 800 - 8000 haben. In der Regel haben Phenoxyharze ein Molekulargewicht von wenigstens etwa 15.000, im allgemeinen von etwa 20.000 - 30.000. Phenoxyharze mit einem noch höheren Molekulargewicht können zur Herstellung von Filmen mit einer besonders hohen Abnutzungsbeständigkeit verwendet werden.
Da die Polymerenketten von Phenoxyharzen lang genug sind, ist es nicht notwendig, diese Harze chemisch zu härten.
Erfindungsgemäß wurden die folgenden Harze erfolgreich verwendet: Rütapox 0717 (Molekulargewicht 25.000) und Rütapox 0723 (Molekulargewicht 15.000 - 20.000), beides Produkte der Rütgerwerke AG.; Epikoot OL53 (Molekulargewicht 80.000) und Epikoot OL55 (Molekulargewicht 200.000), Produkte von Shell; und Bakelite "EKDA-Harze" mit einem Molekulargewicht von etwa 20.000 bis 30.000 der Firma Bakelite.
Um das Phenoxyharz mit der Furylacrylsäure"zu verestern, kann die Furylacrylsäure in jeder für die Veresterung geeigneten Form verwendet werden, beispielsweise in Form der Methoxy- oder Nitrofurylacrylsäure, des Säureamids der Furylacrylsäure, z.B. Furylacrylamid, Ν,Ν-Dimethylfurylacrylamid und N-Hydroxy-
509832/0915
äthyl-furylacrylamid. Vorzugsweise wird jedoch ein sauerstoffhaltiges Halogenid, wie z.B. das Furylacryloylchlorid, verwendet.
Das bei der erfindungsgemäßen Veresterungsreaktion verwendete Lösungsmittel sollte nicht mit den Hydroxylgruppen des Phenoxyharzes oder mit dem Furylacrylsäurederivat reagieren.
Lösungsmittel, die diesen Anforderungen entsprechen, sind z.B. Dioxan, N-Methy!pyrrolidon, Butylcarbitolacetat, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxyd und Methyläthylketon.
Vorzugsweise werden Dioxan und N-Methylpyrrolidon verwendet.
Zur Herstellung des neuen, erfindungsgemäßen Fotopolymeren wird das Phenoxyharz in dem Lösungsmittel gelöst, und dann wird ein Überschuß der Furylacrylsaureverbindung, z.B. Furylacryloyl chlorid, zugegeben.
Danach wird die Reaktionsmischung unter Rühren und bei atmosphärischem Druck auf eine Temperatur von beispielsweise 80 bis 1000C (falls Dioxan als Lösungsmittel verwendet wird) oder von 80 bis 1120C (bei N-Methylpyrrolidon) erhitzt. Falls Furylacryloylchlorid für die Veresterung verwendet wird, ist es ratsam, einen Luftstrom über die Lösung zu leiten, um das gebildete Chlorwasserstoffgas zu entfernen. Im Fall von N-Methylpyrrolidon ist dies nicht notwendig.
Wenn die Reaktion abgeschlossen ist, was in den meisten Fällen nach etwa 1 bis 3 Stunden der Fall ist, wird das gewünschte Fotopolymere mit Hilfe einer Flüssigkeit, die mit dem Lösungsmittel mischbar ist, worin das gebildete Harz jedoch nicht gelöst wird, von der Reaktionsmischung abgetrennt. Eine geeignete Flüssigkeit ist beispielsweise Methanol, obwohl auch Äthanol, Propanol, Butanol und dergleichen verwendet werden können. Falls das verwendete Lösungsmittel mit Wasser mischbar ist, kann das Harz auch mit Hilfe von Wasser abgetrennt werden.
509832/0915
Nach dem Reinigen und Waschen erhält man den Phenoxyharzester im allgemeinen in Form eines feinen Pulvers.
Das erfindungsgemäße Fotopolymere kann in jeder Art, die bei lithographischen und fotomechanischen Verfahren an sich bekannt ist, verwendet werden. Es kann beispielsweise für die Herstellung von negativ-arbeitenden Aluminiumdruckplatten und ebenso als Fotoresist verwendet werden. Außerdem kann es auch zur Herstellung von gedruckten Schaltungen und von Namensschildern und dergleichen verwendet werden. Bei diesen Anwendung s art en erhält man mit dem erfindungsgemäßen neuen Polymeren hervorragende Ergebnisse infolge .der hohen chemischen Beständigkeit, welche es ermöglicht, das Polymere auch direkt auf einem Metallträger zu verwenden und infolge seiner besonderen Haftfähigkeit auf elektrochemisch aufgerauhtem und/oder anodisiertem Aluminium.
Obwohl es infolge der hohen Lichtempfindlichkeit des erfindungsgemäßen Polymeren nicht notwendig ist, Sensibilisierungsmittel zuzugeben, können gegebenenfalls dennoch ein oder mehrere Sensibilisierungsmittel zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung gegeben werden, was zu einer weiteren beträchtlichen Verbesserung der Lichtempfindlichkeit führt. In einigen Fällen kann dadurch die Belichtungszeit auf ein Drittel der Zeit, die ohne Sensibilisierungsmittel notv/endig wäre, reduziert werden, wodurch der Anwendungsbereich des erfindungsgemäßen Fotopolymeren erheblich ausgedehnt wird.
Das neue, erfindungsgemäße Fotopolymere kann in jeder an sich bekannten Weise und in den üblichen Mengen auf den gewünschten Träger aufgebracht werden.
Zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte kann es z.B. mit einem leichtflüchtigen, organischen Lösungsmittel, z.B. Dioxan, THF*oder N-Methylpyrrolidon, oder mit einer Mischung dieser Lösungsmittel gemischt werden, wonach es dann auf den Träger, beispielsweise aufgerauhtes und/oder anodisiertes Aluminium, aufgetragen wird. Überraschenderweise wurde gefunden,
* Tetrahydrofuran 509832/0916
daß die Reaktionsmischung, worin man das erfindungsgemäße Fotopolymere erhalten hat, auch direkt als Sensibilisierungsflüssigkeit verwendet werden kann, was natürlich viele Vorteile hat.
In diesem Fall darf jedoch bei der Herstellung des Furylacrylsäureesters kein Überschuß an Furylacrylsäure verwendet werden, und das Lösungsmittel muß sich zum Beschichten eignen. Außerdem sollte die Konzentration des Fotopolymeren ' in der Reaktionsmischung auf den benötigten Wert gebracht werden, z.B. auf etwa 0,5 bis 20 Gew.-%, und zwar beispielsweise durch Zugabe von einer größeren oder kleineren Lösungsmittelmenge, je nach der gewünschten Dicke der Beschichtung.
Die folgenden Beispiele dienen zur näheren Erläuterung der vorliegenden Erfindung:
Beispiel I
Herstellung des 3-(2-Furyl)-acrylsäureester eines Phenoxyharzes.
9,8 g Phenoxyharz (Rütapox 0717) wurden in 50 ml N-Methylpyrrolidon gelöst und dann unter Rühren auf 110°C erhitzt; Zu dieser Mischung wurden 6,5 g 3-(2-Furyl)-acryloylChlorid in 45 ml Methylethylketon (MÄK) derart gegeben, daß die Temperatur auf dem vorgenannten Wert gehalten wurde.
Die Reaktionsmischung wurde dann 2 Stunden lang unter Rühren auf 1000C gehalten. ·
Nachdem die Mischung abgekühlt und mit 100 ml MÄK und 50 ml N-Methylpyrrolidon verdünnt worden war, wurde das gebildete Fotopolymere in 2 1 Methanol gegossen. Das Fotopolymere wurde abgesaugt und mit Methanol gewaschen.
509832/0316
Nach dem Trocknen erhielt man 12,6 g eines weißen Pulvers.
Beispiel II
Herstellung einer Flachdruckplatte.
Eine Aluminiumfolie, die elektrochemisch aufgerauht und in Schwefelsäure anodisiert worden war, wurde unter Verwendung einer Sensibilisierungsflüssigkeit der folgenden Zusammensetzung mit einer lichtempfindlichen Schicht überzogen:
5 Gew.r% des gemäß Beispiel I hergestellten Furylacrylsäureesters,
95 Gew.-% Methylglykolacetat als Lösungsmittel.
Nach dem Abdampfen des Lösungsmittels hatte die aufgetragene Schicht ein Gewicht von etwa 1,2 g/m .
Die auf diese Weise sensibilisierte Platte wurde 60 Sekunden lang durch eine Negativvorlage belichtet und mit einem Wattebausch, der mit einem Entwickler der folgenden Zusammensetzung getränkt war, entwickelt:
67 g 2-Methoxyäthylacetat
13g 2-Methoxyäthanol
20 g Texofor D1 (ein oberflächenaktives Polyoxyäthylen-
kondensat von Glyzerinöl)
1 g konzentrierte Schwefelsäure.
Nachdem die Platte gespült worden war, wurde sie mit einer 2%-igen Phosphorsäurelösung gereinigt, mit einer Fettdruckfarbe eingefärbt und in eine Offsetdruckmaschine eingesetzt. Man erhielt etwa 100.000 ausgezeichnete Drucke bzw. Kopien.
Die notwendige Belichtungszeit dieser Platte entspricht der unteren Grenze der Belichtungszeit einer handelsüblichen Druckplatte, deren lichtempfindliche Schicht Polyvinylcinnamat
509832/0915.
und ein SensiDilisierungsmittel enthält. Für solche handelsüblichen Platten war eine Belichtungszeit von bO - 120 Sekunden erforderlich, um ein vergleichbares Ergebnis zu erhalten.
Beispiel III
Es wurde eine Platte wie in Beispiel II hergestellt, mit dem Unterschied, daß als Sensibilisierungsmittel für den Furylacrylsäureester 1,5 Gevr.-% ß-Naphthothiazolin (als Feststoff berechnet) zu der Sensibilisierungsflussigkeit gegeben wurden.
Die Platte wurde gemäß dem in Beispiel II beschriebenen Verfahren belichtet, entwickelt und verwendet. Es erwies sich, daß eine Belichtungszeit von 1 Sekunde ausreichend war.
50 98 3 2/09TS

Claims (3)

Patentansprüche ;
1. 3-(2-Furyl)-acrylsäureester eines Phenoxyharzes mit einem Molekulargewicht von wenigstens etwa 15.000.
2. Lichtempfindliche Zusammensetzung, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Fotopolymeres gemäß Anspruch 1 und ein leichtflüchtiges Lösungsmittel, vorzugsweise Dioxan oder N-Methylpyrrolidon, enthält.
3. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Platte, dadurch gekennzeichnet, daß auf einen geeigneten Träger eine lichtempfindliche Schicht, die eine Zusammensetzung gemäß Anspruch 2 umfaßt, aufgebracht wird.
5 0983 2/09 VS.
DE19752503526 1974-02-01 1975-01-29 Fotopolymere Pending DE2503526A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7401407A NL7401407A (nl) 1974-02-01 1974-02-01 Fotopolymeer.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2503526A1 true DE2503526A1 (de) 1975-08-07

Family

ID=19820669

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19752503526 Pending DE2503526A1 (de) 1974-02-01 1975-01-29 Fotopolymere

Country Status (3)

Country Link
DE (1) DE2503526A1 (de)
FR (1) FR2259863A1 (de)
NL (1) NL7401407A (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0204292B1 (de) * 1985-06-05 1991-05-29 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zum Herstellen von gedruckten Schaltungen unter Verwendung eines durch Strahlung vernetzenden Fotopolymersystems
EP0281808B1 (de) * 1987-03-12 1994-07-20 Siemens Aktiengesellschaft Strahlungsvernetzbares Polymersystem zur Anwendung als Photoresist und Dielektrikum für Mikroverdrahtungen

Also Published As

Publication number Publication date
FR2259863A1 (en) 1975-08-29
NL7401407A (nl) 1975-08-05
FR2259863B3 (de) 1977-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2064079C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
EP0031592B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
DE954127C (de) Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen Druckplatten
DE3120052A1 (de) Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
DE3048502A1 (de) Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3404366A1 (de) Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE1622301B1 (de) Mit Alkali entwickelbare Kopierschicht
DE3013254C2 (de) Verfahren zur Erzeugung eines Reliefs durch selektive Polymerisation
DE3600442A1 (de) Photopolymerisierbare masse
DE2314295A1 (de) Verfahren zur behandlung einer aluminiumoberflaeche einer platte und zur herstellung einer druckplatte aus der behandelten platte
DE1771568A1 (de) Verfahren zur Herstellung von verbesserten AEtzreliefs
DE3447355A1 (de) Vernetzbares harz, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial auf basis dieses vernetzbaren harzes sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungsmaterials
DE2044233C3 (de) Photopolymerisierbare Verbindungen
DE1597614B2 (de) Lichtempfindliche kopiermasse
EP0211391A2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE1570748A1 (de) Photopolymer
DE2507008A1 (de) Polymerisierbare ester
DE2230936C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2723613C2 (de)
DE3232620A1 (de) 10-phenyl1-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch
EP0021429A2 (de) Photopolymerisierbares Kopiermaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern
DE2806928C3 (de) Strahlungsempfindliches Material und seine Verwendung als Resistmaterial
DE1597784C3 (de) Sensibilisierte Druckplatte
DE2306353A1 (de) Lichtempfindliches material
DE2503526A1 (de) Fotopolymere