DE2503526A1 - Fotopolymere - Google Patents
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- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
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Description
PATENTANWÄLTE
Dipping. P. WIRTH ■ Dr. V. SCHMIED-KOWABZIK 2503526
Dipl.-lng. G. DANNENBERG ■ Dr. P. WEINHOLD · Dr. D. GUDEL
281134 6 FRANKFURT/M.
Ref.; 717
wd/sch
wd/sch
Oce-van der Grinten N. V. St.Urbanusweg 102
V e η 1 o/Holland
"Fotopolymeren
509832/0ii.S
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein neues Fotopolymeres
, das sich zur Verwendung in der Lithographie und in fotomechanischen Verfahren eignet, sowie auf das
neue Fotopolymere enthaltende lichtempfindliche Zusammensetzungen. Die Erfindung bezieht sich auch auf eine lichtempfindliche
Platte, die mit einer das neue Fotopolymere enthaltenden Schicht versehen ist, sowie auf eine bildtragende.
Platte, die durch bildweise Belichtung und Entwicklung einer solchen lichtempfindlichen Platte erhalten worden ist.
Es ist bereits bekannt, Polymere mit Gruppen zu versehen, welche unter der Einwirkung von Licht dimerisiert oder polymerisiert
werden können, um kurze Ketten zu ergeben, so daß das Polymere durch Licht vernetzt werden kann. Solche
fotovernetzbare Polymere werden bei lichtempfindlichen Kopierschichten angewendet, um Druckformen und insbesondere
alle Arten von Ätz-"Resists" zu erhalten.
In diesem Zusammenhang sind die Ester von Polyalkoholen mit
Zimtsäure, die beispielsweise von ganz oder teilweise verseiften Polyvinylestern und von Zellulose erhalten worden
sind, von besonderer Bedeutung.
Da die Ester oder Amide von Zimtsäure gegenüber den Lichtquellen, die gewöhnlich bei fotografischen Reproduktionsverfahren
verwendet werden, nur eine sehr niedrige Lichtempfindlichkeit besitzen, wurden bereits wiederholt Versuche
unternommen, die Lichtempfindlichkeit dieser Verbindungen zu den längeren Wellenlängen hin durch Sensibilisierung zu
erweitern oder diese Zimtsäurederivate durch Produkte zu ersetzen, die gegenüber den üblichen Lichtquellen empfindlicher
sind.
Durch Zugabe eines Sensibilisierungsmittels wird die Lichtempfindlichkeit
der Kopierschichten zwar tatsächlich zu den längeren Wellenlängen hin erweitert, die vollständige Vernetzung
der Flächen in den tieferen Schichten wird jedoch
509832/091&
durch die Sensibilisierungsmittel behindert, da diese im allgemeinen bei der Belichtung nur in einem geringen Maß oder
überhaupt nicht ausgebleicht werden und folglich als eine Art Filter wirken. ■
Außerdem können die Sensibilisierungsmittel die Ätzbeständigkeit der Kopierschicht erheblich vermindern.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist daher die Schaffung eines Fotopolymeren , das eine derartige Lichtempfindlichkeit besitzt, daß es unter Verwendung der herkömmlichen
Lichtquellen im graphischen Gewerbe,insbesondere für lithographische Druckplatten und Ätz-Resists, verwendet werden
kann, ohne daß dabei die Zugabe von Sensibilisierungsmitteln notwendig ist.
Das neue erfindungsgemäße Fotopolymere besteht aus dem 3-(2-Furyl)-acrylsäureester eines Phenoxyharzes mit einem
Molekulargewicht von wenigstens etwa 15.000.
Das erfindungsgemäße Fotopolymere , das eine neue Verbindung darstellt, kann erhalten werden, indem man ein Phenoxyharz
mit einem Molekulargewicht von wenigstens etwa 15.000 in Anwesenheit eines geeigneten Lösungsmittels mit 3-(2-Furyl)-acrylsäure
(im folgenden als Furylacrylsäure bezeichnet) oder mit einem zum Verestern geeigneten Derivat von dieser verestert.
■ ■ : . ' :
Der Begriff "Phenoxyharz" bezieht sich in der vorliegenden
Beschreibung auf Polyhydroxyäther mit einem hohen Molekulargewicht der folgenden Formel: -
0- CH0 - CE -CH-2
! I R R1
η > 50
5098 32/0915
worin R und R1 Wasserstoffatome bzw. Hydroxylgruppen bedeuten.
Verbindungen der oben genannten Strukturformel werden im allgemeinen hergestellt, indem Bis-phenol A(=2,2-Bis-(phydroxyphenyl)propan)
und Epichlorhydrin miteinander umgesetzt
werden.
Die erfindungsgemäß verwendbaren Phenoxyharze unterscheiden sich von den Epoxyharzen, welche von den gleichen Ausgangsmaterialien
hergestellt werden können, dadurch, daß die Phenoxyharze keine Epoxydringe enthalten.
Die Phenoxyharze haben daher keine endständigen Epoxydgruppen, wie Epoxyharze, sondern endständige Phenolgruppen. Außerdem
ist ihr Molekulargewicht in der Regel wesentlich höher als dasjenige der Epoxyharze, welche meist ein Molekulargewicht
von etwa 800 - 8000 haben. In der Regel haben Phenoxyharze ein Molekulargewicht von wenigstens etwa 15.000, im allgemeinen
von etwa 20.000 - 30.000. Phenoxyharze mit einem noch höheren Molekulargewicht können zur Herstellung von Filmen mit einer
besonders hohen Abnutzungsbeständigkeit verwendet werden.
Da die Polymerenketten von Phenoxyharzen lang genug sind,
ist es nicht notwendig, diese Harze chemisch zu härten.
Erfindungsgemäß wurden die folgenden Harze erfolgreich verwendet:
Rütapox 0717 (Molekulargewicht 25.000) und Rütapox 0723 (Molekulargewicht 15.000 - 20.000), beides Produkte der
Rütgerwerke AG.; Epikoot OL53 (Molekulargewicht 80.000) und
Epikoot OL55 (Molekulargewicht 200.000), Produkte von Shell;
und Bakelite "EKDA-Harze" mit einem Molekulargewicht von
etwa 20.000 bis 30.000 der Firma Bakelite.
Um das Phenoxyharz mit der Furylacrylsäure"zu verestern, kann
die Furylacrylsäure in jeder für die Veresterung geeigneten Form verwendet werden, beispielsweise in Form der Methoxy-
oder Nitrofurylacrylsäure, des Säureamids der Furylacrylsäure, z.B. Furylacrylamid, Ν,Ν-Dimethylfurylacrylamid und N-Hydroxy-
509832/0915
äthyl-furylacrylamid. Vorzugsweise wird jedoch ein sauerstoffhaltiges
Halogenid, wie z.B. das Furylacryloylchlorid, verwendet.
Das bei der erfindungsgemäßen Veresterungsreaktion verwendete Lösungsmittel sollte nicht mit den Hydroxylgruppen des
Phenoxyharzes oder mit dem Furylacrylsäurederivat reagieren.
Lösungsmittel, die diesen Anforderungen entsprechen, sind z.B. Dioxan, N-Methy!pyrrolidon, Butylcarbitolacetat, Dimethylformamid,
Dimethylsulfoxyd und Methyläthylketon.
Vorzugsweise werden Dioxan und N-Methylpyrrolidon verwendet.
Zur Herstellung des neuen, erfindungsgemäßen Fotopolymeren
wird das Phenoxyharz in dem Lösungsmittel gelöst, und dann wird ein Überschuß der Furylacrylsaureverbindung, z.B. Furylacryloyl
chlorid, zugegeben.
Danach wird die Reaktionsmischung unter Rühren und bei atmosphärischem
Druck auf eine Temperatur von beispielsweise 80 bis 1000C (falls Dioxan als Lösungsmittel verwendet wird)
oder von 80 bis 1120C (bei N-Methylpyrrolidon) erhitzt. Falls
Furylacryloylchlorid für die Veresterung verwendet wird, ist es ratsam, einen Luftstrom über die Lösung zu leiten,
um das gebildete Chlorwasserstoffgas zu entfernen. Im Fall
von N-Methylpyrrolidon ist dies nicht notwendig.
Wenn die Reaktion abgeschlossen ist, was in den meisten Fällen
nach etwa 1 bis 3 Stunden der Fall ist, wird das gewünschte Fotopolymere mit Hilfe einer Flüssigkeit, die mit dem
Lösungsmittel mischbar ist, worin das gebildete Harz jedoch
nicht gelöst wird, von der Reaktionsmischung abgetrennt. Eine geeignete Flüssigkeit ist beispielsweise Methanol, obwohl
auch Äthanol, Propanol, Butanol und dergleichen verwendet werden können. Falls das verwendete Lösungsmittel mit Wasser
mischbar ist, kann das Harz auch mit Hilfe von Wasser abgetrennt werden.
509832/0915
Nach dem Reinigen und Waschen erhält man den Phenoxyharzester
im allgemeinen in Form eines feinen Pulvers.
Das erfindungsgemäße Fotopolymere kann in jeder Art, die bei lithographischen und fotomechanischen Verfahren an sich
bekannt ist, verwendet werden. Es kann beispielsweise für die Herstellung von negativ-arbeitenden Aluminiumdruckplatten
und ebenso als Fotoresist verwendet werden. Außerdem kann es auch zur Herstellung von gedruckten Schaltungen und von
Namensschildern und dergleichen verwendet werden. Bei diesen Anwendung s art en erhält man mit dem erfindungsgemäßen neuen
Polymeren hervorragende Ergebnisse infolge .der hohen chemischen Beständigkeit, welche es ermöglicht, das Polymere
auch direkt auf einem Metallträger zu verwenden und infolge seiner besonderen Haftfähigkeit auf elektrochemisch aufgerauhtem
und/oder anodisiertem Aluminium.
Obwohl es infolge der hohen Lichtempfindlichkeit des erfindungsgemäßen
Polymeren nicht notwendig ist, Sensibilisierungsmittel zuzugeben, können gegebenenfalls dennoch ein oder
mehrere Sensibilisierungsmittel zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung gegeben werden, was zu einer weiteren beträchtlichen
Verbesserung der Lichtempfindlichkeit führt. In einigen Fällen kann dadurch die Belichtungszeit auf ein Drittel der
Zeit, die ohne Sensibilisierungsmittel notv/endig wäre, reduziert werden, wodurch der Anwendungsbereich des erfindungsgemäßen
Fotopolymeren erheblich ausgedehnt wird.
Das neue, erfindungsgemäße Fotopolymere kann in jeder
an sich bekannten Weise und in den üblichen Mengen auf den gewünschten Träger aufgebracht werden.
Zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte kann es z.B. mit einem leichtflüchtigen, organischen Lösungsmittel,
z.B. Dioxan, THF*oder N-Methylpyrrolidon, oder mit einer Mischung
dieser Lösungsmittel gemischt werden, wonach es dann auf den Träger, beispielsweise aufgerauhtes und/oder anodisiertes
Aluminium, aufgetragen wird. Überraschenderweise wurde gefunden,
* Tetrahydrofuran 509832/0916
daß die Reaktionsmischung, worin man das erfindungsgemäße
Fotopolymere erhalten hat, auch direkt als Sensibilisierungsflüssigkeit
verwendet werden kann, was natürlich viele Vorteile hat.
In diesem Fall darf jedoch bei der Herstellung des Furylacrylsäureesters
kein Überschuß an Furylacrylsäure verwendet werden, und das Lösungsmittel muß sich zum Beschichten
eignen. Außerdem sollte die Konzentration des Fotopolymeren '
in der Reaktionsmischung auf den benötigten Wert gebracht werden, z.B. auf etwa 0,5 bis 20 Gew.-%, und zwar beispielsweise durch Zugabe von einer größeren oder kleineren Lösungsmittelmenge, je nach der gewünschten Dicke der Beschichtung.
Die folgenden Beispiele dienen zur näheren Erläuterung der vorliegenden Erfindung:
Herstellung des 3-(2-Furyl)-acrylsäureester eines Phenoxyharzes.
9,8 g Phenoxyharz (Rütapox 0717) wurden in 50 ml N-Methylpyrrolidon
gelöst und dann unter Rühren auf 110°C erhitzt; Zu dieser Mischung wurden 6,5 g 3-(2-Furyl)-acryloylChlorid
in 45 ml Methylethylketon (MÄK) derart gegeben, daß die Temperatur auf dem vorgenannten Wert gehalten wurde.
Die Reaktionsmischung wurde dann 2 Stunden lang unter Rühren auf 1000C gehalten. ·
Nachdem die Mischung abgekühlt und mit 100 ml MÄK und 50 ml
N-Methylpyrrolidon verdünnt worden war, wurde das gebildete
Fotopolymere in 2 1 Methanol gegossen. Das Fotopolymere wurde abgesaugt und mit Methanol gewaschen.
509832/0316
Nach dem Trocknen erhielt man 12,6 g eines weißen Pulvers.
Herstellung einer Flachdruckplatte.
Eine Aluminiumfolie, die elektrochemisch aufgerauht und in Schwefelsäure anodisiert worden war, wurde unter Verwendung
einer Sensibilisierungsflüssigkeit der folgenden Zusammensetzung mit einer lichtempfindlichen Schicht überzogen:
5 Gew.r% des gemäß Beispiel I hergestellten Furylacrylsäureesters,
95 Gew.-% Methylglykolacetat als Lösungsmittel.
Nach dem Abdampfen des Lösungsmittels hatte die aufgetragene Schicht ein Gewicht von etwa 1,2 g/m .
Die auf diese Weise sensibilisierte Platte wurde 60 Sekunden lang durch eine Negativvorlage belichtet und mit einem
Wattebausch, der mit einem Entwickler der folgenden Zusammensetzung getränkt war, entwickelt:
67 g 2-Methoxyäthylacetat
13g 2-Methoxyäthanol
20 g Texofor D1 (ein oberflächenaktives Polyoxyäthylen-
kondensat von Glyzerinöl)
1 g konzentrierte Schwefelsäure.
1 g konzentrierte Schwefelsäure.
Nachdem die Platte gespült worden war, wurde sie mit einer 2%-igen
Phosphorsäurelösung gereinigt, mit einer Fettdruckfarbe
eingefärbt und in eine Offsetdruckmaschine eingesetzt. Man erhielt etwa 100.000 ausgezeichnete Drucke bzw.
Kopien.
Die notwendige Belichtungszeit dieser Platte entspricht der
unteren Grenze der Belichtungszeit einer handelsüblichen Druckplatte, deren lichtempfindliche Schicht Polyvinylcinnamat
509832/0915.
und ein SensiDilisierungsmittel enthält. Für solche handelsüblichen Platten war eine Belichtungszeit von bO - 120 Sekunden
erforderlich, um ein vergleichbares Ergebnis zu erhalten.
Es wurde eine Platte wie in Beispiel II hergestellt, mit dem
Unterschied, daß als Sensibilisierungsmittel für den Furylacrylsäureester
1,5 Gevr.-% ß-Naphthothiazolin (als Feststoff
berechnet) zu der Sensibilisierungsflussigkeit gegeben wurden.
Die Platte wurde gemäß dem in Beispiel II beschriebenen Verfahren belichtet, entwickelt und verwendet. Es erwies sich,
daß eine Belichtungszeit von 1 Sekunde ausreichend war.
50 98 3 2/09TS
Claims (3)
1. 3-(2-Furyl)-acrylsäureester eines Phenoxyharzes mit einem
Molekulargewicht von wenigstens etwa 15.000.
2. Lichtempfindliche Zusammensetzung, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Fotopolymeres gemäß Anspruch 1 und ein
leichtflüchtiges Lösungsmittel, vorzugsweise Dioxan oder N-Methylpyrrolidon, enthält.
3. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Platte, dadurch gekennzeichnet, daß auf einen geeigneten Träger
eine lichtempfindliche Schicht, die eine Zusammensetzung gemäß Anspruch 2 umfaßt, aufgebracht wird.
5 0983 2/09 VS.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL7401407A NL7401407A (nl) | 1974-02-01 | 1974-02-01 | Fotopolymeer. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2503526A1 true DE2503526A1 (de) | 1975-08-07 |
Family
ID=19820669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752503526 Pending DE2503526A1 (de) | 1974-02-01 | 1975-01-29 | Fotopolymere |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2503526A1 (de) |
FR (1) | FR2259863A1 (de) |
NL (1) | NL7401407A (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0204292B1 (de) * | 1985-06-05 | 1991-05-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum Herstellen von gedruckten Schaltungen unter Verwendung eines durch Strahlung vernetzenden Fotopolymersystems |
EP0281808B1 (de) * | 1987-03-12 | 1994-07-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Strahlungsvernetzbares Polymersystem zur Anwendung als Photoresist und Dielektrikum für Mikroverdrahtungen |
-
1974
- 1974-02-01 NL NL7401407A patent/NL7401407A/xx unknown
-
1975
- 1975-01-29 DE DE19752503526 patent/DE2503526A1/de active Pending
- 1975-01-30 FR FR7502907A patent/FR2259863A1/fr active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2259863A1 (en) | 1975-08-29 |
NL7401407A (nl) | 1975-08-05 |
FR2259863B3 (de) | 1977-10-21 |
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