DE2456515C2 - Elektrode für die elektrochemische Bearbeitung elektrisch leitender Werkstücke - Google Patents
Elektrode für die elektrochemische Bearbeitung elektrisch leitender WerkstückeInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 9
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 33
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
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Description
25
Die Erfindung bezieht sich auf eine Elektrode für die elektrochemische Bearbeitung, insbesondere die Zerspanung,
elektrisch leitender Werkstücke mit einer einen Teil der Elektrodenoberflächo bedeckenden halbleitenden
Schicht.
Die Genauigkeit des elektrochemischen Bearbeitungsverfahrens, die an sich nicht sehr groß ist, wird
dadurch erheblich verbessert, daß eine Isolierung an denjenigen Stellen der Eleknode angebracht wird, an
denen kein Stromdurchgang erwüns^.it ist. Wenn eine große Genauigkeit der Bearbeitung erwünscht ist, ist es
von Bedeutung, daß die Isolierschicht möglichst dünn, z. B. mit einer Dicke von 0,01 mm oder weniger, gewählt
wird.
Verschiedene Isoliermaterialien wurden bereits vorgeschlagen. Schichten aus Epoxidharzen mit verschiedenartigen
Härtungsmitteln weisen den Nachteil auf, daß sie gegen Wasserabsorption empfindlich sind. Während
der Ablagerung absorbieren sie Wasser aus der Umgebung, das zwar bei Erhitzung wieder verschwindet,
dabei aber Porosität und die Bildung von Hohlräumen herbeiführt. Silikonharze sind in dieser Hinsicht
etwas günstiger, aber doch nicht ausreichend. Polyurethanschichten weisen den Nachteil auf, daß sie Wasserstoff
absorbieren, wodurch sie sich zersetzen. Auch Polyesterimidschichten weisen diesen Nachteil auf,
wenn auch in erheblich geringerem Maße. All diese organischen Überzüge können außerdem nur angebracht
werden, wenn die Form der Elektrode nicht zu verwikkelt ist. Schließlich sind diese Schichten bei den für genaue
Bearbeitungen erforderlichen Schichtdicken nicht genügend isolierend und neigen dazu, sich infolge der
dann auftretenden Wasserstoffentwicklung abzulösen.
Isolierschichten aus einem anorganischen Material können mit erheblich geringeren Schichtdicken, und
zwar im allgemeinen mit Dicken zwischen 0,1 Und 5 μηΐ,
verwendet werden. Es hat sich jedoch herausgestellt, daß diese Schichten einen derart großen Leckstrom besitzen,
daß ihre Lebensdauer stark herabgesetzt wird. Bei den Untersuchungen, die zur Erfindung geführt haben,
wurden folgende Möglichkeiten geprüft: Auf verschiedene Weise anodisch aufgebrachte Aluminiumoxid-
und Tantaloxidschichten, Emailschichten und SiIiciumoxidschichten,
die durch Oxidation gasförmiger Silane an der erhitzten Elektrodenoberfläche erhalten
wurden.
Es ist auch bekannt, bei einer Elektrode für die elektrochemische
Bearbeitung zur Verbesserung der Bearbeitungsgenauigkeit an der Seitenfläche statt einer dielektrischen
Isolierschicht eine Halbleiterschicht vorzusehen, die hinsichtlich der Verbesserung der Genauigkeit
dieselbe Wirkung wie eine dielektrische Schiebt haben kann (US-PS 34 76 674). Neben dieser an den Seitenflächen
angebrachten Schicht ist bei der bekannten Elektrode auch stimseitig eine halbleitende Schicht vorgesehen,
die als Spannungsregulierende Diode wirkt, wozu die Zenerspannung überschritten werden muß.
AJs halbleitendes Material ist Cadmiumsulfid (CdS) und allgemein ein Halbleiter, dessen Widerstand mit steigender
Spannung abnimmt, vorgesehen.
Als ein Material mit dieser Eigenschaf· ist auch Siliciumkarbid
bekannt (Valvo-Datenblätter »Spannungsabhängige
Widerstände«, Januar 1964, Seite 437).
Die Erfindung hat die Aufgabe, eine stellenweise bzw.
teilweise isolierte Elektrode mit einer im Vergleich zu Elektroden mit der oben beschriebenen Isolierung erheblich
längeren Lebensdauer und mit einem Leckstrom, der auch bei geringer Schichtdicke vernachlässigbar
klein ist, zu schaffen.
Diese Aufgabe wirci nach der Erfindung dadurch gelöst,
daß bei einer Elektrode der eingangs genannten Art die halbleitende Schicht aus mindestens zwei aufeinanderliegenden
Teilschichten besteht, die aus Halbleitermaterialien verschiedener Art und/oder verschiedenen
Leitfähigkeitstyps bestehen.
Die Erfindung hat außerdem den Vorteil, daß Elektroden mit verwickelten Oberflächen leicht überzogen
werden können.
Bei einer günstigen Ausführungsform der Erfindung besteht die halbleitende Schicht aus zwei Teilschichten,
von denen eine aus einem Halbleitermaterial vom p-Leitfähigkeitstyp in Kontakt mit der Etektrodenoberfläche
und die andere aus einem Halbleitermaterial vom n-Leitfähigkeitstyp in Kontakt mit der Oberfläche des
p-leitenden Halbleitermaterials besteht
Sehr günstige Ergebnisse werden mit Siliciumcarbid erzielt.
Beispiele von Ausführungsformen von Elektroden nach der Erfindung werden anhand einer Zeichnung und
ihrer Herstellung beschrieben.
Die Zeichnung zeigt eine Elektrode zur Bildung von Löchern. Darin bezeichnet 1 das Werkstück, 2 die Elektrode,
3 einen Kanal zum Zuführen von Elektrolyten und 4 die Isolierung der Elektrode.
Ein aus Wolfram bestehender Stab mit einer Länge von 15 cm und einem Durchmesser von 0,5 mm wird bei
einer Temperatur von 1175° C einem Gasstrom von
5,6 l/min ausgesetzt, der aus Wasserstoff mit 5,2 Vol.-% Methyltrichlorsilan (CH3SiCI3) besteht Durch Pyrolyse
bildet sich SiC auf der Elektrodenoberfläche. Wenn dem Gasstrom ein Wasserstöffström mit 1 Völ.-% B2H6 mit
einer Geschwindigkeit von 40 cmVmin zugesetzt wird, wird p-leitendes SiC erhalten. Eine η-leitende Schicht
wird dadurch erhalten, daß dem Gasstrom statt des mit B2H6 gemischten Wasserstoffs Stickstoff mit einer Geschwindigkeit
von 30cm3/min zugesetzt wird. Ein pn-Übergang
wird dadurch erhalten, daß nacheinander mit
B2H6 und Nj dotiert wird.
Eine Elektrode mit einer Länge von 1 cm, die aus dem auf diese Weise erhaltenen Stab besteht und eine
Schicht mit einer Dicke von 15 μίτΐ aufweist, die zu einer
Hälfte aus p- und zur anderen Hälfte aus n-leitendem SiC besteht, wird in der in der Zeichnung dargestellten
Ausführungsform verwendet, wobei die Schicht an der Endfläche und an der Stelle der Einklemmung auf mechanischem
Wege entfernt ist um Stromdurchgang bzw. elektrischen Kontakt zu ermöglichen. Als Elektrolyt
beim elektrolytischen Zerspannungsvorgang wird eine wässerige NaClO3-Lösung mit einer Leitfähigkeit
von 0,15 Ω-' cm-' verwendet, die mit einer Geschwindigkeit
von 20 m/sec umgepumpt wird. An der Stelle der unüberzogenen Elektrodenoberfläche beträgt die
Stromdichte 250 A/cm2 und an der Stelle der Doppelschicht 0,2 A/cm2.
Bei der Bildung von Löchern mit einem Durchmesser von 0,6 mm in Chrom-Nickel-Stahl war nach einer Bearbeitungslänge
von 600 mm keine wahrnehmbare Abnutzung aufgetreten. Bei einer gleichen Schichtdicke eines
Epoxidharzes war nach einer Bearbeitungsiär.ge
von 2 mm die Schicht bereits völlig verschwuren.
Eine Elektrode mit einer einzigen p-leitenden SiC-Schicht
mit einer Dicke von 20 μπι weist bei einer Betriebsspannung
von 5 V ein Verhältnis der Stromdichten an der Stelle des unüberzogenen Wolframs und an der
Stelle der p-leitenden SiC-Schicht von mehr als 5 auf.
B e i s ρ i e I 2
Ein aus Molybdän bestehender Stab mit einer Länge von 10 cm und einem Durchmesser von 03 mm wird bei
einer Temperatur von HOO0C einem Gasstrom von 12 1/
min, bestehend aus Wasserstoff mit 0,15Vol.-°/o S1H4
ausgesetzt. Durch Pyrolyse bildet sich auf der Elektrodenoberfläche eine Siliciumschicht. Indem dem Gasstrom
ein Wasserstoffstrom mit 10-7Vol.-% B2H6 mit
einer Geschwindigkeit von 15cm3/min zugesetzt wird,
wird p-leitendes Silicium erhalten.
Eine n-lei^ende Schicht wird dadurch erhalten, daß
dem S1H4 enthaltenden Gasstrom statt des mit B2H6
gemischten Wasserstoffs ein Wasserstoffstrom mit 10-; Vol.-% PH3 (Phosphin) mit einer Geschwindigkeit
von 15 cnWmin zugesetzt wird.
Der pn-übergang wird dadurch erhalten, daß nacheinander mit B2Hb und PH3 dotiert wird.
Eine Elektrode mit einer Länge von 1 cm, die aus dem auf diese Weise erhaltenen Stab besteht und eine
Schicht mit einer Dicke von 30 μπι aufweist, die zu einer
Hälfte aus p- und zur anderen Hälfte aus n-leitendem Silicium besteht, weist eine Lebensdauer auf, die die
einer mit einem Epoxidhaiz überzogenen Elektrode erheblich
übersteigt.
55
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
60
Claims (3)
1. Elektrode für die elektrochemische Bearbeitung elektrisch leitender Werkstücke mit einer einen Teil
der Elektrodenoberfläche bedeckenden halbleitenden Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß
die halbleitende Schicht aus mindestens zwei aufeinanderliegenden Teilschichten besteht, die aus Halbleitermaterialien
verschiedener Art und/oder verschiedenen Leitfähigkeitstyps bestehen^
2. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die halbleitende Schicht aus zwei Teilschichten
besteht, von denen eine aus einem Halbleitermaterial
vom p-Leitfähigkeitstyp in Kontakt mit der Elektrodenoberfläche und die andere aus
einem Halbleitermaterial vom n-Leitfähigkeitstyp in Kontakt mit der Oberfläche des p-Typ-Halbleitermaterials
besteht.
3. Elektrode nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das Halbleitermaterial aus Siliciumcarbid besieht
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL7316992A NL7316992A (nl) | 1973-12-12 | 1973-12-12 | Elektrode voor elektrochemisch bewerken. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2456515A1 DE2456515A1 (de) | 1975-06-19 |
DE2456515C2 true DE2456515C2 (de) | 1984-06-07 |
Family
ID=19820178
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2456515A Expired DE2456515C2 (de) | 1973-12-12 | 1974-11-29 | Elektrode für die elektrochemische Bearbeitung elektrisch leitender Werkstücke |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3972797A (de) |
JP (1) | JPS5092275A (de) |
DE (1) | DE2456515C2 (de) |
FR (1) | FR2254397B1 (de) |
GB (1) | GB1454146A (de) |
NL (1) | NL7316992A (de) |
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DE102008018742B4 (de) | 2008-04-14 | 2022-02-24 | Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e.V. | Werkzeugelektrode zur elektrochemischen Bearbeitung und ein Verfahren für die elektrochemische Bearbeitung |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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FR2254397B1 (de) | 1978-04-14 |
JPS5092275A (de) | 1975-07-23 |
DE2456515A1 (de) | 1975-06-19 |
FR2254397A1 (de) | 1975-07-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: PIEGLER, H., DIPL.-CHEM., 2000 HAMBURG |
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D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |