DE2454879A1 - Verfahren zur entwicklung eines positivfotolacks, insbesondere vom o-naphtochinondiazidtyp - Google Patents

Verfahren zur entwicklung eines positivfotolacks, insbesondere vom o-naphtochinondiazidtyp

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DE2454879A1
DE2454879A1 DE19742454879 DE2454879A DE2454879A1 DE 2454879 A1 DE2454879 A1 DE 2454879A1 DE 19742454879 DE19742454879 DE 19742454879 DE 2454879 A DE2454879 A DE 2454879A DE 2454879 A1 DE2454879 A1 DE 2454879A1
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benzotriazole
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Ulrich Buettner
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TED Bildplatten AG AEG Telefunken Teldec
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

  • "Verfahren zur Entwicklung eines Positivfotolacks, insbesondere vom o-Naphtochinondiazidtyp" Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entwicklung eines insbesondere Positivfotolacksgvom o-Naphtochinondiazidtyp.
  • Zur Aufzeichnung von Informationen großer Bandbreite im NHz-Bereich mit hoher Speicherdichte, beispielsweise von Fernsehbildern auf plattenförmigen Aufzeichnungsträgern, kommt neben der konventionellen, von der Schaliplattenfertigung her bekannten "Schneidetechnik" noch die Technik der Aufzeichnung und Speicherung mittels Laserstrahlen in Fotolackschichten in Frage.
  • Das letztere Verfahren läßt sich besonders dann anwenden, wenn man mit dem nach Frequenzverdopplung des grünen Strahls der Wellenlänge 514,5 rm eines Argonionenlasers erhaltenen ultravioletten Strahl der Wellenlänge 257,25 nm Positivfotolackschichten belichtet, die sich dadurch auszeichnen, daß sie durch den Belichtungsvorgang chemisch verändert werden und als Folge dieser Veränderung in einer Entwicklerlösung aufgelöst und abgespült werden können. Mit dem Aufzeichnen von Fernsehbildinformationen durch Laserstrahlbelichtung von Fotolackschichten ist eine erhebliche Zeitersparnis gegenüber der Schneidetechnik verbunden. Jedoch ist eine Aufzeichnung in Echtzeit noch nicht möglich, da die durch den Frequenzverdopplungsprozeß erhaltene ultraviolette Strahlung nicht so intensiv ist, daß sie ausreichen würde, um eine Positivfotolackschicht in der für Echtzeitanforderungen benötigten Zeit zu belichten.
  • Diese Schwierigkeit ließe sich theoretisch durch den Einsatz von Argonionenlasern höherer Leistung beheben. Diese stehen äedoch noch nicht zur Verfügung, überdies dürften dann die eingesetzten Frequenzverdopplerkristalle nicht mehr einwandfrei arbeiten bzw. irreversibel geschädigt werden.
  • Der Erfindung liegt de Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Entwicklung eines Positivfotolacks, insbesondere eines Positivfotolacks vom o-Naphtochinondiazidtyp anzugeben, durch das auch von wenig intensiver Strahlung getroffene Bereiche des Photolacks vollständig entwickelt und abgelöst werden können.
  • Ein Verfahren zur Entwicklung eines Positivfotolacks, insbesondere eines Positivfotolacks vom o-Naphtochinondiazidtyp, ist erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet, daß der Entwicklerflüssigkeit 1H - 1,2,3-Benzotriazol in einer Konzentration von 0,1 bis 1,0 Gewichtsprozent, vorzugsweise 0,3#Gewichtsprozent zugesetzt wird.
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn einer Entwicklerflüssigkeit, die in wässriger Lösung 5 Gewichtsprozent Trinatriumphosphat, 10 Gewichtsprozent Äthylenglycolmonomethyläther enthält, 0,2 Gewichtsprozent 1H - 1,2,3-Benzotriazol zugesetzt wird.
  • Die Erfindung wird nachfolgend anhand einiger Ausführungsbeispiele eingehend erläutert.
  • Handelsübliche Positivfotolacke, beispielsweise ein Fotolack mit der Bezeichnung AZ-1350 der Fa. Shipley GmbH, Stuttgart/ besteherdaus einer lichtempfindlichen Komponente und einem filmbildenden Füllstoff, die beide in einem Lösungsmittelsysem gelöst sind. Der filmbildende Füllstoff ist im allgemeinen eine niedrig polymerisierte Verbindung mit sauren Gruppen vom Noyolak-Typ und hat die Aufgabe, nach der Aufbringung des Fotolacks auf eine beliebige Oberfläche, diese mit einem gleichmäßigen, poren- und #1öcher#freien und nichtklebenden verzug der gewünschten Dicke zu überziehen. Die lichtempfindliche Komponente ist beispielsweise ein o-Naphtochinondiazid, das sich gleichmäßig verteilt in der Fotolacklösung und später auch in der aufgebrachten Fotolackschicht befindet. Bei einer Belichtung der Fotolackschicht tritt eine fotochemische Reaktion mit der lichtempfindlichen Komponente ein, nach deren Ende sich eine Indencarbonsäure gebildet hat. Es ist eine bekannte Tatsache, daß Säuren mit Alkalien Salze bilden, die in der Regel wasserlöslich sind. Dies macht man sich beim Entwickeln zu Nutze. Eine zur Entwicklung eines Positivfotolacks geeignete Entwicklungsflüssigkeit ist beispielsweise eine wässrige Alkalilösung, die so eingestellt ist, daß sie den sauren Füllstoff zusammen mit der sich beim Belichten gebildeten Säure unter Salzbildung auflöst, eine Reaktion, die mit dem sauren Füllstoff allein und dem unbelichteten Naphtochinondiazid nicht eintritt. Beim Entwickeln von belichteten Positivfotolackschichten werden also die belichteten Partien aufgelöst und fortgespült, während die unbelichteten Partien erhalten bleiben. Erhalten bleiben aber auch die Partien, die für die ablaufende fotochemische Reaktion zu wenig zur Belichtung geeignete Strahlung erhalten haben. Diese Partien lassen sich jedoch erfindungsgemäß ebenfalls abentwickeln, wenn man der Entwicklerlösung eine kleine Menge einer Substanz mit dem Namen 111-1,2,3-Benzofriazol zufügt Es gelingt auf diese Weise, noch Positivfotolackschichten zu entwickeln, die nur mit dem fünften Teil der üblicherweise gebrauchten Strahlungsmenge belichtet wurden.
  • Wendet man das erfindungsgemäße Verfahren an, läßt sich eine lattenförmi en Echtzeitaufzeichnung von Fernsehbildern auf Aufzeichnungsürägern mit den zur Verfügung stehenden Lasersystemen durchführen, da die UV-Strahlungamenge beim Echtzeitbetrieb ausreicht, um ein der aufgezeichneten Information entsprechendes Muster zu entwickeln. Selbstverständlich ist die Erfindung nicht auf die Anwendung zur Aufzeichnung von Videosighalen beschränkt. Bei den vielfältigen Anwendungsmöglichkeiten interessiert weiterhin besonders die der Belichtungszeitreduzierung bei Positivfotolackschichten auf den verschiedenartigen Ob erflächen bei der Fertigung von Halbleiterbauteilen, Schaltkreisen etc. in großen Stückzahlen. Hier stehen zwar genügend starke Strahlungsquellen zur Verfügung, jedoch könnte bei Anwendung der Erfindung die Belichtungsdauer um den Faktor fünf gesenkt werden, wodurch auch die Geaamtdauer des Herstellungs prozesses entscheidend im günstigen Sinne beeinflußt würde.
  • Weiterhin läßt sich auch die Entwicklungszeit senken.
  • Beispiel 1 Blanke Nickelabschnitte der Abmessungen 1,7 x 3,0 cm2 und der Rauhtiefe Rt = 10-15nm werden sorgfältig gereinigt und elektolytisch entfettet sowie mit einer 400 um dicken Schicht des Positivfotolacks AZ-1350 versehen. An das Trocknen dieser Schicht schließt sich der Belichtungsvorgang an, für den unter den gewählten Bedingungen eine erforderliche Belichtungszeit von 3,0 min bei konventioneller Entwicklung in Vorversuchen ermittelt wurde. Dabei werden eine Belichtungsmaske mit einem beliebigen Testmotiv, ein Vakuumbelichtungsrahmen mit gläserner Deckplatte und der 50 W-Flächenstrahler einer Fotolackbelichtungsquelle im Abstand von 15 cm von der Nickeloberfläche verwendet. Die Belichtungszeit bei diesem Beispiel beträgt 36 Sekunden. Durch Entwickeln bei 250C für 45 Sekunden in unverenthält, dünntem AZ-Developer, der 0,3% 1 H-1,2,3-Benzotriazol gelöste entsteht eine vollständig ausentwickelte und bildmäßige Wiedergabe des Testmaskenmotivs in der Fotolackschicht.
  • B e i sp i e l 2 Verfahren nach Beispiel 1, jedoch mit dem Unterschied, daß mit einer wäßrigen Lösung, enthaltend 5 Gew.-% Trinatriumphosphat Na3PO4x 12H20 10 Gew, -O/o Äthylenglycolmonomethyläther 0,2 Gew.-% 1 H-1,2,3-Benzotriazol bei sonst gleichen Bedingungen entwickelt wird. Es entsteht eine vollständig ausentwickelte und bildmäßige Wiedergabe des Tastmaskenmotivs in der Fotolackschicht.
  • Beispiel 3 Verfahren nach Beispiel 1, jedoch mit dem Unterschied, daß 3 Minuten lang belichtet wird unter Zuhilfenahme eines neutralen Graufilters, das 4/5 der einfallenden Lichtmenge absorbiert. Es entsteht eine vollständig ausentwickelte und bildmäßige Wiedergabe des Testmaskenmotivs in der Foto lacks schicht.
  • Beispiel 4 Verfahren nach Beispiel 3, jedoch mit dem Unterschied, daß gemäß Beispiel 2 entwickelt wird. Es entsteht wieder eine vollständig ausentwickelte und bildmäßige Wiedergabe des Testmaskenmotivs in der Fotolackschicht.
  • Beispiel 5 Verfahren nach Beispiel 1, jedoch mit dem Unterschied, daß 3 Minuten lang ohne Graufilter belichtet wird. Nach einer Entwicklungszeit von 15 Sekungen entsteht eine vollständig ausentwickelte und bildgetreue Wiedergabe des Testmaskenmotivs in der Fotolackschicht.
  • Beispiel 6 Verfahren nach Beispiel 5, jedoch mit dem Unterschied, daß gemäß Beispiel 2 entwickelt wird. Auch hier entsteht nach 20 Sekunden eine vollständig ausentwickelte und bildgetreue Wiedergabe des Testmaskenmotivs in der Fotolackschicht.

Claims (2)

Patentansprüche
1. Verfahren zur Entwicklung eines Positivfotolacks, insbesondere vom o-Naphthochinondiazidtyp, bei dem die Fotolackschicht nach Belichtung einer im wesentlichen aus einer wässrigen Alkalilösung bestehenden Entwicklerflüssigkeit ausgesetzt wird, wodurch die belichteten Teile der Fotolackschicht aufgelöst und von den nicht belichteten Bereichen der Fotolackschicht abgetrennt werden, dadurch gekennzeichnet, daß der Entwicklerflüssigkeit 1H-1,2,3-Benzotriazol in einer Konzentration von 0,1 bis 1,0 Gewichtsprozent, vorzugsweise 0,3 Gewichtsprozent zugesetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß einer Entwicklerflüssigkeit, die in wässriger Lösung 5 Gewichtsprozent Trinatriumphosphat, 10 Gewichtsprozent Äthylenglycolmonomethyläther enthält, 0,2 Gewichtsprozent 1H-1,2,3-Benzotriazol zugesetzt wird.
DE19742454879 1974-11-20 1974-11-20 Verfahren zur entwicklung eines positivfotolacks, insbesondere vom o-naphtochinondiazidtyp Pending DE2454879A1 (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0517245A1 (de) * 1991-06-05 1992-12-09 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Entwickler für lichtempfindliches Material

Cited By (2)

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EP0517245A1 (de) * 1991-06-05 1992-12-09 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Entwickler für lichtempfindliches Material
US5275915A (en) * 1991-06-05 1994-01-04 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Developer for light-sensitive material

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