DE2451591A1 - Gasmischung - Google Patents

Description

PATENTANWALT DIFL.-ING. II. STROKSCHÄNK 8000 MÜNCHEN 60 ■ MUSÄUSSTRASSE 5 · TELEFON (08 19) 8816 08

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ü-asniis ellung

Jie Erfindung bezieht sioli a.uf eine G-asrnis chung als "rlasmagas zum. ilciDinascliv/eisseii und als Schutzgas für andere Schweissveriahren in v'erbindung mit einer niclrt ab schmelzbaren Wolfram-Elektrode und Argon oder iielium oder mit einer Liischung dieser dase.

^oi einem solchen Plasmaschweissen mit reinem Argon als Plasmagas ist nachteilig, dass sich am ülektrodenkopf ein Wolframstreii'üii mid an der brennerdüse eine ./olf rams chi cht bilden. Dies ist darauf surüeinzuführen, dass die V/olframelelctrode schon durch kleine Lenken sauerstoff und ',v'asserdampf oxydiert v/ird, die im Argongas 8.1s Verunreinigungen enthalten oder in das Leitungssystem eingedrungen sein können. Das an der KLektrode weiter nach oben gebildete ,,olframoxyd ist gegenüber hohen Temperaturen unbeständig und aersetst sich nahe dem jjlektrodenlcopf in Sauerstoff und ;.oli'raiadar,rpf. Der ,,'olframdampf kondensiert· danach wieder am Elektrodenlcopf und an der Innenseite der Brennerdüse, wodurch diese schon nach wenigen Stunden der dchweissarbeit mehr oder weniger verstopft sein kann.

Derselbe kiangel kann sowohl beim xXG—scliweissen als auch bei allen anderen Schwei'ssverfahreii eintreten,· wo eine nicht abscianelsbare Υ,-olframelektrode verwendet v/ird.

üer Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Plasma- oder Jchut^gas zu finden, durch welches eine Ablagerung an der Elek-

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trode ausgeschlossen und. nach. Möglichkeit auch dio Abnutzung der Elektrode verringert werden kann.

Die gestellte Aufgabe ist erfindungsgeniäss dadurch gelöst, dass der Gasmischung so viel Wasserstoffgas zugesetzt ist, dass die bei der Anwendung sonst zu beobachtende Oxydbildung zumindest verringert ist.

ü-emäss einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung beträgt der zugesetzte Anteil wasserstoffgas 0,1 bis 1,0 ,-> Vol., vorzugsweise 0,1 bis 0,3 /J Vol. Eine solche Lienge l.asserstofigas ist so klein, dass sie das öchweissergebnis nicht beeinträchtigt, anderseits im /ergleich zu den normalerweise vorhandenen Sauerstoffgasmengen so r;ross, dass eine Oxydation ausgeschlossen bleibt.

—"¹^J.-'

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BAD ORIGINAL

Claims (1)

1. Patentansprüche

   Ij/ GasrnisChung als Plasmagas zum Plasmaschweissen und als Schutzgas für andere Schweissverfahren in Verbindung mit einer nicht aloschmelzbaren Wolfram-Elektrode und Argon oder Helium oder mit einer Mischung dieser Gase, dadurch gekennzeichnet, dass ihr.so viel Wasserstoffgas zugesetzt ist, dass die bei der Anwendung sonst zu beobachtende Oxydbildung zumindest verringert ist.

   2ο Gasmischung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der zugesetzte Anteil Wasserstoffgas 0,1 bis 1,0 ^£/b Vol. der · Gasmischung beträgt,

   3« Gasmischung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass der zugesetzte Anteil Wasserstoffgas 0,1 bis 0,3 '/o Vol. der Gasmischung beträgt.

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