DE2409153B2 - Verfahren und vorrichtung zum fotochemischen behandeln von werkstuecken - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zum fotochemischen behandeln von werkstuecken

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DE2409153B2
DE2409153B2 DE19742409153 DE2409153A DE2409153B2 DE 2409153 B2 DE2409153 B2 DE 2409153B2 DE 19742409153 DE19742409153 DE 19742409153 DE 2409153 A DE2409153 A DE 2409153A DE 2409153 B2 DE2409153 B2 DE 2409153B2
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photochemical treatment
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DE2409153A1 (de
Inventor
Daniel Denis Victor Cerexhe-Heuseux Muck (Belgien)
Original Assignee
Fabrique Nationale Herstal S.A., Herstal-Lez-Liege (Belgien)
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Publication date
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum fotochemischen Behandeln von Werkstücken, bei welchem auf die zu behandelnde Oberfläche eine lichtempfindliche Polymerschicht aufgebracht und diese Schicht durch eine Maske belichtet wird und die nicht polymerisierten Teile der lichtempfindlichen Schicht dann gelöst werden. Die Erfindung betrifft fei ner eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.
Bei einem bekannten Verfahren der zuvor beschriebenen Art (vgl. die DT-AS 12 47 905) wird zwar mit einer Maske gearbeitet, es ist jedoch nicht beschrieben, wo die Maske befestigt ist Hierzu ist es allgemein bekannt, diese Maske auf dem Werkstück selbst aufzubringen. Bei dem bekannten Verfahren bestehen insbesondere dann erhebliche Schwierigkeiten, wenn das Werkstück eine gekrümmte oder andere unregelmäßige Oberfläche aufweist. Vor allen Dingen ist nicht auszuschließen, daß sich die Maske verschiebt
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein gattungsgemäßes Verfahren anzugeben, mit dem insbesondere, wenn auch nicht ausschließlich, Gegenstände mit gekrümmten Oberflächen einwandfrei fotochemisch behandelt werden tonnen.
Zur Lösung dieser Aufgabe lehrt die Erfindung, daß die Belichtung durch eine das Werkstück umschließende Hülle hindurch erfolgt, nachdem auf diese Hülle die Maske aufgebracht wurde.
Eine Vorrichtung zur Durchfuhrung des Verfahrens ist dadurch gekennzeichnet, daß sie wenigstens einen Träger für das auf seiner zu bearbeitenden Oberfläche vorher mit einer lichtempfindlichen Schicht versehene Werkstück aufweist, ferner eine das Werkstück umschließende transparente Hülle und eine auf der Hülle angeordnete Maske. Zweckmäßig ist der Aufbau so getroffen, daß die transparente Hülle das Werkstück vollständig umschließt
Der besondere Vorteil des erfindungsgemaßen Verfahrens besteht vor allem darin, daß es bei Werkstücken beliebiger Formgebung anwendbar ist, d. h. bei Werkstücken mit gekrümmter oder auch mit ebener Oberfläche, da die Maske nicht direkt auf das Werkstück aufgebracht wird. Letzteres ergibt den weiteren Vorteil, daß das Werkstück nicht berührt zu werden braucht und daher einwandfrei sauber bleibt In vorrichtungsmäßiger Hinsicht besteht ein Vorteil darin, daß durch Anschlagflächen oder Zentrierungsansätze eine definierte Lage der Maske in bezug auf das Werkstück sichergestellt ist
Nachstehend wird die Erfindung im einzelnen anhand der Zeichnung näher erläutert, es zeigt
Fig 1 einen Querschnitt durch eine erfindungsgemäße Vorrichtung in schematisier Darstellung und
Fig.2 den Bereich Fl aus Fig. 1 in vergrößertem
Maßstab. .
Das Werkstück 1, welches z.B. eine gekrümmte Oberfläche besitzt und auf welches vorher eine an sich bekannte lichtempfir.Jliche Schicht aufgebracht wurde, ist vollständig von einer Hülle 2 umschlossen, welches aus zwei Halbschalen 2', 2" besteht, die z. B. aus einem weichen und transparenten Kunstharz hergestellt sind. Eine Maske 3 wird z. B. durch fotochemische Behandlung einer auf die Innenseite der Hülle aufgedampften Metallschicht erreicht. Dieses somit hergestellte Gebilde wird belichtet, wobei das Licht auf die Maske 3 trifft. Sobald durch die Belichtung die freiliegenden Teile der das Werkstück 1 bedeckenden lichtempfindlichen Harzschicht polymerisiert sind, wird die Hülle 2 entfernt und das Werkstück 1 in ein geeignetes chemisches Bad gelegt, in welchem die nicht polymerisierten Partien gelöst werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum fotochemischen Behandeln von Werkstücken, bei welchem auf die zu behandelnde Oberfläche eine lichtempfindliche Polymerschicht aufgebracht und diese Schicht durch eine Maske belichtet wird und die nicht polymerisierten Teile der lichtempfindlichen Schicht dann gelöst werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Beiichtung durch eine das Werkstück umschließende Hülle hindurch erfolgt, nachdem auf diese Hülle die Maske aufgebracht wurde.
2. Vorrichtung zur Durchführing des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie wenigstens einen Träger für das auf seiner zu bearbeitenden Oberfläche vorher mit einer lichtempfindlichen Schicht versehene Werkstück (1) aufweist, ferner eine das Werkstück (1) umschließende transparente Hülle (2) und eine auf der Hülle (2) angeordnete Maske (3).
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die transparente Hülle (2) das Werkstück (1) vollständig umschließt
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DE2409153A1 (de) 1974-11-07
GB1472462A (en) 1977-05-04
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