DE2331751A1 - Verfahren zur materialabhaengigen kontrastierung und einrichtungen zur durchfuehrung dieses verfahrens fuer lichtmikroskopie - Google Patents
Verfahren zur materialabhaengigen kontrastierung und einrichtungen zur durchfuehrung dieses verfahrens fuer lichtmikroskopieInfo
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Description
UnMrZ*idwn>A 1 93fVB 2793 633 Wetzlar,den .1 8 . Juni 1973
Pat St/Pe
Verfahren cux· jnatox'ialabhängigen Kontrastiprung
und Einrichtungen zur Durchführung dieses Verfahrens
für Lichtmikroskopie
Die Erfindung betrifft ein Verfahren nur materialabhängigeii
Kontrastierung durca mindestens eine in einer Vakuumkammer
auf eine lichtmikroskopisch zu untersucaende Probe
aufgebrachte Schicht aus festen Materialien und Einrichtungen zur Durchfünrung dieses Verfatirens.
Es ist bekannt j zur Er;setigung oder Steigerung des Kontrastes
zwischen chemisch unterschiedlichen Priasen in metallischen und nichtinetalliscnen Systemen polierte Schuf fproben im
Hochvakuum mit Schichtwerkstoffen zu bedampfen, die weitgehend
lichtdurchlässig sind und über hone Brechzaiilen verfügen.
Der größtmöglicne Kontrast zwischen zwei Phasen wird erreicht, wenn für eine Phase die Reflexion durcn Interferenz
ausgelöscht wird. Dazu muß einmal eine Scnicritdicke
gewählt wei'den, die eine Phasenverschiebung der interferierenden Wellen um 180 gegeneinander erlaubt und es muß zum
anderen die an der Grenzfläche Luft/Schicht reflektierte
Amplitude gleich der an der Grenzfläcne Schicht/Probe reflektierten Amplitude sein. Die letztgenannte Bedingung
läßt sich in speziellen Fällen nur durch Mehrfachscnichten
einnalten.
Bei der Anwendung des vorgenannten Verfahrens sind verscniedene Schwierigkeiten zu überwinden, die im wesentlichen in
der Aufdampftechnik begründet sind. So wird beispielsweise
für die Herstellung gleichmäßiger Schichten einerseits ein sehr gutes Vakuum, andererseits ein relativ großer Arbeitsabstand
zwischen Verdampfungsquelle und Probe benötigt,
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Patentabteilung
St/Pe
letzteres aucti, um die durcti das Aufheizen des Aufdampfmaterials
entstellende Wärmestrahlung auf die Probenoberfläche
gering zu halten.
Eine visuelle Beobachtung der Probe während des Aufdampf-Vorganges
ist sehr schw:ferig, da das verdampfende Material sich überall in der Vakuumkammer xund so auch auf einem
Beobactitungsfenster niederschlägt. Aber auch nach beendigter
Aufdampfung kann die Probe wegen der für Aufdampfkammern benötigten relativ großen Abmessungen nur über eine
Fernrohroptik mit entsprechend großem Arbeitsabstand betrachtet werden. Die damit erzielbaren förderlichen Vergrößerungen
reichen nicht aus, um den Fortgang der Kontrastierung einzelner Gefügeteile mit der notwendigen Genauigkeit
beurteilen zu können.
Ein wesentlicher Nachteil der Auf dampftechnik ist es weiterhin,
daß manche Materialien durch das Aufheizen ihre chemischen und physikalischen Eigenschaften so verändern,
daß sie für die Kontrastierung nicht gut verwendet werden können, obwohl dies beispielsweise wegen ihrer anfänglich
Hohen Brechzahlen wünschenswert wäre ο Weitere Nachteile sind: die Tatsache, daß die Aufdampfgeschwindigkeit nur
in geringem Maße gesteuert werden kann, der relativ hohe Verbraucti an Aufdampfmaterial und die teilweise geringe
Haftfestigkeit der Aufdampfschichten.
Die genannten Nachteile sind bekannt und es hat nicht an Versuchen gefehlt, sie in irgendeiner Weise zu umgehen.
So ist beispielsweise in der OE-PS 212 050 ein Verfahren
beschrieben, wie die Wärmestrahlung der Verdampfungsquelle
von der Probe ferngehalten werden kann. Danach soll das dampfförmige Material ionisiert und dann mit Hilfe von
elektrischen oder magnetiscnen Feldern auf die Probe gelenkt werden, welche außerhalb des WärmeStrahlungsbereichs
der Dampfquelle angeordnet ist.
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Es ist selbstverständlich, daß die Probe im Vakuum zunächst einer hochfrequenten Glimmentladung ausgesetzt wird, um die
Oberfläche zu reinigen. Zur Feststellung der günstigsten Betriebsparameter für das Aufdampfen wird zunächst eine
Schrägbedampfung durchgeführt, die eine keilförmige Schicht erzeugt, aus der dann empirisch die jeweils günstigste
Scnichtdicke ermittelt wird. Diese zusätzlichen Maßnahmen können die der Aufdampftechnik grundsätzlich anhaftenden
Mängel jedoch nur zum Teil beseitigen.
Der Erfindung lag daher die Aufgabe zugrunde, ein neues und einfaches Verfahren anzugeben, mit dessen Hilfe Einfach-
und Mehrfachschichten ohne die der Aufdampftechnik anhaftenden
Nachteile auf Probenoberflächen aufgebracht werden können. Das Verfahren soll insbesondere eine mikroskopische
Kontrolle des Schichtaufträges ermöglichen, keinen Beschränkungen
hinsichtlich der aufzutragenden Materialien unterliegen, sowie für schwer schmelzbare Materialien geeignet
und ohne großen apparativen und verfahrensmäßigen Aufwand
durchführbar sein.
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs erwähnten Art dadurch gelöst, daß das Schichtmaterial durch Kathodenzerstäubung
auf der Probe niedergeschlagen wird. Dabei kann da· Ende der Zerstäubung in Abhängigkeit von einer
mikroskopischen Beobachtung der jeweils erzielten Kontra* tierung bestimmt werden. Auch können während der Zerstäubung
die Probe und die Kathode relativ zueinander verschoben werden. Auch kann die Kathodenzerstäubung in einer
mit dem zerstäubten Material reagierenden Gasatmosphäre durchgeführt werden.
Eine Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens mit einer Vakuumkammer und einer auf positivem Potential liegenden
Probenauflage, mit mindestens einer dieser Proben-
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auflage gegenüberliegenden Kathode, mindestens einer Hochspannungsquelle,
mindestens einer Gaseinlaßöffnung und mindestens
einer Beobachtungseinrichtung für den erzeugten Kontrast zeichnet sich dadurch aus, daß die Probenauflage
wahlweise in mindestens je eine Kontrastierungs- und je eine Beobachtungsstellung bringbar ist. Auch kann die Probenauflage
in eine gemeinsame Kontrastierungs- und Beobachtungsstellung bringbar t;ein. Dabei kann für den Antrieb
der Probenauflage ein Getriebe vorgesehen sein. In einer speziellen Ausführungsform ist jeder Kontrastierungsstellung
der Probenauflage eine gesonderte Kathode mit unterschiedlichem Zerstäubermaterial zugeordnet« In einer anderen
Ausführungsform sind einer Kontrastierungsstellung der
Probenauflage mehrere Kathoden mit unterschiedlichem Zerstäubermaterial zugeordnet, die watilweise zum Einzel- bzw.
Parallelbetrieb mit mindestens einer Hochspannungsquelle verbindbar sind. Das Zerstäubermaterial kann auswechselbar
an der Kathode befestigt sein. Hierzu kann die Kathode als Hohlkathode ausgebildet und das Zerstäubermaterial in den
Hohlraum eingefügt sein. Auch kann eine Vorrichtung für die Zuführung unterschiedlichen Zerstäubermaterials an die
Kathode vorgesehen sein. Weiterhin können die Kathode als Ring oder Hülse ausgebildet und unterschiedliche Zerstäubermaterialien auf einer Transportvorrichtung angeordnet
sein, die das jeweils gewünschte Zerstäubermaterial zur der Probe abgewandten Seite der Kathode bringt.
Die Erzeugung dünner Schichten durch Kathodenzerstäubung ist durch die Veröffentlichung Vakuum-Technik, ΛΗ, Jahrgang, Heft 6, Selten 173 bis 176, an sich, bekannt. Nach
diesem Verfahren werden insbesondere Widerstandsschichten, Leitfähigkeitsechiohten, Halbleiter, Dielektrika für
elektronische Bauteile und Vergütungen von optischen Flächen durchgeführt. Trotz der ebenfalls bekannten Vorteile
der Kathodenzerstäubung und des unstreitbar vorliegenden
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Bedürfnisses nach einem einfachen Verfahren zur Kontraststeigerung
durch Ein- oder Mehrfachschichten ist die Verwendung dieses Verfahrens für die lichtmikroskopische Präparationstechnik
bisher aber nicht bekannt geworden.
Die besonderen Vorteile der Kathodenzerstäubung liegen für
die Erzeugung kontrasterhöhender Schichten darin, daß nur ein relativ geringer Arbeitsabstand zwischen Probe und
Kathode erforderlich ist, daß bereits bei einem Vakuum von
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10 bis 10 Torr gearbeitet werden kann, daß der Raumwinkel,
in den das Kathodenmaterial zerstäubt wird, durch Regulierung von Gaseinlaß und Kathodenspannung verändert
werden kann, und daß wegen der größeren kinetischen Energie der in einer Gasentladung zerstäubten Teilchen diese auf
der Probe besser haften. Diese Betriebsbedingungen ermöglichen weiterhin eine lichtmikroskopische Beobachtung der
durch die Zerstäubung auf die Probe aufgebrachten Schichten bzw. der dadurch jeweils erzeugten Kontraste. Da die Zerstäubungsrate
durcn Regelung der Kathodenspannung steuerbar und das Zerstäubermaterial wählbar ist, kann, wie Versuche
gezeigt haben, für jede Probe relativ leicht eine optimale Kontrastierung erzielt werden. Eine besonders vorteilhafte
Ausgestaltung des Verfahrens erhält man, wenn verschiedene Zerstäubungsmaterialien wahlweise nacheinander oder gleichzeitig
auf die Probe aufgebracht werden. Für die Zerstäubung werden keine Heizströme benötigt, so daß die Wärmebelastung
der Probe durch Wärmestrahlung gering bleibt und auch das Zerstäubermaterial durch Wärme nicht zersetzt
wird. Der Verbrauch an Zerstäubungsrnaterial ist gering, da die Zerstäubungswirkung auf die Probe konzentriert wird.
Dementsprechend ist auch die Kontrastierungszeit relativ kurz.
Das erfindungegemäße Verfahren ist nachfolgend anhand in
den Zeichnungen schematisch dargestellter Ausführungsbeispiele erläutert. Es zeigen:
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Fig. 1 scliewatisch den Aufbau einer Einrichtung zur Durchfünrung
des neuen Verfahrens,
Fig. 2 als Detail eine Anordnung mit zwei Zerstäuber-Kathoden für eine Kontrastierungsstellung der
Probe,
Fig. 3 als Detail eine Anordnung mit zwei Zerstäuber-Kathoden und unterscniedlichen Kontrastierungsstellungen,
Fig. k als Detail eine Honlkathodenanordnung mit auswechselbar
einbringbarem Zerstäubermaterial und zusätzlichem Gaseinlaß, und
Fig. 5 als Detail eine RLngkathode mit einer Wechselvorrictitung
für verschiedene Zerstäubermaterialien,
In Fig. 1 ist eine Vakuumkammer 10 dargestellt, die über einen Pumpstutzen 11 evakuiert werden kann. Innerhalb der
Kammer 10 ist auf einem symboliscn angedeuteten Kreuztisch 12 eine Probenauflage 13 mit einer Probe 15 angeordnet,
die über ein Gelenk 14 in eine Beobachtungsstellung und
eine Kontrastierungsstellung (gestrichelte Lage) geschwenkt werden kann.
In der Wand der Vakuumkammer 10 ist ein Fenster 16 vorgesehen, durch das die Probe 15 mit einem Mikroskop 17 beobachtet
werden kann. Außerdem ist ein Isolator 18 mit einer Kathode 19 vorgesehen. Die Kathode 19 besteht aus
einem zerstäubungsfähigen Material oder ist auf ihrer
Innenseite mit einem Zerstäubermaterial beschichtet„ Sie
ist über eine Leitung 20 an den negativen Pol einer Hochspannungsquelle 21 angeschlossen. Die Probe ist über eine
Leitung 22 und über die Kammer 10 mit dem positiven Pol der Hochspannungsquelle 21 verbunden.
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Duron eine Öffnung 23 kann aus Gasflaschen Zk, die mit
unterschiedlichen. Gasen gefüllt sind und je ein whaMi
mit dargestelltes Dosierventil aufweisen, über ein regelbares Ventil 25 Reaktionsgas in die Vakuumkammer 10 eingelassen
werden.
Die Umschaltung der Probenauflage 13 von einer Stellung in
die andere kann beispielsweise über einen Kurbeltrieb von Hand erfolgen. Es kann aber auch ein (gestrichelt angedeutetes)
Getriebe 1^· vorgesehen sein. Im letzteren Fall κ
ist es sogar möglich, die Probenauflage um die Längsachse inres Trägers zu drehen, wodurch sich u. a. eine vergrößerte
Kontrastierungsflache erreichen läßt.
Fig. 2 zeigt im Ausschnitt eine Anordnung, bei der der Probe 15 zwei Kathoden 19f 19* gegenüberstehen, die in der
Nähe des Beobachtungsfensters 16 angeordnet sind und unterschiedliches
Zerstäubermaterial enthalten. Die Kathoden können von einer gemeinsamen Hochspannungsquelle oder von
getrennten Hochspannungsquellen versorgt werden, so daß unterschiedliche Zerstäubermaterialien abwechselnd oder
gleichzeitig und mit unterschiedlichen Zerstäubungsraten auf die Probe aufgebracht werden können. Dabei kann der
Fortgang der Kontrastierung durch ein Mikroskop 17 laufend beobachtet werden. Die Probenauflage kann in Richtung der
optischen Achse des Mikroskops 17 verschiebbar gelagert
sein.
Xn der in Figur 3 dargestellten Anordnung sind zwei •*tt»f*¥ KontrastierungsStellungen und diesen zugeordnete
Kathoden aus oder mit verschiedenem Zerstäubermaterial vorgesehen. Xn einer Zwischenstellung kann die jeweils
erreichte Kontrastierung mikroskopisch beobachtet werden.
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Fig, 4 zeigt im Detail sctiematisch eine spezielle Ausgestaltung
der Kathode 19 als Hohlkathode. Die Kathode ist hier mit einer zusätzlichen Gaseinlaßöffnung 26 zur Erzeugung
eines gaskonzentrierten Elektronen-Strahls versetien.
Das Beispiel zeigt außerdem, daß ein als Grobkorn vorliegendes Zerstäubermaterial 27 in die Hohlkathode eingesetzt
werden kann. Selbstverständlich können auch verscniedene Einsatzringe, Einsatzröhrchen, Lochblenden oder
Netze aus dem jeweiligen Zerstäubermaterial hergestellt und in die Honlkathode eingesetzt werden. Die Hohlkathode
selbst wird zweckmäßigerweise aus einem Material gefertigt, das bei den verwendeten Spannungen nur eine vernachlässigbare
Zerstäubungerate aufweisto
In Fig. 5 ist die Kathode als Hülsenkathode 19" dargestellt.
Auf der der Probe 15 abgewandten Seite dieser Kathode ist
eine Transportvorrichtung 28 angeordnet, die unterschiedliche Zerstäubermaterialien 27, 27', 27" trägt, welche mit
Hilfe eines Schiebemechanismus nacheinander wahlweise an die Kathode herangeführt werden können. Selbstverständlich
könnte als Transportvorrichtung auch ein Revolver vorgesehen sein, der die unterschiedlichen Materialien trägt.
Der Ablauf des Verfahrens ist folgender: Zur Kontrastierung wird die Probe 15 3-n eine Stellung gebracht, die der Katho-
— 1 —2 de gegenüberliegt. Bei einem Vakuum von 10 bis 10 Torr
wird durch Anlegen einer Spannung an die Kathode eine Gasentladung zwischen Probe I5 und Kathode gezündet. Die im
wesentlichen aus der Kathode austretenden Elektronen ionisieren längs ihrer Bahn in der Kammer 10 vorhandene Restgasmoleküle,
so daß neben weiteren Elektronen auch positive Ionen entstehen. Diese positiven Ionen werden zur Kathode
hin beschleunigt und zerstäuben bei genügend hoher Beschleunigungsspannung
einen Teil des Kathodenmaterials. Die Zer-
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stäubungsrate läßt sich über den Gasdruck, über die Gaszusammensetzung
in der Kammer und über die Beschleunigungsspannung regeln. Außerdem beeinflussen diese Parameter zusammen
mit der Formgebung der Kathode aucn. den Raumwinkel, in den das zerstäubte Kathodenmaterial gestreut wird. Eine
besonders gerichtete und gebündelte Zerstäubung wird erreicht, wenn zusätzlich durch die Kathode hindurcn Gas in
die Vakuumkammer eingelassen wird, so daß ein gaskonzentrierter Elektronen-Strahl entsteht. Eine gleichmäßige Beschichtung
der Probe durch Kathodenzerstäubung wird auch für größere Probenfläcnen dann erreicht, wenn Probe und
Kathode während des Zerstäubungsvorganges relativ zueinander bewegt werden.
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Claims (12)
- IO -A 1930/B 2793
18. 60 1973AnsprücheVerfanren zur materialabhängigen Kontrastierung durch mindestens eine in einer Vakuumkammer auf eine licntmikroskopisch zu untersucnende Probe aufgebrachte Schicht aus
festen Materialien, dadurch gekennzeichnet, daß das Schichtmaterial (27) durch Kattiodenzers täubung auf der Probe (15) niedergeschlagen wird. - 2. Verfahren nacti Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Ende der Zerstäubung in Abhängigkeit von einer mikroskopischen Beobachtung der jeweils erzielten Kontrastierung bestimmt wird,
- 3· Verfanren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß während der Zerstäubung die Probe (15) und die Katnode (19) relativ zueinander verschoben werden« - 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3t dadurch gekennzeichnet, daß die Kathodenzerstäubung in einer mit dem zerstäubten Material (27) reagierenden Gasatmosphäre durchgeführt wird.
- 5. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis h mit einer Vakuumkammer und einer auf positivem Potential liegenden Probenauflage, mit mindestens
einer dieser Probenauflage gegenüberliegenden Kathode,
mindestens einer Hochspannungsquelle, mindestens einer
Gaseinlaßöffnung und mindestens einer Beobachtungseinrichtung für den erzeugten Kontrast, dadurch gekennzeichnet,
daß die Probenauflage (13) wahlweise in mindestens je eine Kontrastierungs- und je eine Beobachtungsstellung bringbar ist„- 11 -409884/1205— Il ·■"A T93O/B 2793 13. 6. 1973 - 6. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprücne 1 bis h mit einer Vakuumkammer und einer auf positivem Potential liegenden Probenauflage, mit mindestens einer dieser Probenauflage gegenüberliegenden Kathode, mindestens einer Hochspannungsquelle, mindestens einer GaseinlaßfSffnung und mindestens einer Beobachtungseinrichtung für den erzeugten Kontrast, dadurcti gekennzeichnet, daß die Probenauflage (13) in eine gemeinsame Kontrastierungs- und Beobachtungsstellung bringbar ist.
- 7» Einricntung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß für den Antrieb der Probenauflage (13) ein Getriebe (i4f) vorgesehen ist.
- 8. Einrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 7» dadurch gekennzeichnet, daß jeder Kontrastierungsstellung der Probenauflage (13) eine gesonderte Katnode (19) mit unterschiedlichem Zerstäubermaterial (27) zugeordnet ist.
- 9. Einrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 7» dadurch gekennzeichnet, daß einer Kontrastierungsstellung der Probenauflage (13) mehrere Kathoden (I9) niit unterschiedlichem Zerstäubermaterial (27) zugeordnet sind, die wahlweise zum Einzel- bzw. Parallelbetrieb mit mindestens einer Hochspannungsquelle (21) verbindbar sind.
- 10. Einrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 9t dadurch gekennzeichnet, daß das Zerstäubermaterial (27) auswechselbar an der Kathode (19) befestigt ist.
- 11. Einrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode als Hohlkathode (Fig. k) ausgebildet und das Zerstäubermaterial (27) in den Hohlraum eingefügt ist.- 12 -409884/1205A Ί93Ο/Β 2793 18. 6. 1973
- 12. Einrichtung nacti Ansprucn 10, dadurcn ge.kennzeicn.net, daß eine Vorrichtung (28) für die Zufünrung unterschiedlichen Zerstäubermaterials (27) an die Katnode (19) vorgesetien ist.13· Einrichtung nach Ansprucn 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Katnode (19) als Ring oder Hülse (Fig. 5) ausgebildet ist und unterschiedliche Zerstäubermaterialien (27) auf einer Transportvorrichtung (28) angeordnet sind, die das jeweils gewünscnte Zerstäubermaterial zur der Probe abgewandten Seite der Kathode bringt,,409884/1205
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19732331751 DE2331751C3 (de) | 1973-06-22 | 1973-06-22 | Verfahren zur materialabhängigen Kontrastierung und Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens für Lichtmikroskopie |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19732331751 DE2331751C3 (de) | 1973-06-22 | 1973-06-22 | Verfahren zur materialabhängigen Kontrastierung und Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens für Lichtmikroskopie |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2331751A1 true DE2331751A1 (de) | 1975-01-23 |
DE2331751B2 DE2331751B2 (de) | 1980-01-17 |
DE2331751C3 DE2331751C3 (de) | 1980-10-02 |
Family
ID=5884747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19732331751 Expired DE2331751C3 (de) | 1973-06-22 | 1973-06-22 | Verfahren zur materialabhängigen Kontrastierung und Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens für Lichtmikroskopie |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2331751C3 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2902848A1 (de) * | 1978-04-13 | 1979-10-18 | Litton Systems Inc | Verfahren zur herstellung von optischen mehrfachschichten |
-
1973
- 1973-06-22 DE DE19732331751 patent/DE2331751C3/de not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2902848A1 (de) * | 1978-04-13 | 1979-10-18 | Litton Systems Inc | Verfahren zur herstellung von optischen mehrfachschichten |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2331751C3 (de) | 1980-10-02 |
DE2331751B2 (de) | 1980-01-17 |
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