DE2324881A1 - Filteranlage zur entfernung von bakterien aus der belueftungsluft - Google Patents

Filteranlage zur entfernung von bakterien aus der belueftungsluft

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Description

Präge rwerk Aktiengesellschaft 2ILObCOk, Moisllnger Allee 52/55
Fllteranlage zur Entfernung von Bakterien aus der Belüftungsluft
Zusatzanmeldung zu Patent .....(Patentanmeldung P 20 63 762. l)
Das Hauptpatent .....(Patentanmeldung P 20 63 762.1) betrifft eine Filtervorrichtung zur Entfernung von Bakterien aus der Belüftungsluft für sterile Räume, wie z.B. Operationssälen, Fertigungsräumen für pharmazeutische Produkte usw. Gemäß der Erfindung des Hauptpatentes ist in dem Luftzuführungsrohr vor dem Schwebstoffilter - in Luftrichtung gesehen - ein UV-Strahler angeordnet. Gemäß einer weiteren Ausbildung nach dem Hauptpatent kann auch nach dem Schwebstoffilter ein UV-Strahler in dem Lüftungsrohr angeordnet sein. Bei der Vorrichtung nach dem Hauptpatent wird mit Si-
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cherheit das Auftreten von Bakterien und Viren in der Abluft der Filtervorrichtung vermieden. Die auf dem · Filter abgeschiedenen Bakterien werden durch die UV- Bestrahlung abgetötet. Die Schwebstoffilter können während ihrer vollen sogenannten Standzeit in der Fil teranlage verbleiben, wobei unter "Standzeit" eines Schwebstoffilters die Zeit verstanden wird, während der der Widerstand des Schwebstoffilters gegen den Luftdurchgang unter einem bestimmten Grenzwert bleibt. Aufgrund der zunehmenden Abscheidung von Staubteilchen nimmt der Luftwiderstand des Schwebstoffilters mit der Zeit zu. Die Standzeit der Schwebstoffilter gemäß dem Hauptpatent ist somit nur durch die zunehmende Verschmutzung des Filters und den dadurch ansteigenden Luftwiderstand bedingt. Nach dem Hauptpatent können für die Belüftung beispielsweise von Krankenhäusern und sterilen Räumen Schwebstoffilter mit der gleichen Standzeit benutzt werden, wie es in der Technik allgemein üblich ist. .
Soweit das durch die UV-Strahlung erzeugte Ozon in der Abluft störend ist, bzw. in den zu belüftenden Räumen nicht enthalten sein darf, kann gemäß einer weiteren Ausbildung des Hauptpatentes auf der Luftaustrittsseite ein Gasfilter zur Entfernung von Ozon angeordnet sein. Die Anlage
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kann auch über lange Zeit betrieben werden, ohne daß der Ozongehalt in der Luft den zulässigen MAK-Wert überschreitet.
Gemäß einer weiteren Ausbildung nach dem Hauptpatent kann das. Schwebstoffiltermaterial aus hydrophobem Glasfaserpapier bestehen.
Weiterhin ist es gemäß dem Hauptpatent zweckmäßig, daß die Strahlungsstärke des W-Strahlers so gewählt wird, daß die Strahlung zumindest teilweise in das Innere des Materials des Schwebstoffilters eindringt.
Das Füllmaterial für das Gasfilter kann aus Aktivkohle mit oder ohne Imprägnierung, Oxiden von Kupfer, Mangan, Chrom, Eisen und anderen Schwermetalleri bestehen. Gemäß einer anderen Ausbildungsform kann die Füllung für das Gasfilter aus Materialien mit großer aktiver Oberlache, wie Silikagel und aktiver Tonerde bestehen. Dabei können die vorher genannten Stoffe auch im Zusammenhang mit den weiterhin genannten Stoffen einer großen Oberfläche, wie z.B. Silikagel, aktive Tonerde od. dgl., verwendet werden. Diese Stoffe beseitigen das Ozon aus der durch das Filter strömenden Luft.
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Der vorliegenden Erfindung liegt die gleiche Aufgabe wie dem Hauptpatent zugrunde, eine Filtervorrichtung zu schaffen, bei der das Auftreten von Bakterien in der Abgangsluft mit Sicherheit vermieden wird. Die vorliegende Erfindung betrifft eine weitere Ausbildung des Hauptpatentes und besteht darin, daß der UV-Strahler länglich ausgebildet und senkrecht zu den Faltenkanten der fadenförmigen Schwebstoffliter angeordnet ist.
Die erfindungsgemäße Bauform hat den Vorteil, daß die gesamte Oberfläche des gefalteten Schwebstoffilters unmittelbar von der Bestrahlung des UV-Strahlers getroffen wird.
Gemäß einer weiteren Ausbildung der Erfindung kann der UV-Strahler länger als die quer zur Faltenrichtung gemessene Länge des Faltenpaketes sein.
Bei dieser Ausführungsform sind alle Teile der Oberfläche des Schwebstoffilters dem UV-Strahler zugewandt, so daß die gesamte Oberfläche des Schwebstoffilters unmittelbar von dem UV-Strahler getroffen wird. Außerdem wird eine zeltlich gleichmäßige Bestrahlung der gesamten Filterfläche erreicht.
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Für den Fall, daß die Filterfläche nicht ständig bestrahlt werden muß - zum Abtöten von Keimen genügt oft eine kurze Zeit - kann das Filter mit einer Zeitschaltuhr versehen sein, welche die UV-Strahler zeitweise, z.B. in den Nachtstunden, einschaltet*
Weitere Einzelheiten der Erfindung sind anhand des in der Zeichnung sehematisch dargestellten Ausführungsbeispiels erläutert, und zwar zeigen
Fig. 1 eine halb perspektivisch teilweise aufgebrochene Ansicht einer Filtervorrichtung
Fig. 2 einen Schnitt in der Ebene A-B nach Fig, I.
Das Schwebstoffilter 3 besteht aus mehreren Faltenpaketen 31ί deren Faltenkanten 32 in Fig. 1 erkennbar parallel nebeneinander liegen. Die Stirnseiten der Filterpakete 31 sind durch Endschienen 33 abgeschlossen, die durch eine Vergußmasse mit den Paketen 31 verbunden sind. Die so gebildeten Filterpakete31 sind im rahmenartigen Gehäuse zick-zack-förmig untergebracht, wie die Fig. 2 zeigt.
Der zu reinigende Luftstrom strömt in Richtung des Pfeiles 11 und durchdringt das Filtercehäuse 34; der gereinigte
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Luftstrom ist mit 12 bezeichnet.
Die UV-Strahler 4 sind auf der Zuluftseite angeordnet. Es können aber auch UV-Strahler auf der Abgangsseite angeordnet sein. Die UV-Strahler 4 sind länglich ausgebildet und sind zwischen den Endschienen 40, 41 eingesetzt. Wesentlich ist, daß die Strahlerachse senkrecht zu den Faltenkanten 32 verläuft. Außerdem sind die Strahler 4 länger ausgebildet als die Höhe der Schwebstoffilter 3» gemessen senkrecht zur Faltenkante 32. Durch diese Bauform wird erreicht, daß die UV-Strahler in alle Falten, auch in die oberste und unterste Falte eindringt.
Die UV-Strahler sind nicht am Filter oder im Filtergehäuse 3^ befestigt, sondern in der dargestellten Weise unabhängig von diesem gehalten..
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Claims (3)

  1. Patentansprüche
    flη Filtervorrichtung zur Entfernung von Bakterien aus der BeIUftungsluft für sterile Räume, wie z.B. Operationssälen/ Fertigungsräumen für pharmazeutische Produkte usw., die mit einem UV-Strahler ausgerüstet ist, dadurch gekennzeichnet, daß der UV-Strahler (5) länglich ausgebildet und senkrecht zu den Faltenkanten (32) der fadenförmigen Schwebstoff liter (3) angeordnet ist.
  2. 2) Filtervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der UV-Strahler (5) langer als die quer zur Faltenrichtung gemessene Länge des Faltenpaketes (51) ist.
  3. 3) Filtervorrichtung nach Anspruch 1 und 2,- dadurch gekennzeichnet, daß der UV-Strahler (5) im Stromkreis einer Zeitschaltuhr angeschlossen ist.
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    Leerseite
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