DE2309613A1 - Lichtempfindliches material und verfahren zur herstellung von reliefdruckformen - Google Patents

Lichtempfindliches material und verfahren zur herstellung von reliefdruckformen

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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Description

AG FA- G EVAE RT AG 2 B. m.
PATENTABTEILUNG
za-mka Leverkusen
Lichtempfindliches Material und Verfahren zur
Herstellung von Reliefdruckformen
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Material und ein Verfahren zur Erzeugung von Hochdruckreliefformen durch bildmäßige Photopolymerisation einer äthylenisch ungesättigten Verbindung enthaltenden Schicht und nachfolgendes Auswaschen der nicht belichteten und nicht polymerisierten Schichtteile.
Solche Verfahren sind in zahlreichen Ausführungsformen bereits bekannt. Als photopolymerisierbare Schicht dienen in der Regel Mischungen eines sogenannten Basisharzes mit mehr oder weniger
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großen Anteilen an mono-, bi- oder polyfunktionellen äthylenisch ungesättigten Monomeren, einen meist duröh Radikalbildung im aktinischen Licht gekennzeichneten Photoinitiator und Zusätzen von sogenannten thermischen Inhibitoren, das sind Verbindungen, die eine thermische (Dunkel)-Polymerisation beim Lagern verhindern»
Diese Mischungen werden entweder freitragend oder auf einer maßhaltigen Unterlage, vorzugsweise auf Metallfolien aus Aluminium oder Stahl, gegebenenfalls unter Verwendung einer Haftschicht, in einer Stärke von 0,4 bis 1,5 mm verwendet. Bei der Belichtung mit aktinischem Streulicht unter einem Raster-Negativ polymerisieren die vom Licht getroffenen Schichtpartien, wodurch die Mischung ihre ursprüngliche Löslichkeit in bestimmten Lösungsmittelgemischen, dem sogenannten Entwickler verliert. Durch nachfolgendes Auswaschen mit eben diesem Entwickler erhält man ein positives Reliefbild der Kopiervorlage»
Diese Reliefs müssen nun, um den Beanspruchungen des Hochdrucks gewachsen zu sein, eine kegelförmige Struktur besitzen, d.h. sich von der Oberfläche der Schicht her zur Basis hin verbreitern, wobei sich erfahrungsgemäß Kegelflanken mit einem Anstellwinkel in der Basis von 60° als optimal erweisen. Diese Flankenbildung wird im wesentlichen durch die Unterstrahlung der transparenten Teile der Vorlage mittels Streulicht erreicht. Sie hängt aber auch zu einem großen Anteil von der inneren Lichtstreuung der Schicht selbst sowie von der Reflexion der Unterlage ab.
Eine weitere wesentliche Rolle bei dieser Flankenbildung spielt schließlich die bei einer gegebenen Initiatorkonzentration erzielbare Gradation der Schicht, worunter man die Zunahme bzw. die Geschwindigkeitssteigerung zu verstehen hat, mit der die Photopolymerisation auf eine bestimmte Steigerung der Belichtungsintensität anspricht. Es liegt unvermeidlich im Unterstrahlungsprinzip selbst, daß zumindest im Bereich von im Verhältnis zur Schichtstärke kleinen Bildstrukturen, z.B. bei der Kopie gerasterter Halbtonbilder, die Unterstrahlungsintensität mit abnehmender Punktgröße exponentiell abnimmt, was zur Folge hat, daß eine über alle Punktgrößen unabhängige Flankenbildung nicht erzielbar ist.
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Dieses Problem ist bei Polymerschichten bisher ungelöst. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, neuartige Basisharze für Photopolymerschichten aufzufinden, die eine gute Verträglichkeit mit den übrigen Schichtbestandteilen, insbesondere den zur Polymerisation erforderlichen äthylenisch ungesättigten Monomeren, und verbesserte Lagerfähigkeit besitzen und die bezüglich innerer Lichtstreuung und Gradation eine optimale Flankenbildung gewährleisten,,
Es wurde nun ein lichtempfindliches Material mit mindestens einer gegebenenfalls auf einem Schichtträger befindlichen lichtempfindlichen Polymerschicht gefunden, die ein Basispolymer, ein photopolymerisierbares Monomeres mit mindestens zwei polymerisierbaren Doppelbindungen und einen Photoinitiator enthält, wobei als Basispolymer ein ternäres Copolymerisat aus den folgenden Komponenten enthalten ist:
20 - 60 Gew.-% Vinylalkohol-Einheiten 20 - 65 Gew.-% Äthylen- oder Vinylchlorid-Einheiten und 0,1 - 50 Gew.-% Vinylester-Einheiten.
Besonders bevorzugt sind teilverseifte Copolymerisate aus Äthylen und Vinylacetat, Als Vinylester wird insbesondere Vinylacetat verwendet, doch können gegebenenfalls im Gemisch mit oder an Stelle von Vinylacetat auch andere Vinylester, ZoB. mit Ameisensäure, Propionsäure, Pivalinsäure, Stearinsäure oder Acrylcarbonsäuren, insbesondere Benzoesäure, eingesetzt werden» Die Basispolymeren des erfindungsgemäßen Materials sollen in niederen Alkoholen mit bis zu 5 C-Atomen, insbesondere Methanol löslich sein.
Gegebenenfalls können auch Umsetzungsprodukte der in der erfindungsgemäßen Weise zu verwendenden Vinylalkohol-Copolymerisate als Basisharz in den Schichten enthalten sein. Diese sekundären Umsetzungsprodukte erhält man dadurch, daß die Hydroxylgruppen der Vinylalkohol-Einheiten teilweise mit
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hiermit reaktionsfähigen Verbindungen wie z.B. mit Isocyanaten, Alkoholen oder Alkylhalogeniden, Aldehyden, Carbonsäureanhydriden oder -halogeniden umgesetzt werden.
Die teilweise Substitution der OH-Gruppen bietet die Möglichkeit, die Polymeren zu optimieren. So kann u.a. auch die Quellbarkeit in aromatischen Flüssigkeiten und Benzinen durch teilweisen Ersatz von Vinylalkohol- durch Vinylurethangruppen herabgesetzt werden, ohne daß die anderen Eigenschaften nachteilig beeinflußt werden. Wichtig ist dabei nur, daß zur Aufrechterhaltung einer genügend hohen Konzentration an freien OH-Gruppen (Vinylalkohol-Einheiten) bei den sekundären Umsetzungsprodukten von höher verseiften Produkten ausgegangen wird.
Die in der erfindungsgemäßen Weise zu verwendenden Copolymerisate werden nach an sich bekannten Methoden hergestellt. Verwiesen sei z.B. auf die deutschen Patentschriften 847 502, 1 203 958, die deutsche Offenlegungsschrift 17 70 192, die US-Patentschrift 2 386 347, die britische Patentschrift 582 und die französische Patentschrift 1 343 547»
Die Herstellung eines für das erfindungsgemäße lichtempfindliche Material geeigneten Polymeren ist in den Beispielen angegeben. Andere Copolymerisate der geeigneten Zusammensetzung werden in analoger Weise hergestellt.
Geeignete Monomere für die Abmischung der Copolymeren zu photopolymerisierbaren Schichten sind grundsätzlich alle Acryl- und Methacrylsäureester mit bis zu 8 C-Atomen im Alkoholrest, ferner Verbindungen wie Styrol und seine Homologen,
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ungesättigte Carbonsäureamide, N- oder C-Vinylamine wie Vinylcarbazol, deren Siedepunkte über 10O0C liegen. Diesen monofunktionellen Monomeren werden zweckmäßig gewisse Anteile fen bi- und polyfunktionellen äthylenisch ungesättigten Monomeren zugefügt. Geeignete Monomere, die mindestens zwei polymerisierbar Doppelbindungen enthalten, sind solche, die neben den Doppelbindungen noch Amidgruppen besitzen, wie Methylen-bis-acrylamid, Methylen-bis-methacrylamid sowie die Bis-acryl- oder Bis-methacrylamide von Äthylendiamin, Propylendiamin, Butylendiamin, Pentamethylendiamin, Hexamethylendiamin, Heptamethylendiamin, OctamethyIendiamin sowie von Polyaminen und anderen Diaminen, die verzweigt, durch Heteroatome unterbrochen sind oder cyclische Systeme enthalten.
Gut geeignet sind auch solche Monomere, die neben Amidgruppen noch Urethan- oder Harnstoffgruppen enthalten, wie die Umsetzungsprodukte von Diolmonoacrylaten oder -methacrylaten mit Diisocyanaten oder die von Alkylendiaminmonoacrylamiden mit Diisocyanaten.
Von Stickstoff enthaltenden Monomeren sind ferner geeignet Triacylformal oder Triallylcyanurat. Weiterhin geeignet sind die Di-, Tri- oder Tetra-acrylate oder -methacrylate von zwei- oder mehrwertigen Alkoholen und Phenolen. Die Verwendung bi- oder mehrfunktioneller polymerisierbarer Monomerer ist Jedoch nicht auf die obengenannte Auswahl begrenzt. Sie schließt auch andere Monomere mit mindestens zwei polymerisierbaren Doppelbindungen ein, sofern diese in ausreichendem Maße in den genannten teilverseiften Copolymeren von Äthylen mit Vinylestern verträglich sind, was sich durch einen einfachen Handversuch leicht feststellen läßt.
Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schichten enthalten vorzugsweise Gemische von 80 - 40 Gew.-% des Basispolymeren und 20 - 60 Gew,-96 der Monomeren mit mindestens 2 polymerisierbar en Doppelbindungen.
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Geeignete Photoinitiatoren sind in dem Buch von J.C. BLOINGTON "Radical Polymerization", Academic Press New York, 1961, beschrieben. Verbindungen dieses Typs sind z.B. Hydrazone, 5-gliedrige Stickstoff enthaltende heterocyclische Ringe, Mercaptoverbindungen, Pyrylium- oder Thiopyryliumsalze, Thiooxanthrone, Farbstoffredox-Systeme, Acridine oder Phenthiazine, wie z.B. in der deutschen Offenlegungsschrift 2,027,467 beschrieben. Wirksam sind ferner Dimere von Lophinen, z.B. 2,4,5-Triphenylimidazole, wie in den britischen Patentschriften 997,396 und 1,047,569 beschrieben. Erwähnt seien ferner oC-Phenyläthylalkohole gemäß deutscher Offenlegungsschrift 2,015,711 oder polynucleare Chinone wie Anthrachinon, 2-Methylanthrachinon, 2-tert.-Butylanthrachinon, Anthrachinon-2-carbonsäurebutylester oder Phenanthrenchinone. Brauchbar sind auch Benzophenon-Derivate, wie in der britischen Patentschrift 1,242,998 beschrieben, oder Verbindungen der Benzoin-Reihe wie Benzoin, Benzoinäther oder Hydroxymethylbenzoin, die in den britischen Patentschriften 1,209,867; 1,229,082 oder 1,265,604 oder den US-Patentschriften 3,639,321; 3,657,088; 3,607,693 oder 3,636,026 beschrieben sind.
Brauchbar sind ferner vicinale Ketaldonyl-Verbindungen, z.B. Diacetyl, Benzyl, JC -Ketaldonylalkohole wie die oben erwähnten Benzoine, Acyloinäther oder cC-substituierte aromatische Acyloine, außerdem Benzoylbenzalchlorid, Phenyl-methyl-diketon(o-Benzoyloxim), 2,2-Dibrom-1,3-dioxo-1,3-diphenylpropan und 2-Brom-2-phenylsulfon-1-oxo-i-phenyläthan. Die Photoinitiatoren werden zweckmäßig in einer Menge von ca. 0,001 - 5 % Gewichtsanteil, bezogen auf das Gesamtgewicht der Schicht, eingesetzt. Die Photoinitiatoren können allein oder in Mischung mit anderen Initiatoren verwendet werden.
Zur Verbesserung der Lagerstabilität ist es zweckmäßig, Inhibitoren wie Hydrochinon, p-Methoxyphenol, p-Chinon, Cu(I)-Chlorid, Methylenblau, <£-Naphthylamin, ß-Naphthol, Phenol, Azonitrile wie z.B. 1,1'-Azodicyclohexannitril, polynucleare Chinone wie z.B. 9,10-Anthrachinon, 1,4-Naphthochinon, 9,10-Phenanthren-
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chinon, Di-tert.-butylphenol, Phenothiazin, N-Nitroso-phenylhydroxylamin-Salze, 3-Methyl-2-pyrazolin-5-on, 2-Methylindol in Mengen von 0,001 - 0,3 Gew.-% der Schicht zuzusetzen.
Mitunter ist es vorteilhaft, weitere Lösungsmittel, z„B. zur Beeinflussung des Trocknungsverhaltens, Weichmacher, Gießhilfsmittel, Farbstoffe oder andere Füllmaterialien, die im Spektralbereich des die Photopolymerisation initiierenden Lichtes gar nicht oder möglichst wenig absorbieren, zuzusetzen. Ebenso kann es zweckmäßig sein, weitere inerte Polymere oder mono- oder polyfunktioneile Vinylverbindungen der Mischung zuzufügen.
Die Herstellung der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Schichten kann auf zweierlei Weise erfolgen:
A. Bei relativ hochschmelzenden und hochviskosen Abmischungen stellt man zunächst aus den Schichtbestandteilen, d.h. aus den Basispolymeren, den ungesättigten Monomeren, dem Photoinitiator und dem thermischen Inhibitor eine homogene Lösung z.B. in Alkohol her. Diese wird zu dünnen Schichten vergossen, die getrocknet und zu einem Granulat aufgearbeitet werden. Das Granulat wird dann in einer heizbaren Presse bei Temperaturen von 80 - 1100C und Drücken von 15-35 Atü thermoplastisch zu Platten verpreßt.
B. Bei einigen bereits im Bereich von 70 - 100°C schmelzenden und extrem niedrig viskosen Mischungen, d.h. vorzugsweise bei der Verwendung von Basispolymeren mit extrem hohen Werten für den sogenannten Schmelzindex kann man die Komponente auch direkt im Schmelzfluß zusammengeben und homogenisieren. Die Schichtherstellung erfolgt hier durch Aufkalandrieren der geschmolzenen Masse auf das Trägerblech (Alu, Stahl) gegebenenfalls unter Zuhilfenahme einer Polyester-Abedeckfolie, die sich nach dem Erkalten der Schicht leicht abziehen läßt.
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Die Belichtung der erfindungsgemäß hergestellten Schichten erfolgt mit den in der Reproduktionstechnik gebräuchlichen Lichtquellen wie Kohlebogenlampen, Xenonlampen, Quecksilberhochdrucklampen, die neben sichtbarem Licht einen für die Polymerisation besonders wirksamen Anteil an ultraviolettem Licht liefern. Die bildmäßige Vernetzungsreaktion kann auch durch andere energiereiche Strahlen wie Elektronen-, Röntgen- und ζ.Β« t' -Strahlen erreicht werden.
Nach der Belichtung werden die unbelichteten Schichtteile mit einem organischen Lösungsmittel gelöst und abgewaschen. Hierfür eignen sich vorzugsweise niedere Alkohole, insbesondere Methanol und Äthanol, denen gegebenenfalls geringe Mengen anderer Lösungsmittel, u.a. auch Aromaten oder DMF zugesetzt werden können.
Beispiel 1
Herstellung des Polymeren
25 kg Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat mit einem Gehalt von 69,2 Gew.-96 einpolymerisiertem Vinylacetat und mit einem bei der weiter unten näher definierten Bedingung E gemessenen Schmelzindex von 32,5 g/10 Min. werden in einem Edelstahl-Rührkessel in einem Gemisch aus 37,5 kg Methylacetat und 10 kg Methanol bei 6O0C gelöst und eine Lösung von 1 kg Natriummethylat in 2,25 kg Methanol gelöst zugegeben. Das Gemisch wird 6 Stunden auf 600C erwärmt und unter Rühren in 300 Liter Wasser ausgefällt, gewaschen und getrocknet. Das Produkt enthält 42,2 Gew.-96 Äthylen, 18,7 Gew.-% Vinylacetat und 39,1 Gew.-96 Vinylalkohol in einpolymerisierter Form und besitzt einen bei Bedingung C gemessenen Schmelzindex von 5,2 g/10 Min.
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Der Schmelzindex ist ein Maß für die Schmelzviskosität und damit auch für das Molekulargewicht des Polymeren. Die Messung erfolgt nach DIN 53 735 bei einer Belastung von 2,16 kp bei Bedingung B (125°C), C (15O°C) oder E (1900C).
Eine Lösung von 40 Teilen des oben beschriebenen Basispolymeren, 14 Teilen Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teilen Benzoylbenzalchlorid und 0,14 Teilen oC -Naphthylamin in 300 Teilen Äthylalkohol wird nach Verfahren A zu 1 mm dicken Schichten verpreßt.
Verarbeitung:
Die daraus entstehende Platte wird in einem Kopierrahmen, in welchem ein Rasternegativ mittels einer transparenten UV-durchlässigen Folie durch Vakuum auf die Plattenoberfläche festgesaugt wird, 9 Minuten mit einer Anordnung von 8 dicht nebeneinander liegenden Leuchtstoffröhren vom Typ Philips TL AK 40 W im Abstand von 5 cm belichtete Die belichtete Platte wird in Äthylalkohol durch Reiben mit Plüsch entwickelt. Ein 54-Raster wird in allen Teilen exakt wiedergegeben; es können in Abhängigkeit von der Rasterpunktgröße keine wesentlichen Abweichungen in der Flankensteilheit und in der Größenwiedergabe festgestellt werden» Die Flanken sind sehr glatt, die Punktkanten bis herab zum 3 %igen Punkt scharf.
Beispiel 2
Herstellung des Polymeren
21,2 kg Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat mit einem Gehalt von 61,5 Gewe-% einpolymerisiertem Vinylacetat und einem bei Bedingung B gemessenen Schmelzindex von 9,4 g/10 Min. werden in einem Rührkessel in einem Gemisch aus 25 kg trockenem Toluol und 3 kg Methanol gelöst und unter Rühren eine Lösung
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von 212 g Natriummethylat in 5 kg trockenem Methanol zugegeben. 6 Stunden wird dann die Lösung auf. 6O0C erwärmt und das Polymere durch Eintragen in ca. 100 kg Wasser ausgefällt» Nach Abdestillieren der organischen Lösungsmittel unter vermindertem Druck als Wasser-Azeotrop wird das Polymere abfiltriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Das Polymerisat enthält 53,5 Gew.-% Äthylen, 5,6 Gew.-% Vinylacetat und 40,9 Gew.-% Vinylalkohol in einpolymerisierter Form und besitzt einen bei Bedingung C gemessenen Schmelzindex von 44,8 g/10 Min.
Eine Lösung von 40 Teilen des oben beschriebenen Basispolymeren, 14 Teilen Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teilen Benzοinisopropylather und 0,14 Teilen dC -Naphthylamin in 300 Teilen Butanol wird getrocknet und zu Platten verpreßt. Nach Belichtung wie im Beispiel 1 und Entwicklung in Butanol wird ein Relief erhalten, das bezüglich seiner Eigenschaften dem in Beispiel 1 genannten entspricht.
Beispiel 3
Eine Lösung von 40 Teilen eines verseiften Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisats (22,2 Gew.-% Äthylen, 45,7 Gew.-% Vinylacetat und 32,1 Gew.-% Vinylalkohol), 14 Teilen Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teilen Benzoinmethyläther und 0,0066 Teilen Phenothiazin in 300 Teilen Dimethylformamid wurde wie in Beispiel 1 zu Preßlingen verarbeitet. Nach Belichten und Entwickeln konnte eine dem Beispiel 1 entsprechende Reliefabbildung eines 54-Rasters erreicht werden.
Beispiel 4
Eine Lösung von 40 Teilen eines verseiften Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisats (54,1 Gew.-% Äthylen, 18,4 Gew„-% Vinylacetat, 27,5 Gew.-% Vinylalkohol), 14 Teilen Bis-(N-methylol-
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acrylamid)-glykoläther, 2 Teilen Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teilen Phenothiazin in 300 Teilen Äthanol wird weiterverarbeitet wie in Beispiel 1 beschrieben. Man erhält nach dem Entwickeln in Äthanol ein hervorragendes Rasterrelief.
Beispiel 5
Eine Lösung von 40 Teilen eines verseiften Äthylen-Vinylacetat-Copolymerisats (33,6 Gew.-% Äthylen, 37,7 Gew.-# Vinylacetat und 28,7 Gew„-96 Vinylalkohol), 3 Teilen N,N'-Methylen-bis-acrylamid, 5,5 Teilen Ν,Ν'-Äthylen-bis-acrylamid, 5,5 Teilen N,N'-Butylen-bis-acrylamid, 2 Teilen Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teilen Phenothiazin in 300 Teilen Methanol wird wie in Beispiel 1 beschrieben weiterverarbeitet; man erhält nach dem Belichten und Entwickeln des daraus gefertigten Preßlings mit Methanol ein hochwertiges Reliefbild der Rastervorlage .
Beispiel 6
Eine Lösung von 40 Teilen eines verseiften Äthylen/Vinylacetat-Copplymerisats (55,6 Gewo-% Äthylen, 1,9 Gew.-% Vinylacetat und 42,5 Gew.-% Vinylalkohol), 14 Teilen Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teilen Benzoinmethyläther und 0,0066 Teilen Phenothiazin in 300 Teilen Butanol wird wie in Beispiel 1 weiterverarbeitetο Man erhält nach dem Belichten und Entwickeln in einem Gemisch von Äthanol/Xylol 3:1 ein Reliefbild der Rastervorlage, das in ausgezeichneter Weise als Druckform verwendet werden kann«
Die in den folgenden Beispielen angegebenen Lösungen werden wie in Beispiel 1 beschrieben zu Preßlingen verarbeitet und dann wie dort angegeben daraus Reliefbilder hergestellt. Diese Reliefbilder'eignen sich in hervorragender Weise als Druckformen.
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Beispiel 7
-a·
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/VinyIacetat-Copolymerisat (54,8 Gew.-% Äthylen, 1,6 Gew.-96 Vinylacetat und 43,6 Gew.-96 Vinylalkohol), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Fhenothiazin in 300 Teilen Butanol.
Entwickler: Äthanol/Xylol 3:1
Beispiel 8
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (62 Gew.-96 Äthylen, 1,6 Gewe-96 Vinylacetat und 36,4 Gew.-96 Vinylalkohol), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Phenothiazin in 300 Teilen Butanol.
Entwickler:
Äthanol/Xylol 3:1 Volumenteile
Beispiel 9
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (42,2 Gew.-96 Äthylen, 18,7 Gew.-96 Vinylacetat und 39,1 Gew.-96 Vinylalkohol), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Fhenothiazin in 300 Teilen Alkohol.
Entwickler: Methanol„
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Beispiel 10
Lösung: - /**
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (42,2 Gew.-# Äthylen, 18,7 Gew„-% Vinylacetat und 39,1 Gewo-% Vinylalkohol), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-t>utandiol-1,4-äther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,006 Teile Phenothiazin in 300 ml Äthanol.
Entwickler: Methanol.
Beispiel 11
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (42,2 Gew.-% Äthylen, 18,7 Gew.-% Vinylacetat und 39,1 Gewo-% Vinylalkohol), 5 Teile Bis-(Äthylacrylat)1,6-hexamethylendiurethan, 5 Teile Cyanursäuretriallylester, 4 Teile Bis-N-methylolacrylamid-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,006 Teile Phenothiazin in 300 Teilen Äthanol„
Entwickler: Methanol.
Beispiel 12
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (42,2 Gew.-% Äthylen, 18,7 Gew.,-% Vinylacetat und 39,1 Gew.-% Vinylalkohol), 7 Teile Bis-(Äthylacrylat)-I,6-hexamethylendiurethan, 7 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,006 Teile Phenothiazin in 300 Teilen Äthanol..
Entwickler: Methanol.,
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Beispiel 13:
ft-
Losung: '
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (20,2 Gew.-% Vinylacetat, 31,4 Gew.-% Äthylen und 48,3 Gew„-% Vinylalkohol), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Fhenothiazin in 300 Teilen Methanol.
Entwickler: Methanol. Beispiel 14
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (53,5 Gew.-# Äthylen, 5,6 Gew.~% Vinylacetat und 40,9 Gew.-96 Vinylalkohol), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Phenothiazin in 300 Teilen Butanol.
Entwickler: Äthanol. Beispiel 15
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (20,2 Gew.-% Vinylacetat, 31,4 Gew.-% Äthylen und 48,3 Gew.-% Vinylalkohol), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-hexandiol(1,6)äther, 2 Teile p-Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Fhenothiazin in 300 Teilen Methanol.
Entwickler: Methanol*
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Beispiel 16
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (20,2 Gew.-% Vinylacetat, 31,4 Gew.-% Äthylen und 48,3 Gew.-% Vinylalkohol), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)1,4-cyclohexandioläther, 2 Teile p-Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Phenothiazin in 300 Teilen Methanol.
Entwickler: Methanol. Beispiel 17
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (14,6 Gew.-% Vinylacetat, 33,4 Gew.-% Äthylen und 52 Gew.-% Vinylalkohol), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile p-Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile"Phenothiazin in 300 Teilen Methanol.
Entwickler: Methanol. Beispiel 18
Lösung:
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (6,3 Gew.-% Vinylacetat, 45,3 Gew.-% Vinylalkohol, 34,6 Gew.-% Äthylen, 13,9 Gew.-96 Pivalinsäurevinylester), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Phenothiazin in 300 Teilen Äthanol.
Entwickler: Äthanol.
A-G 1058 - 15 -
409836/0568
Beispiel 19
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (4,2 Gew.-96 Vinylacetat, 20,6 Gew.-96 Vinylalkohol, 23,1 Gew.-96 Äthylen, 52,1 Gew.-% Vinylphthalat), 14 Teile Bis-iN-methylolacrylamidJ-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Fhenothiazin in 300 Teilen Dimethylformamid.
Entwickler: Dimethylformamid. Beispiel 20
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (6,4 Gew.-% Vinylacetat, 45,8 Gew.-96 Vinylalkohol, 38 Gew.-96 Äthylen, 12,4 Gew.-96 Vinylmethylurethan), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Fhenothiazin in 300 Teilen Methanol.
Entwickler: Methanol. Beispiel 21
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (5,2 Gew.-96 Vinylacetat, 22,6 Gewo-96 Vinylalkohol, 28,7 Gewo-96 Äthylen, 43,5 Gew.-96 Vinylmethylurethan), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Phenothiazin in 300 Teilen Äthanol.
Entwickler: Äthanol.
A-G 1058 - 16 -
409836/0568
Beispiel 22 »ηβ
40 Teile verseiftes Äthylen/vinylacetat-Copolymerisat (6,2 Gew.-96 Vinylacetat, 9,8 Gew„-96 Vinylalkohol, 33,9 Gewe-96 Äthylen, 50,7 Gew.-% Vinylmethylurethan), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylbenzalchlorid und 0,0066 Teile Phenothiazin in 300 Teilen Methanol.
Entwickler: Methanol. Beispiel 23
40 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (6,3 Gew.-96 Vinylacetat, 45,3 Gew.-96 Vinylalkohol, 34,6 Gew.-% Äthylen, 13,9 Gew.-96 Buttersäurevinylester), 14 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-glykoläther, 2 Teile Benzoylchlorid und 0,006 Teile Ftienothiazin in 300 Teilen Methanol.
Entwickler: Methanol.
Beispiele für Schmelzsysteme
Folgende Mischungen wurden nach Methode B verarbeitet:
Beispiel 24
5 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (55,6 Gew.-% Äthylen, 1,9 Gew.-96 Vinylacetat, 42,5 Gew.-96 Vinylalkohol ),
4 Teile Methoxymethylacrylsäureamid, 2 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-(1,6)-hexamethylendioläther, 0,2 Teile Benzoylbenzalchlorid, 0,008 Teile p-Nitrosophenol.
Entwickler: Äthanol.
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Beispiel 25
5 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (62 Geva-% Äthylen, 1,6 Gewe-% Vinylacetat, 36,4 Gew.-% Vinylalkohol),
4 Teile Methoxymethylacrylsäureamid,
2 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-(1 ,6)-hexamethylendioläther, 0,2 Teile Fhenyl-methyl-diketon-(O-benzoyloxim), 0,008 Teile p-Nitrosophenol.
Entwickler: Äthanol„
Beispiel 26
5 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (54,8 Gew.-% Äthylen, 1,6 Gew.-% Vinylacetat, 43,6 Gewe-% Vinylalkohol),
4 Teile Methoxymethylacrylamid,
2 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-1^-cyclohexandioläther, 0,2 Teile Hydroxymethylbenzoin,
0,002 Teile p-Nitrosophenolβ
Entwickler: Äthanol.
Beispiel 27
5 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (55,6 Gew.-96 Äthylen, 1,9 Gewe-% Vinylacetat, 42,5 Gewo-# Vinylalkohol),
3 Teile Methoxymethylacrylsäureamid,
3 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-1 ^-cyclohexandioläther, 0,2 Teile Phenyl-methyl-diketon-(O-benzoyloxim), 0,008 Teile p-Nitrosophenol.
Entwickler: Äthanol»
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Beispiel 28
5 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (54,8 Gew.-% Äthylen, 1,6 Gew.-% Vinylacetat, 43,6 Gew.-% Vinylalkohol),
2 Teile Acrylamid,
4 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-(1,6)-hexamethylendioläther, 0,2 Teile Benzoylbenzalchlorid, 0,002 Teile p-Nitrosophenol;
Entwickler: Äthanol. Beispiel 29
5 Teile verseiftes Äthylen/Vinylacetat-Copolymerisat (42,2 Gew.-% Äthylen, 18,7 Gewo-?6 Vinylacetat, 39,1 Gew.-% Vinylalkohol),
4 Teile Bis-(N-methylolacrylamid)-(1,6)-hexamethylendioläther, 4 Teile Acrylamid,
0,1 Teile Methylenbisacrylamid, 0,2 Teile Benzoylbenzalchlorid, 0,002 Teile p-Nitrosophenol.
Entwickler: Äthanol.
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Claims (4)

  1. Patentansprüche
    Lichtempfindliches Material mit einer gegebenenfalls auf einem Schichtträger befindlichen lichtempfindlichen Polymerschicht, die ein Basispolymer, Monomere mit mindestens
    2 polymerisierbaren. Doppelbindungen und einen Fhotoinitiator enthält, dadurch gekennzeichnet, daß als Basispolymer ein ternäres Copolymerisat aus 20 - 60 Gew.-96 Vinylalkohol-Einheiten, 20 - 65 Gew.-96 Äthylen- oder Vinylchlorid-Einheiten und 0,1 - 50 Gew.-56 Vinylester-Einheiten enthalten ist«
  2. 2. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein ternäres Copolymerisat aus .Vinylalkohol-, Äthylen- und Vinylacetat-Einheiten enthalten ist.
  3. 3 · Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,, daß die Schicht 80-40 Gew.-96 des Basispolymeren und 20 - 60 Gew.-96 der Monomeren mit mindestens 2 polymerisierbaren Doppelbindungen enthält.
  4. 4. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch einen Gehalt an 40 - 65 Gew.-96 Äthylen-, 30 - 60 Gew.-96 Vinylalkohol- und 0,1 - 5 Gew.-96 Vinylacetat-Einheiten·
    A-G 1058 - 20 -
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2583759A1 (fr) * 1985-06-20 1986-12-26 Atochem Films de polyolefines photoreticulables et leur procede de fabrication
EP0223114A2 (de) * 1985-11-19 1987-05-27 BASF Aktiengesellschaft Durch Photopolymerisation vernetzbare Gemische
EP0540050A1 (de) * 1991-11-01 1993-05-05 Hercules Incorporated Erhöhung der Haftung von photopolymerisierbaren Trockenfilmzusammensetzungen auf Trägern

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2583759A1 (fr) * 1985-06-20 1986-12-26 Atochem Films de polyolefines photoreticulables et leur procede de fabrication
EP0206894A1 (de) * 1985-06-20 1986-12-30 Elf Atochem S.A. Filme aus fotovernetzbaren Polyolefinen und deren Herstellungsverfahren
EP0223114A2 (de) * 1985-11-19 1987-05-27 BASF Aktiengesellschaft Durch Photopolymerisation vernetzbare Gemische
EP0223114A3 (en) * 1985-11-19 1988-08-31 Basf Aktiengesellschaft Compositions reticulated by photopolymerization
EP0540050A1 (de) * 1991-11-01 1993-05-05 Hercules Incorporated Erhöhung der Haftung von photopolymerisierbaren Trockenfilmzusammensetzungen auf Trägern

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