DE2263804A1 - Verfahren zur herstellung einer photopolymerplatte - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer photopolymerplatte

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DE2263804A1
DE2263804A1 DE19722263804 DE2263804A DE2263804A1 DE 2263804 A1 DE2263804 A1 DE 2263804A1 DE 19722263804 DE19722263804 DE 19722263804 DE 2263804 A DE2263804 A DE 2263804A DE 2263804 A1 DE2263804 A1 DE 2263804A1
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Tsutomu Nakamura
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Description

  • Verfahren zur Herstellung einer Photpolymerplatte Die Erfindung bezieht sich auf eine Photopolymerplatte, die Reliefbildbvereiche aufweist. Sie betrifft speziell die Behandlung von Photopolymerplatten, um die Härte und Pestigkeit von Reliefbildbereichen dieser Photopolymerplatten zu verbessern.
  • Bildtragende Gegenstande, wie Reliefplatten, können gebildet werden, indem eine Schicht einer lichtempfindlichen Masse einer gewünschten Dicke auf einem geeigneten Substrat gebildet wird, die erhaltene Schicht durch ein bildtragendes Diapositiv mit aktinischer Strahlung belichtet wird, beispielsweise durch ein photographisches Negativ, um die Bildbereiche zu photopolymerisieren, die nicht belichteten Bereiche mit einer wäßrigen alkalischen Lösung oder einen lösungsmittel ausgewaschen und die erhaltenen Reliefplatten getrocknet werden.
  • Um die Härte und Festigkeit der Reliefbildbereiche zu er.
  • höhen, wenn Musterplatten zur Matrizenprägung und Reliefdruckplatten mit hoher Druckbeständigkeit oder Reliefdruckplatten, die Abdrucke hoher Qualität liefern, hergestellt werden, wird außerdem die gesamte Oberfläche der erhaltenen Reliefdruckplatten mit aktinischer Strahlung nachbelichtet, um die Photoreaktion weiterzufilhren und die Härtung der Reliefbildbereiche zu vervollständigen. Im allgemeinen besteht die Neigung, daß diese Nachbelichtung durch molekularen Sauerstoff der Luft verzögert wird und es ist daher schwierig, die Oberfläche der Polymerplatten nur durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung vollständig zu härten. Bei dieser Nachbelichtung können jedoch die Seiten der Reliefbildbereiche und insbesondere feine Punkte oder feine Linien, d.h., die Grenzbereiche zwischen Bildbereichen und nicht belichteten Bereichen, nicht vollständig gehärtet werden. So bleibt die Oberfläche von Reliefplatten viskos und verursacht verschiedene Nachteile, wie das Anhaften von Matern an der Musterplatte bei der Durchführung der Matrizenprägung, das Ansammeln von Staub aus Druckpapier in den Reliefplatten und Bahnbrüche des Druckpapiers, das während eines Druckvorgangs klebrig oder viskos geworden ist.
  • Außerdem verbleibt gemaß einem Verfahren zur Herstellung von rhotopolymerplatten, das in US-PS 3.663.222 beschrieben ist, diese Klebrigkeit noch in der Trägerschicht, die durch Belichten einer lichtempfindlichen Masse von der Unterseite her mit aktinischem Licht, d.h., von der gegeniiherliegenden Seite eines bildtragenden Diapositiss, gebildet wurde, und verursacht häufig ähnliche Nachteile, wie die vorstehend beschriebenen. Die feinen Punkte und Linien, die im hinblick auf ihr Volumen größere Seitenbereiche aufweisen, können nicht vollständig gehärtet werden. Selbst durch Hachbelichtung ist es schwierig, die Reliefbildbereiche zu härten und zu festigen.
  • Um diese Nachteile auszuschalten, wurden bereits verschiedene Methoden vorgeschlagen. Eine Methode besteht in der Nach belichtung der Platten in einer Inertgasatmosphäre, wie gasförmigen Kohlendioxid oder Stickstoff. busse methode erfordert jedoch eine gasdicht-verschlossene Vorrichtung und das Verdrängen der luft mit diesen Inertgas für jede Platte.
  • Eine andere Methode besteht darin, die Oberfläche der Platten mit einem Kunstharzfilm oder mit Cellophanpapier zu bedecken, um Luft von der Oberfläche auszuschließen. Es ist jedoch unmöglich, dieses Verfahren auf Reliefplatten anzuwenden, die einer Belichtung zum Ausbilden von Reliefbildern und dem Auswaschen von nicht belichteten Bereichen unterworfen murden.
  • Erfindungsgemäß wurde nun fetgestellt, daß Reliefbildbee reiche einer Photopolymerplatte an der Oberfläche vollständig gehärtet werden können, indem lediglich eine Photopolymerplatte, die Reliefbildbereiche aufweist, mit einer wäßrigen Lösung oder Emulsion behandelt wird die mindestens eine Membran-bildende polymere Verbindung oder Wachs enthält, und die gesamte Photopolymerplatte mit aktiniscller Strahlung nachbelichtet wird.
  • Gegenstand der Erfindung ist daher ein Verfahren zur Herstellung einer Photopolymerplatte mit Reliefbildbereichen durch Belichten eines lichtempfindlichen Materials mit aktinischer Strahlung durch ein bildtragendes Diapositiv, Entfernen der nicht belichteten Bereiche des lichtempfindlichen Materials und Nachbelichten der gesamten, Reliefbildbereiche tragenden Photopolymerplatte mit aktinischer Strahlung, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Photopolymerplatte vor der Nachbelichtung mit einer wäßrigen Lösung oder Emulsion behandelt wird, die etwa o,o5. bis etwa 60 Gew.-% mindestens einer Membran-bildenden polymeren Verbindung oder Wachs enthält.
  • Es wurde gefunden, daß durch die erfindungsgemäße Behandlung einer Photopolymerplatte mit der wäßrigen Lösung oder Emulsion, wenn diese zusätzlich mindestens ein Reduktionsmittel enthält, die Dauer der Nachbelichtung, die zum vollständigen Aushärten der Reliefbildbereiche einer Photopolymerplatte erforderlich ist, merklich verkürzt wird.
  • Beispiele für geeignete Membran-bildende polymere Verbindungen und Wachse, die zur Herstellung der erfinduneseemaß verwendeten wäßrigen Lösungen oder Emulsionen geeignet sind, umfassen Natriumalginat, Gummiarabicum, Casein, wasserlösliche Celluloseverbindungen, wie Carboxy-methylcellulose, Methylcellulose, Äthylcellulose, Hydroxyäthyl-cellulose, Stärke und Stärkederivate, wie Natriumstärkeglycolat, wasserlösliche polymere Verbindungen, wie Polyvinylalkohol und dessen Teilester, Äther und Acetale, Polyvinyl-pyrrolidon, Polyacrylsäure, Natrium-polyacrylat, Poyacrylamid, Polymere von Äthylenoxid mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von etwa lo.ooo bis 2.ooo.ooo, Methylvinyl/Malein säureanhydrid-Copolymere, mineralische Wachse, wie Paraffinwachs, pflanzliche Wachse, wie Carnauba, Japanwachs, tierische achse, Naturwachse, wird Bienenwachs, synthetische Wachse, flüssiges Paraffin, Polystyrol und Styrol-Copolymere, Polyvinylidenchlorid und dessen Copolymere, Polyvinylacetat und dessen Copolymere und Polyacrylate und Acrylat-Copolymere.
  • Die Konzentration der Membran-bildenden polymeren Verbindung oder des Wachses wird in der Weise eingestelt, daß die Dicke der auf die Photopolymerplatte aufgetragenen tembran etwa o,ol Mikron bis etwa 50 Mikron, vorzugsweise o,l Mikron bis 20 Mikron beträgt. Wenn die Dicke geringer als o,ol Mikron ist, werden die gewünschten Wirkungen kaum erzielt @ Wenn andererseits die Dicke einen Wert von mehr als etwa 50 Mikron annimmt, werden sehr enge oder kleine nicht erhabene Bildbereiche mit der polymeren Verbindung oder dem Wachs angefüllt und die Dicke der aufgetragenen Membran wird ungleichmäßig. Infolgedessen geht die Genauigkeit der Dicke der resultierenden Photopolymerplatte verloren und die Qualität der Drucke wird vermindert.
  • Um diese geeignete Dicke zu erzielen, liegt die Konzentration der Membran-bildenden polymeren Verbindung oder des Wachs es im Bereich von etwa 0,05 bis 60 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 20Gew.-% Zu Beispielen für geeignete Reduktionsmittel, die verwendet werden können, um die Dauer der Nachbelichtung zu verkürzen, gehören folgende Verbindungen: (1) Thioharnstoff-Verbindungen der allgemc inia P orme L in der R1, R2, R3 und R4 je für ein Wasserstoffatom, eine Allylgruppe, amino-, Acetyl-, Phenyl- oder Alkylgruppe mit höchstens lo Kohlenstoffatomen stehen. Zu Beispielen für diese Thioharnstoff-Verbindungen gehören Thioharnstoff, Allylthioharnstoff, N,N-Diallylharnstoff, N,N'-Diallylthioharnstoff, Triallylthioharnstoff, Tetraallylthioharnstoff, Methylthioharnstoff, Äthylthioharnstoff, n-Propyltioharnstoff, Isopropylthioharnstoff, n-Butylthioharnstoff, N,N-Diäthylthioharnstoff, N,N'-Allylmethylthioharnstoff, N,N'-Diallylmethylthionharnstoff, N,N'-Methyläthylthioharnstoff, N,N'-Dimethyläthylthioharn5toff, N,N'-Dimethylallylthioharnstoff, Phenylthioharnstoff, N,N'-Diphenylthioharnstoff, N',N'-Phenylmethylthionharnstoff, N,N'-Diphenylmethylthionharnstoff, Acetylthionharnstoff, N,N-Diacetylthioharnstoff, N,N'-Diacetylthioharnstoff, N,N'-Acethyläthylthionharnstoff, N,N'-Diacetylmethylthioharnstoff, N,N'-Acethyläthylthionharnstoff, und Thiosemicarbazid.
  • (2) Monosacharide und Disacharide einschließlich Glucose, Mannose, Galactose, Lactose und Maltose, (3) Ascorbinsäure, (4) Äthylendiamin-tetraessigsäure und deren Alkalimetallsalze, einschließlich das Natriumsalz und Kaliumsalz von Äthylendiamin-tetraessigsäure, (5) Oxalsäure und deren Alakllmetallsalze, einschließlich Natriumoxylat, Kaliumoxalat und Kaliumhydrogenoxalat, (6) Salze der Thionschwefelsäure, einschließlich Natriumthionsulfat, Kaliumthionsulfat, Calciumthionsulfat und Ammoniumthionsulfat, (7) salzartige Thiocyanate, einschließlich Natriumthioncyanat, Kaliumthioncyanat, Calciumthioncyanat und Ammoniumthiocyannat.
  • (8) Stannosalze, einschließlich Stannochlorid, Stannobromid, Stannosulfat und Stannooxalat, und (9) Ferrosalze, einschließlich Ferrochlorid, Ferrobromid, Ferrosulfat, Ferroammoniumsulfat und Ferroacetat.
  • Die Konzentration des Reduktionsmittels liegt im Bereich von etwa o,ool Gew.-gO bis zur Sättigung, wobei der bevorzugte Bereich o,ol Gew.- bis 30 Gew.- beträgt. Wenn die Konzentration unter o,ool Gew.-% abfällt, werden die gewünschten Wirkungen kaum erzielt.
  • Zur Herstellung der wäßrigen Emulsionen kann jeder übliche Emulgator verwendet werden. Zu Beispielen für geeignete Emulgatoren gehören nichtionische, anionische und kationische oberflächenaktive Mittel, wie Polyoxyäthylen-nonylphenyläther, olyoxyäthylen-alkyläther, Sorbitan-fettsäureester, Natriumalkylsulfate und -sulfonate mit 12 bis 18 Kohlenstoffatomen, Alkylaminocarboxylate und -dicarboxylate.
  • Die Konzentration des Emulgators liegt typischer Weise'in Bereich von etwa o,ol bis 20 Gew.-%.
  • Um die Stabilität der wäßrigen Emulsionen zu verbessern, können außerdem kolloidale Kieselsäure, Polyäthylene mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von etwa 500 bis 5.ooo, Kolophonium, Harnstoff, Fettsäuren, organische Lösungsmittel und Ammoniak zur Herstellung der wäßrigen Emulsionen verwendet werden.
  • Die erfindungsgemäßen wäßrigen Lösungen oder Emulsionen werden leicht und einfach durch Auflösen oder Emulgieren der Membran-bildenden polymeren Verbindung oder des Wachses für-sich oder Iflein.9an-. mit dem Reduktionsmittel in Wasser hergestellt.
  • Wenn die Membran-bildende polymere Verbindung oder das Wachs allein oder gemeinsam mit dem Reduktionsmittel in einem organischen Lösungsmittel gelöst und die resultierende Lösung anstelle der wäßrigen Lösung oder Emulsion verwendet wird, ist es möglich, Reliefbildbereiche einer Polymerplatte vollständig zu härten. Die Photopolymerplatte neigt jedoch zum Quellen und die Festigkeit der Reliefbildbereiche wird vermindert.
  • Außerdem ist die praktische Verwendung von organischen Lösungsmitteln mit zahlreichen Nachteilen verbunden, wie Entzündlichkeit, Toxizität, störender Geruch und aufwendige Wiedergewinnung der verflüchtigten organischen Lösungsmittel.
  • Zur Behandlung einer Photopolymerplatte mit der wäßrigen Lösung oder Emulsion, die eine Membran-bildende polymere Verbindung oder ein Wachs, gegebenenfalls zusammen mit einem Reduktionsmittel enthält, kann jede übliche Methode angewendet werden. So wird beispielsweise die.Photopolymerplatte einige Sekunden bis etwa 5 lilinuten in die wäßrige Lösung oder Emulsion eingetaucht. Außerdem kann die wäßrige Lösung oder Emulsion auf die Photopolymerplatte durch Besprühen, mit Ililfe eines Walzenpaares oder einer Bürste oder eines Pinsels aufgetragen werden.
  • Die so behandelte Photopolymerplatte wird nachbelichtet. Die Photopolymerplatte kann vor, nach oder gleichzeitig mit der Nachbelichtungsstufe getrocknet werden.
  • Die Nachbelichtung erfolgt mit aktinischer Strahlung einer Wellenlange von etwa ?.ooo bis 8.ooo Ängatrömeinheiten. Zu praktischen Quellen fiir diese aktinische Strahlung gehören Kohlenbogenlampen, Hochdruck-Quecksilberlampen, Superhochdruck-Quecksilberlampe, Niederdruck-Quecksilberlampen, Xenonlampen, Ultraviolett-Fluoreszenzlampen und Tageslicht.
  • Die Belichtungsdauer beträgt etwa 5 Sekunden bis 30 Minuten.
  • Die Membran, die auf der Oberfläche der Reliefbildbereiche durch die erfindungsgemäße Behandlung ausgebildet wurde, dient dazu, die Photohärtungsreaktion an der Oberfläche der Reliefteile zu vervollständigen und führt zu einer Verfestigung der Reliefbildbereiche, die feine Punkte und feine Linien aufweisen und zum Verbessern der Druckbeständigkeit von Photopolymerplatten. Wenn die Membran aus einer erfindungsgemäßen wäßrigen Paraffinwachsernulsion gebildet wird, wird die Wasserbeständigkeit der Photopolymerplatten erhöht und darüber hinaus wird bei Verwendung einer Photopolymerplatte als Musterplatte zur Matrizenprägung die Photopolymerplatte kaum durch das in der Papierbahn enthaltene Wasser beeinflußt und auf diese Weise wird die Wirksamkeit der Bildung des Musters verbessert.
  • Die erfindungsgemäße Behandlung mit einer wäßrigen Lösung oder Emulsion ist besonders wirksam für lichtempfindliche Materialien des Photopolymertyps, die in den US-Patentschriften 2902365, 2927022, 2946611, 3024180, 2927710 und 2972540 und der japanischen Patentveröffentlichung 29525/1971 sowie den US-Patentschriften 3556791, 3628963 und 3663222 sowie der US-Patentanmeldung 291992 vom 24.Nov. 1971 beschrieben sind.
  • Die erfindungsgemäße Behandlung ist besonders wirksam für ein lichtempfindliches Material, das (a) einen ungesättigten Polyester, (b) mindestens ein äthylenisch ungesättigtes Monomeres, (c) einen Photopolymerisationsinitiator und (d) einen thermisehen Polymerisationsstabilisator umfaßt.
  • Ungesättigte Polyester können nach üblichen Methoden hergestellt werden. Gewöhnlich wird ein ungesättigter Polyester durch direkte Veresterung, Umesterung oder Additionsreaktion} aus einer Alkoholkomponente, die mindestens ein Polyol umfaßt, und einer Säurekomponente, die mindestens eine ungesättigte Dicarbonsäure und/oder deren Anhydrid und/oder Dimethyl-oder Diäthylester einer solchen Carbonsäure umfaßt, und gewünschtenfalls einer gesättigten Mono-, Di-, oder Polycarbonsäure, Anhydriden einer ungesättigten Monocarbonsäure oder deren Methyl- oder ethylester hergestellt.
  • Beispiele für ungesättigte Dicarbonsäuren, Anhydride und Methyl- oder Äthylester solcher ungesättigten Dicarbonsäuren, die zur Herstellung eines ungesttien Polyesters verwendet werden, sind Maleinsäure, Fumarsäure, Citraconsäure, Mesaconsäure, Itaconsäure, Glutaconsäure, Muconsäure, Aconitsäure, Dimethyl- oder Diäthylester dieser Säuren oder ihre Anhydride, insbesondere Maleinsäureanhydrid, Citraconsäureanhydrid und Itaconsäureanhydrid.
  • Zu Beispielen für geeignete gesättigte Dicarbonsäuren, deren Anhydride und Methyl- oder ethylester gehören Oxalsäure, Malonsäure, Bernsteinsäure, Glutarsäure, Adipinsäure, Pimelinsäure, Korksäure, Azelainsäure, Sebacinsäure, Methylmalon säure, Methylbernsteinsäure, Phthalsäure, Isephthalsäure, Terephthalsäure, deren Dimethyl- oder Diäthylester sowie Phthalsäureanhydrid.
  • Beispiele für geeignete Diole, die zur Bildung der ungesättigten Polyester verwendet werden können, sind Äthylenglycol, l,2-Propylenglycol, Propandiol-1,3, Butandiol-1,4, Diathylenglycol, Dipropylenglycol, Polyäthylenglycole mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von mindestens etwa 150, Polypropylenglycole mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von mindestens etwa 192, Polybutylenglycole mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von mindestens etwa 162 und Copoly(oxyäthylenoxypropy1en)glycole mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von mindestens etwa 120.
  • Zu Beispielen für geeignete äthylenisch ungesättigte Monomere gehören Acrylsäure, Methacrylsäure, Methylacrylat, Äthylacrylat, n-Propylacrylat, Isopropylacrylat, n-Hexylacrylat, n-Octylacrylat, n-Dodecylacrylat, Cyclohexylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat, Allylacrylat, Glycidylacrylat, Styrol, Vinyltoluol, Divinylbenzol, Carboxystyrol, Diallylphthalat, Triallylcyanurat, Vinylacetat, Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylainid, N-Methylolmethacrylamid, N-Methoxymethylacrylamid, N-Methoxymethylmethacrylamid, N-Äthoxymethylacrylamid, N-Äthoxymethylmethacrylamid, N-n-Propoxymethylacrylamid, N-Isopropoxymethylmethacrylamid, N-n-Butoxymethyl-acrylamid, N-Isobutoxymethylmethacrylamid, N,N'-Methylenbisacrylamid, N,N'-Methylenbismethacrylamid, N,N'-Trimethylenbisacrylamid, N,N'-Trimethylenbismethacrylamid, N,N1-Hexamethylenbisacrylamid, N,N'-IIexamethylenbismethacrylamid, 2-Hydroxyäthylacrylat, 2-Hydroxyäthylmethacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat, 3-Chlor-2-hydroxypropy lacrylat, 3-Chlor-2-hydroxypropylmethacrylat, 4-Hydroxybutylacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, Diathylenglycolmonoacrylat, Diäthylenglycolmonomethacrylat, Dipropylenglycolmonoacrylat, Dipropy1eng1ycomonomethacrylat, Polyäthylenglycol (durchschnittliches Molekulargewicht etwa 150 bis 200)-monoacrylat, Polyäthylenglycol (durchschnittliches Molekulargewicht etwa 150 bis 200)-monoathacrylat, Polypropylenglycol (durchschnittliches Molekulargewicht etwa 150 bis 2oo)-monoscrylat und Polypropylenglycol (durchschnittliches Molekulargewicht etwa 350 bis 2oo)-monomethacrylat, Athylenglycoldiacrylat oder -methacrylat, Diäthylenglycol-di-acrylat oder -methacrylat, Trîithylenrlycol-di-acrylat oder -:nethacry at, Tetraätbylenglycol -di-acrylat oder -methacrylat, Polyathylenglycol (durchschnittliches Molekulargewicht etwa 200 bis l.ooo) -di-acrylat oder -methacrylat, Propylenglycol-di-acrylat odermethacrylat, Dipropylenglycol-di-acrylat oder -methacrylat, Polypropylenglycol (durchschnittliches Molekulargewicht loo bis l.ooo)-di-acrylat oder -methacrylat, Butylenglycol-di-acrylat oder -methacrylat, Trimethyloläthan-triacrylat oder -methacrylat, Trimethylolpropan-tri-acrylat oder -methacrylat und Pentaerythrit-tetraacrylat oder -methacrylat, Acrylamide einschließlich N-3-Oxopropylacrylamid, N-3-Oxobutylacrylamid, N-3-Oxo-l-methyl-butylacrylamid, N-3-Oxo-l-methyl-l, 3-Diäthy'l-propylacrylamid, N-3-Oxo-l, l-Dimethyl-butylacrylamid, N-3-Oxo-methyl-l, 3-Dicyclohexyl-propylacrylamid, N-3-Oxo-l, 5-dimethyl-lisopropylhexylacrylamid, N-3-Oxo-l,l-diisobutyl-2-isopropyl-5-methyl-hexylacrylamid, N-3-Oxo-l,1-dibuty'l-2-npropyl-heptylacrylamid, N-3-Oxo-l-methyl-butyl-ot-methylacrylamid und N-3-Oxo-1,1-dimethyl-butyl-α-methylacryl amid.
  • Diese äthylenisch ungesättigten Monomeren werden typischer Weise in einer Menge von etwa lo bis etwa 200 Gewichtsteilen pro loo Gewichtsteile des ungesättigten Polyesters verwendet.
  • Zu Beispielen für Photopolymerisationsinitiatoren gehören Benzoine, wie Benzoin, Benzoinmethyläther, Benzoinäthyläther, Benzoin-n-propyläther, Benzoinisopropyläther, Benzoin-nbutyläther, Benzoinisobutylather, Benzoin-sec-butyläther, o<-Methylbenzoin, o(-Äthylbenzoin, (xMethylbenzoinmethyläther, α-Phenylbenzoin, α-Allylbenzoin, Anthrachinone, wie Anthrachinon Chloranthrachinon, Methylanthrachinon, Athylanthrachinon, tert.-Butylanthrachinon, Diketone, wie Benzil, Diacetyl, Phenone, wie Acetophenon, Benzophenon, w-Prom&cetophenon, 2-Naphthalinsulfonylchlorid, Disulfide, wie Diphenyldisulfid, Tetraäthylthiuramdisulfid, Farbstoffe, wie Eosin G (C.I. 45380) und Thionin (C.I. 52025) u.dgl.
  • Diese Photopolymerisationsinitiatoren werden in typischer Weise in einer Menge von etwa o,ool bis etwa lo Gew.Teilen pro loo Gew.-Teile der lichtempfindlichen Masse verwendet.
  • Zu beispielhaften thermischen Polymerisationsstabilisatoren gehören Hydrochinon, Mono-tert.-butyl-hydrochinon, 2,5-Ditert . -butyl-hydrochinon, Brenzcatechin, tert.-Butylbrenzcatechin, Benzochinon, 2,5-Diphenyl-p-benzochinon, p-Methoxyphenol, Picrinsäure, Cuprochlorid und ein Diamin der Formel In der eder der Reste R und R' ein Wasserstoffatom, eine niedere Alkylgruppe mit l bis 4 Kohlenstoffatomen, eine Phenyl- oder Naphthylgruppe bedeutet, beispielsweise p-r.henylendiamin, N,N' -Diphenyl--phenylendiamin und dgl.
  • Diese Stabilisatoren werden nur zugesetzt, um die thermische Polymerisation ohne Einwirkung aktinischer Strahlung zu verhindern, ohne daß die Photopolymerisationsreaktion gehemmt wird. Der Anteil der Stabilisatoren kann daher im allgemeinen etwa o,ool bis etwa 2,o Gew.-Teile pro loo Gew.-Teile des lichtempfindlichen Materials betragen.
  • Außerdem können verschiedene Verbindungen, wie Füllstoffe und Weichmacher in die lichtempfindlichen Massen eingemischt werden, um die mechanischen Eigenschaften nach der Photopolymerisation zu verbessern. Zu diesen Verbindungen gehören beispielsweise Glimmer, Glasfasern, Glasgewebe, feinpulverisiertes Siliciumdioxid, Aluminiumoxid und Calciumcarbonat, Talkt Polyamide, Polyester, Polyharnstoffe, Polymethylmethacrylate, Polystyrole, Polyvinylchloride, Polyvinylacetate, Polybutadiene und Celluloseester. Diese Verbindungen werden in einer solchen Menge zugesetzt, daß sie die lichtempfindlichen Materialien nicht opak machen.
  • Die lichtempfindlichen Massen werden durch die vorstehend beschriebene aktinische Strahlung photopolymerisiert.
  • Wenn die lichtempfindlichen Massen oder Materialien durch eine Reproduktions-Bildvorlage oder ein Diapositiv, beispielsweise einen negativen oder positiven photographischen Film, mit aktinischer Strahlung belichtet werden, so werden die den durchsichtigen Teilen entsprechenden Bereiche in etwa 1 Sekunde bis 60 Minuten photopolymerisirt und die opaken Bereiche, d.h., die nicht belichteten Bereiche, bleiben im wesentlichen unphotopolymerisiert. Diese nicht belichteten Bereiche können mit einer als Lösungsmittel dienenden Flüssigkeit weggewaschen werden, wie Wasser, einer wäßrigen Lösung oder einem organischen Lösungsmittel. Zu Beispielen für Lösungsflüssigkeiten gehören wäßrige Lösungen von Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Calciumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumcarbonat, Chlorwasserstoffsäure, Schwefelsäure, Salpetersäure, Essigsäure, wäßrige Lösungen von Methanol, Äthanol, Isopropanol und Aceton, sowie Methanol, Äthanol, Isopropanol, Aceton, Methyläthylketon, Äthylacetat, Butylacetat, Dioxan, Tetrahydrofuran, Phenol, Äther, Benzol, Toluol, Benzin, Kerosin, Leichtöl, Trichloräthylen oder Gemische solcher Lösungsmittel.
  • Eine Reliefdruckplatte kann beispielsweise hergestellt werden, indem eine durchsichtige Reproduktions-Bildvorlage, beispielsweise ein Negativfilm, auf eine für aktinisches Licht durchlässige Glasscheibe gelegt wird, der Negativfilm mit einem für aktinisches Licht durchlässigen Film, wie einem Polyesterfilm, bedeckt wird, die lichtempfindliche Masse auf dem Film unter Bildung einer o,l mm bis lo mm dicken Schicht abgelagert wird, ein Substrat oder Trägermaterial, wie ein Polyesterfilm nach dem in DT-OS 2.029.238 beschriebenen- Verfahren und der dort beschriebenen Vorrichtung auf die Schicht gelegt wird, eine für aktinisches Licht durchlässige Glasscheibe auf das Trägermaterial gelegt wird, die gesamte Anordnung mit aktinischem Licht bestrahlt wird, was zuerst von der Seite des Trägermaterials und danach von der Seite des Negativfilms oder gleichzeitig von der Seite des Tragermaterials und der Seite des Negativfilms oder, bei Verwendung von metallischen Trägermaterialien oder opaken Trägermaterialien, von der Seite des Negativfilms her erfolgt, die Glasscheiben, der Negativfilm und der den Negativfilm bedeckende Film von der AnordflIlng entfernt werden, wonach die nicht belichteten Bereiche der Schicht ausgewaschen werden und die erhaltene Druckplatte mit einer wäßrigen Lösung oder Emulsion gemäß der Erfindung behandelt und die gesamte Reliefdruckplatte nachbelichtet wird.
  • Zu Beispielen für geeignete Substrate bzw. Basis- oder Trägermaterialien gehören Metalle, wie Platten, dünne Platten und Folien aus Stahl und Aluminium, Kunststoffe, wie Filme und Platten aus Polyester, Polyamid, Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polymethylmethacrylat, Polystyrol und Cellulose. Diese Trägermaterialien können entweder durchsichtig oder opak gegenüber aktinischem Licht sein. Die Dicke dieser Trägermaterialien liegt vorzugsweise im Bereich von o,l mm bis 2,o mm bei Metallplatten, Plättchen und Folien und vorzugsweise im Bereich von 50 Mikron bis 2 mm für Kunststoffilme und Platten.
  • Es kann außerdem eine klebrige Verankerungsschicht auf diesen Trägermaterialien vorgesehen werden. Die klebrige Verankerungsschicht besteht aus einem synthetischen Harz oder Polymeren wie Alkylharzen, Urethanharzen, Spoxyharzen, Melaminharzen und synthetischen Kautschuken. Die Dicke der klebrigen Verankerungsschicht liegt vorzugsweise im Bereich von o,l Mikron bis 0,3 mm. Die klebrige Verankerungsschicht kann einen Photopolymerisationsinitiator enthalten, wenn durchsichtige Trägermaterialien verwendet werden, wie in DT-OS 2.o31.476 beschrieben wird.
  • Zwischen einem lichtreflektierendem Träger und einer lichtempfindlichen Masse kann eine lichtabsorbierende Schicht vorgesehen sein. Geeignete Materialien dafür sind Pigmente und Farbstoffe, die nicht in die Schicht des lichtempfindlichen Materials auswandern oder ausbluten. Beispiele für geeignete Pigmente sind Eisenoxide, wie Indischrot, Venezianischrot.
  • Ocker, Uinbra, Terra, Eisenschwarz, Bleichromat, Bleimolybdat, Cadmiumgelb, Cadiniumrot, Chromgrün, Eisenblau, Manganschwarz, und verschiedene Ruße.
  • Die erfindunesgemaße Behandlung kann auch bei der herstellung von verschiedenen Reliefstrukturen, wie von hervorgehobener Schrift (displays) und Namensschildcrn verwendet werden.
  • Die Erfindung wird durch die nachstehenden Beispiele veranschaulicht, in denen die angegebenen Teile Gewichtsteile bedeuten, wenn nichts anderes ausgesagt ist.
  • Beispiel 1 Unter einer Atmosphäre aus gasförmigem Stickstoff wurden 3 Mol Propylenglycol, 2 Ilol Äthylenglycol, 2,5 Mol Yumarsaurc und 2,5 Mol Adipinsäure bei einer Maximaltemperatur von l9o°*C während etwa lo Stunden in Gegenwart von o,5 g p-Toluolsulfonsäure als Katalysator und o,2 g Hydrochinon als Anti-Gelbildungsmittel umgesetzt, wobei ein ungesättigter Polyester mit einem durchschnittlnchen Molekulargewicht von 2.240 und einer Säurezahl von 25 gebildet wurde. Zu loo Teilen des ungesättigten Polyesters wurden 25 Teile Diäthylenglycoldimethacrylat, 15 Teile Diacetonacrylamid, 1 Teil Benzoinäthyläther und o,l Teil Hydrochinon gegeben, um eine lichtempfindliche Masse zu erhalten.
  • Auf eine lo mm dicke, durchsichtige Glasscheibe wurde ein Negativfilm für eine Zeitung von 390 mm x 550 mm gelegt.
  • Dann wurde der Negativfilm mit eine kfilm aus Polyäthylenterephthalat einer Dicke vc 12 Mikron bedeckt und die lichtempfindliche Masse wurde mit Hilfe eines Streichrakels auf den Deckfilm aufgetragen, wobei eine o,8 mm dicke Schicht der lichtempfindlichen Masse gebildet wurde.
  • Eine Seite einer Polyäthylenterephthalat-Filmbasis einer Dicke von 200 Mikron wurde mit einem Epoxy-Klebmittel (Handelsbezeichnung 11ESDTNE No. 3100wo der Sekisui Chemical Industry Co., Ltd.) in einer Dicke von etwa lo Mikron bedeckt und die beschichtete Seite der Filmbasis wurde auf die Schicht des lichtempfindlichen Materials aufkaschiert.
  • Dann wurde eine 5 mm dicke, durchsichtige Glasplatte daraufgelegt. Von der Seite der Filmbasis her wurde die gesamte Anordnung 30 Sekunden mit lo parallel angeordneten 20 W-UV-Fluoreszenzlampen (Handelsbezeichnung PL-20BM der Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd.), die in einem Abstand von 5 cm von dem Glas angeordnet waren, -belichtet. Anschließend wurde die Anordnung von der Seite des Negativfilms 3 Minuten mit der gleichen Lichtquelle, die vorher verwendet worden war, in einem Abstand von 5 cm belichtet. Nach der Belichtung wurden die beiden Glasscheiben. und der Polyesterdeekfilm entfernt Urld die photopolyr,erisicrte schicht auf der Polyester -Filmbasis wurde 2 Minuten unter einem Druck von 1,5 kg/cm2 mit einer l,o-/oigen wäßrigen Boraxlösung besprüht, um die nicht belichteten Bereiche auszuwaschen.
  • Jede der so erhaltenen Reliefplatten wurde während 30 Sekunden in die verschiedenen in Tabelle 1 angegebenen wäßrigen Lösung gen eingetaucht, getrocknet und dann 15 Minuten mit der vorstehend beschriebenen Lichtquelle nachbelichtet, um eine Reliefdruckplatte für eine Zeitung zu erhalten.
  • Die Seiten der Reliefbilder und die Oberflächen der Polyester-Filmbasis der erhaltenen Reliefdruckplatte waren nicht viskos.
  • Die Dauer der Nachbelichtung, bei der die Viskosität bzw. die Klebrigkeit an den Seiten der Reliefbilder und an der Oberfläche der Filmbasis der Reliefdruckplatte nicht mehr beobachtet werden konnten, ist in Tabelle 1 gezeigt. Unter Verwendung der erhaltenen Reliefdruckplatte wurde ein Rotationsdruck für eine Zeitung durchgeführt, wobei etwa Soo.ooo Abdrucke mit hoher Qualität ohne jegliche Deformation und Beschädigung der Reliefbilder hergestellt wurden.
  • Herstellung der Faraffinwachsemulsion Zusammensetzunffl Gewichtsteile Paraffinwachs 57,20C (1350F) 30 Oberflächenaktives Mittel des Span-Typs (liandelsbezeichnung 3 SP-60 der Nippon Oils & Pats Co. Ltd.) Oberflächenaktives Mittel vom Tween-Typ (Handelsbezeichnung 3 ST-221 der Nippon Oils & Fats Co. Ltd.) Die Paraffinwachsemulsion wurde hergestellt, indem die Masse bei 600C gehalten wurde, dazu allmählich unter heftigem Rühren 64 Gew.-Teile Wasser von 60°C zugesetzt wurden und das Rühren fortgesetzt wurde, bis die Temperatur des Gemisches auf Raumtemperatur abgekühlt war, und indem die erhaltene Emulsion anschließend mit Wasser oder einer der in Tabelle 2 angegebenen wäßrigen Lösungen auf das lo-fache des ursprünglichen Volumens verdünnt wurde Beispiel 3 3 Mol Propylenglykol, 2 Mol iithylenglykol, 2,5 Mol Fumarsäure und 2,5 Mol Phtalsäureanhydrid wurden in gleicher Weise wie in Beispiel 1 polykondensiert, wobei ein ungesättigter Polyester mit einem du':chshnittlichen Molekulargewicht von 1870 und einet Säuurezahl von 30 erhalten wurde. Zu 100 Teilen des erhaltenen ungesättigten Polyesters wurden 10 Teile Tetraäthylenglykoldiacrylat, 30 Teile Diäthylenglykoldimethacrylat, 1 Teil Benzoinisopropyläther und 0,1 Teil Hydrochinon gegeben, um ein leichtempfindliches Material herzustellen. In gleicher Weise wie in Beispiel 1 wurde die erhaltene lichtempfindliche Masse zur Bildung von Reliefbildern belichtet und zur iferstellung einer Reliefplatte von nicht belichteten Bereichen freigewaschen. Die Oberfläche der so erhaltenen Reliefplatte wurde mit dernachstehend angegebenen Wachsemulsion durch Besprühen beschichtet, getrocknet und denn zur Bildung einer Reliefdruckplatte währende einer Minute mit einer im Abstand von 60 cm von der Reliefplatte angeordneten 3 KW-Hochdruckquecksilberlampe nachbelichtet. Die Seiten der Reliefbilder der Platte sowie die Obere ruhe des Trägers waren nicht viskos.
  • Unter Verwendung dieser Diuckpletten wurden klare und exakte Drucke erzielt.
  • Herstellung der Wachsemulsion Zusammensetzung Gewichtsteile Carnaubawachs 10 Polyoxyäthylenstearat (Handelsbezeichnung "ETHOFAT 66/25" der Lion Armour Co., Ltd.) 3 Ascorbinsäure 1 Wasser 86 Die Wachsemulsion wurde hergestellt, indem das Gemisch unter kräftigem Ihren auf 1000 C erhitzt wurde und das Rithren-f-ortgesetzt wurde, bis die Temperatur auf Raumtemperatur abgekühlt wr.
  • Beispiel 4 60 Gewichtsteile Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgr?d von 85, 30 Gewichtsteile Triäthylenglykoldimethacrylat, 20 Gewichtsteile 2-Hydroxyäthylmethacrylat, 1 Gewichtsteil Benzoinmethyläther, 0,05 Gewichtsteile Hydrochinon und 200 Gewichtsteile Wasser wurden gründlich vermischt, um ein lichtempfindliches Material herzustellen. Dann wurde ein Abstandskörper einer Dicke von 0,? mm auf eine Glasplatte gelegt und das erhaltene lichtempfindliche Material wurde darauf gegossen und mit Warmluft getrocknet, wobei eine 0,2 mm dicke Platte des lichtempfindlichen Materials gebildet wurde. Die Platte wurde auf eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte mit Hilfe eines Klebstoffes (Handelsbezeichnung "ESDIIE Nr. 360" der Sekisui Chemical Industry Co., Ltd.) aufgeklebt und die erhaltene Platte wurde in einen Vakuumrshmen gelegt und während einer Minute durch einen Negativfilm mit einer wassergekühlten Hochdruck-Quecksilberlempe von 3 ! in einem Abstand von 60 cm belichtet. Nach dem Auswaschen der nicht belichteten Bereiche mit Wasser von 50°C wurde die Platte in die Lösung gemäß Beispiel 2, Versuch 15 während 30 Sekunden eingetaucht, danach getrocknet und während einer Minute mit der vorher angewendeten Lichtquelle nqchbelichtet. Die erhaltene Platte führte durch Offsetdruck zu Abdrucken hohe- Quelitit im Vergleich mit einer Platte, die nicht mit der Paraffinwachsemulsion behandelt worden war.
  • T a b e l l e 1 Wässrige Lösung Ver- Wasserlössliche polymere Verbin- Reduktionsmittel Zeit such dung (Gew.-%) (Gew.-%) (Min.) 1 Natriumalginat. 0,5 keines 15 2 Gummierabicum 1,5 keines 10 @e boxyäthylcellulose mit einem Verätherungsgrad von 0,8 0,5 keines 12 4 Hydroxyäthylcellulose mit einen Verätherungsgrad von 1,5 1,0 keines 14 5 Natriumstärkeglycolat 2,0 keines 10 6 Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 85 0,5 keines 7 7 Polyäthylenglycol mit einem Zahlenmittel des Molekulargewichts von 20000 2,0 keines 20 8 Natriumalginat 0,5 Abscorbinsäure 0,5 3,0 9 Natriumalginat 0,5 Thionharnstoff 1,0 3,0 10 Natriumalginat 0,5 Allylthioharnstoff 1,0 2,5 11 Natriumalginat 0,5 Methylthioharnstoff 1,0 3,0 12 Natriumalginat 1,5 Acetylthionharnstoff 1,0 3,0 13 Gummierabicum 1,5 Thionsemicarbazid 0,5 3,0 14 Gummierabicum 1,5 Phenylthionharnstoff 0,5 6,0 15 Gummierabicum 1,5 Acethylthionhanstoff 1,0 5,0 16 Gummierabicum 2,0 N,N'-Methyläthylthionhanrstoff 1,0 4,0 T a b e l l e 1 (Fortsetzung) Wässrige Lösung Ver- Wasserlössliche polymere Verbin- Reduktionsmittel Zeit such dung (Gew.-%) (Gew.-%) (Min.) 17 Gummiarabicum 2,0 N,N'-Diacetylmethioharbnstoff 1,0 3,5 18 Gummiarabicum 1,5 Tetraallylthioharnstoff 1,0 5,0 19 Gummiarabicum 1,5 Glucose 1,0 3,0 20 Gummiarabicum 2,0 Lactose 1,0 2,5 21 Gummiarabicum 2,0 Mannose 1,0 3,5 22 Gummiarabicum 4,0 Galactose 1,0 5,5 23 Gummiarabicum 5,0 Maltose 1,0 3,0 24 Gummiarabicum 1,5 Ascorbinsäure 0,5 2,5 25 Gummiarabicum 1,5 Ätylendiamintetraacetat 0,5 3,0 26 Carboxyathylcellulose mitz einem Äthylendiamintetraaesig-Verätherungsgrad von 0,8 0,5 säure-Kaliumsalz 1,0 6,0 27 Gummierabicum 2,0 Oxalsäure 0,5 4,0 28 Carboxyäthylcellulose mit einem Verätherungsgrad von 0,8 0,5 Kaliumhydrogenoxalat 1,0 5,0 29 - dito - 0,5 Natriumoxalat 1,0 6,0 30 - dito - 0,5 Kaliumthiomnsulfat 1,0 5,5 31 Gummiarabicum 3,0 Ammoniumthionsulfat 1,0 4,0 32 Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 85 % 0,5 Natriumthionsulfat 1,0 2,5 33 - dito - 0,5 Oxalsäure 0,5 2,5 34 Hydroxyäthylcellulose mit einem Verätherungsgrad von 1,5 1,0 Ammoniumthionsulfat 1,0 3,5 T a b e l l e 1 (Fortsetzung) Wässrige Lösung Ver- Wasserlössliche polymere Verbindung Reduktionsmittel Zeit such (Gew.-%) (Gew.-%) (Min.) 35 - dito - 1,0 Stannochlorid 0,5 2,0 36 - dito - 1,0 Stannobromid 0,5 2,5 37 - dito - 1,0 Ferrochlorid 1,0 3,5 38 - dito - 1,0 Ferrochlorid 1,0 4,0 39 Polyärthylenglycol mit einem Zahlenmittel des Molekulargewichts von 2000 2,0 Ascorbinsäure 0,5 5,0 40 Polyvinylpyrolidon mit einem Zahlenmittel des Molekulargewichts von 2000 0,5 - dito - 0,5 7,0 41 Polyärthylenglycol mit einem Zahlenmittel des Molekulargewichts von 2000 2,0 Stannochlorid 0,5 3,5 42 - dito - 2,0 Kaliumthiocyanat 1,0 4,0 Vergleich ohne Behandlung >30 T a b e l l e 2 Wässrige Lösung Ver- Reduktionsmittel Gew.-% Zeit such (Min.) 1 Keines (Wasser) - 6 2 Stannochlorid 0,5 2,5 3 Stannosulfat 0,5 3,5 4 Stannoacetat 0,5 3,0 5 Ferrobromid 0,5 2,5 6 Ferroammoniumsulfat 1,0 4,0 7 Allylthionharnstoff 1,0 3,5 8 Methylthionharnstoff 0,5 3,0 9 Acetylthionharnstoff 0,5 4,5 10 Phenylthionharnstoff 1,0 4,0 11 Thionsemicarbazid 0,5 2,5 12 Triallylthionharnstoff 0,5 3,5 13 Glucose 1,0 3,0 14 Lactose 1,0 3,0 15 Ascorbinsäure 0,5 3,5 16 Äthylendiamintetraessigsäure 1,0 4,0 17 Äthylendiamintetraessigsäure-Kaliumsalz 1,0 4,0 T a b e l l e 2 (Fortsetzung) Wässrige Lösung Ver- Zeit such Reduktionsmittel Gew.-% (Min.) 18 Oxalsäure 1,0 4,5 19 Natriumhydrogenoxalat 1,5 3,5 20 Kaliumoxalat 1,5 5,0 21 Natriumthiosulfat 2,0 3,5 22 Calciumthiosulfat 0,5 4,5 23 Ammoniumkthiosulfat 1,0 3,0 24 Natriumthiocyanat 0,5 4,0 25 Kaliumthiocyanat 0,5 3,5 26 Calciumthiocyanat 0,5 5,0

Claims (7)

  1. P a t e n t a n s p r ü c h e Verfahren zur Herstellung einer Photopolymerplatte mit Reliefbildbereichen durch Belichten eines lichtempfindlichen Materials mit aktinischer Strahlung durch eine transparente Bildvorlage, Entfernen der nicht belichteten Bereiche des lichtempfindlichen Materials und Nachbelichten der Reliefbildbereiche aufweisenden Photopolymerplatte mit aktinischer Strahlung, dadurch g e k e n n z e i c h n e t t daß man die Photopolymerplatte vor der Nachbelichtung mit einer wässrigen Lösung oder Emulsion behandelt, die etwa 0,05 bis 60 Gewichtsprozent mindestens einer membranbildenden polymeren Verbindung oder eines Wachses enthält.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß man eine wässrige Lösung oder Emulsion verwendet, die 0,1 bis 20 Gew.-S6 der menibranbildenden polymeren Verbindung oder des Wachses enthält.
  3. 3, Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß man als menibranbildende polymere Verbindung oder Wachs Natriumalginat, Guniarabicum, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, wasserlösliche Celluloseverbindungen, Stärkeverbindungen und Polymere des 2thylenoxyds mit einem durchschnittlichen Molekulargewicb-L von etwa 10000 bis 200000, Paraffinwachs oder Carnaubawachs verwendet.
  4. 4. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daB man ein lichtempfindliches Material behandelt, das a) etwa 100 Gewichtsteile eines ungesättigten Polyesters, b) etwa 10 bis 200 Gewichtsteile, pro 100 Gewichtsteile des ungesättigten Polyesters, mindestens eines äthylenisch ungesuttigten Monomeren, c) etwa 0,001 bis etwa 10 Gewichtsteile. pro 100 Gewichtsteile des lichtempfindlichen Materials, eines Photopolymerisationsinitiators und d) etwa 0,0001 bis etwa 2,0 Cewichtsteile, pro 100 Gewichtsteile des lichtempfindlicben Materials, eines thermischen Polymerisationsstabilisators enthält.
  5. 5. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß man d5 e Behandlung mit einer wässrigen lösung oder Fmus].icn durchführt, die zusätzlich ein Reductionsmittel in einer Menge von etwa 0,001 Gewichtsprozent bis zur Sättigungskonzentration enthält.
  6. 6. Verfahren nscl- Anspruch 5, dadurch g e k e n n z e i c h -n e t, daß man eine wässrige Lösung oder Emulsion verwendet, die das Peduktionsmittel in einer Menge von 0,01 bis 30 Gewichtsprozent enthält.
  7. 7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß man als Reductionsmittel (A) Thiohcarnstoffverbindung -en der Formel.
    in der jeder der Reste R1, R2, R3 und R4 ein Wasserstoffatom, eine Allyl-, Amino-, Acetyl-, Phenyl- oder Alkylgruppe mit höchstens 10 Kohlenstoffatomen bedeutet, (B) Monosacchride oder Disaccharide, (C) Ascorbinsäure, (D) Ä.thylendiamintetraessigsäure oder deren Alkalimetallsalze, (E) Oxplsaure oder deren Alkalimetallsalze, (F) salzartige Thiosulfate, (G) salzartige Thiocyanate, (H) Stannosalze oder (I) Ferrosalze verwendet.
DE19722263804 1971-12-28 1972-12-28 Verfahren zur Herstellung einer Reliefplatte Expired DE2263804C3 (de)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2392411A1 (fr) * 1977-05-23 1978-12-22 Asahi Chemical Ind Procede pour supprimer la viscosite de surface d'une composition de resine polymerisee a radical libre et durcie
EP0017927A2 (de) * 1979-04-12 1980-10-29 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierten Elastomerdruckplatten, die keine Oberflächenklebrigkeit aufweisen
EP0112653A2 (de) * 1982-11-24 1984-07-04 Toray Industries, Inc. Trockenflachdruckplatte
EP0160468A2 (de) * 1984-04-21 1985-11-06 E.I. Du Pont De Nemours And Company Verfahren zum Schutz von Photopolymerflexodruckplatten gegen Ozon mittels alkohollöslicher Polyamide
EP0373474A2 (de) * 1988-12-13 1990-06-20 E.I. Du Pont De Nemours And Company Verfahren zur Herstellung einer ozonresistenten Flexodruckform
EP1596253A1 (de) * 2003-02-19 2005-11-16 Asahi Kasei Chemicals Corporation Prozess zur herstellung einer wasserentwicklungs-druckplatte für reliefdruck

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2392411A1 (fr) * 1977-05-23 1978-12-22 Asahi Chemical Ind Procede pour supprimer la viscosite de surface d'une composition de resine polymerisee a radical libre et durcie
EP0017927A2 (de) * 1979-04-12 1980-10-29 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierten Elastomerdruckplatten, die keine Oberflächenklebrigkeit aufweisen
EP0017927A3 (en) * 1979-04-12 1980-11-12 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Process for removing the surface stickiness of photopolymerized elastomeric printing plates
EP0112653A2 (de) * 1982-11-24 1984-07-04 Toray Industries, Inc. Trockenflachdruckplatte
EP0112653A3 (en) * 1982-11-24 1985-08-28 Toray Industries, Inc. Dry planographic plate
EP0160468A2 (de) * 1984-04-21 1985-11-06 E.I. Du Pont De Nemours And Company Verfahren zum Schutz von Photopolymerflexodruckplatten gegen Ozon mittels alkohollöslicher Polyamide
EP0160468A3 (en) * 1984-04-21 1986-09-17 E.I. Du Pont De Nemours And Company Process for the ozone protection of photopolymer-flexoprinting plates by liquid polyether
EP0373474A2 (de) * 1988-12-13 1990-06-20 E.I. Du Pont De Nemours And Company Verfahren zur Herstellung einer ozonresistenten Flexodruckform
EP0373474A3 (de) * 1988-12-13 1991-04-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Verfahren zur Herstellung einer ozonresistenten Flexodruckform
EP1596253A1 (de) * 2003-02-19 2005-11-16 Asahi Kasei Chemicals Corporation Prozess zur herstellung einer wasserentwicklungs-druckplatte für reliefdruck
EP1596253A4 (de) * 2003-02-19 2010-02-03 Asahi Kasei Chemicals Corp Prozess zur herstellung einer wasserentwicklungs-druckplatte für reliefdruck

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