DE2263737A1 - Zerstaeubungsvorrichtung - Google Patents

Description

PATENTANWÄLTE DipL-Ing. WERNER COHAUSZ · DipL-lng. WILHELM FLORACK . DipUng. RUDOLF KNAUF

4 Düsseldorf, Sdiumannstroße 97 2263737

Lucas Aerospace Limited Well Street GB-Birmingham 27. Dezember 1972 Zerstäubungsvorrichtung

Die Erfindung betrifft eine Zerstäubungsvorrichtung zur Ablagerung einer Materialsohicht auf einem Gegenstand, und ihr liegt die Aufgabe zugrunde, eine Zerstäubungsvorrichtung dieser Art in zweckmäßiger form vorzusehen.

Erfindungsgemäß ist eine Zerstäubungsvorrichtung gekennzeichnet durch eine Kammer zum Halten eines inerten Gases auf einem niedrigen Druck, wobei die Wände der Kammer eine MeialJ/partie aufweisen, die eine im wesentlichen zylindrische Bohrung hat, welche einen feil der Kammer bildet, eine in einen Eingriff mit der Metallpartie bringbare Kathodenanordnung in Isolierung ihr gegenüber und in einer Anordnung zum dichtenden Terschließen eines Endes der Bohrung, dias von dem Hest der *ummer entfernt liegt, wobei die Kathodenanordnung ein· Fangelektrodenfläche aufweist, die im wesentlichen koaxial zur Bohrung angeordnet ist, und Mittel zur Anordnung eines zu bestäubenden Gegenstands in der Kammer im wesentlichen in einer Flucht mit der Bohrung am anderen Ende derselben, wobei der Gegenstand im Betrieb einen feil einer Anode der Vorrichtung bildet.

Sie Erfindung ist nachstehend an Hand der Zeichnungen näher erläutert. In den Zeichnungen sind»

Fig. 1 eine schematisohe Darstellung der Torrichtung, bei der zur Vereinfachung der Darstellung Teile weggelassen sind,

Fig. 2 ein Schnitt an der Linie 2-2 der Fig. 1,

Fig. 3 und 4 in schematischer Darstellung im vergrößerten Maßstab Teile aus Fig. 2 und

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Fig. 5 ein Blockschaltbild einer Steuerschaltung für die Vorrichtung.

Gemäß Pig. 1 und 2 hat eine Kammer 10 Metallwände 11. Die Kammer 10 weist eine im wesentlichen scheibenförmige Partie 12 und eine periphere Partie 13 auf, die noch zu beschreiben sein wird. Von der oberen Wand der Partie 12 erstrecken sich zwei weitere Kammerpartien 14 und 15 und eine Luke 16, deren Lagen gestrichelt in Fig. 1 gezeigt sind. Sie Partien 14 und 13 sind teilweise durch abgestufte zylindrische Bohrungen gebildet, die in die Kammerpartie 12 öffnen.

In der Kammerpartie 12 ist eine Transportanordnung 17 drehbar gelagert, die im einzelnen in Fig. 3 gezeigt ist. Sie Anordnung 17 besteht aus einem Bad 18, das durch Standelemente 19 auf einer Armkreuzplatte 20 abgestützt ist. Sas Bad 18 ist aus Metall, in idas Heizelemente 21 und Kühlrohre 22 eingegossen sind. Sie Armkreuzplatte 20 ist dichtend mit einem Flanschrohr 23 verbunden, das dichtend duroh die Wand 11 unten an der Kammerpartie 12 geht. Leitungen 24 stehen mit den Bohren 22 in Verbindung und gehen dichtend durch das Bohr 23, um eine Drehverbindung (nicht dargestellt) mit einer Kühlmittelquelle einzugehen. Sie Verbindungen mit den Elementen 21 erfolgen über Schleifringe 25 am Bohr 23. Sie Transportanordnung I7 ist in sechs getrennte Positionen durch einen Malteserkreuzmechanismus 26 drehbar, der von einem Motor 27 angetrieben wird. Sas Bad 18 weist an sechs im gleiohen Abstand liegenden Stellen an seiner Oberseite Streifen auf, die U-förmige Ausnehmungen 28 bilden, welche zur Aufnahme und zum Orientieren von quadratischen Glassubstraten 29 eingerichtet sind, auf denen eine Zerstäubung vorgenommen werden soll. Säbel ist «ine solche Anordnung vorgesehen, dafl in irgendeiner der genannten sechs getrennten Positionen des B ds 18 drei der Ausnehmungen 28 mit den Bohrungen der Kammerpartien I4 und 15 bzw. der Luke 16 in einer Fluoht liegen. Das Bad 18 ist elektrisch mit der Wand 11 der Kammer 10 verbunden.

Sie Kammer 10 steht mit einer Pumpenanordnung in Verbindung, die allgemein bei 30 gezeigt ist und mittels der die Kammer 10 auf einen geringen Sruck gebraoht werden kann.

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Sie Pumpenanordnung 30 weist eine Molekül ar Säugpumpe und eine Vorpumpe auf, wobei die Anordnung den Druck in der Kammer 10 auf einen Wert von 10 ^y Torr senken kann.

Die Anordnung der Kammerpartie 15 ist im einzelnen in Fig. 4 gezeigt. Die Kaamerpartie 14 ist dabei im wesentlichen identisch dazu. Die Wand 11 der Kammer 10 weist eine Partie 31 auf, die eine abgestufte zylindrische Bohrung 32 hat, welche in die Kammerpartie 12 öffnet. Die Partie 31 besteht aus Metall/ist an dem Sest der Wand 11 befe- /und st igt, derart, daß sie in dichtendem Eingriff steht und einen guten elektrischen Kentakt herstellt.

Kathodeneinheiten 33» 34 Bind so angeordnet, daß sie dichtend die Enden der Bohrungen 32 verschließen, die τοη der Kammerpartie 12 entfernt liegen und jeweils die Kammerpartien 14 und 15 bilden. Fig. 4 zeigt zur Vereinfachung der Verständlichkeit eine etwas auseinandergezogene Darstellung, wobei die Kathodeneinheit 34 »us dem dichtenden Angriff mit der Wandpartie 31 herausgenommen ißt. Die Kathodeneinheit

34 weist ein« mit einem Flansch versehenes zylindrisches Element 35 auf, das einen ringförmigen Kanal 36 aufweist· Ein Deckel 37 greift dichtend am Element 35 an und ist mit einem Einlaß 37a und mit einem Auslaß 38 für Kühlmittel versehen. Ein Diohtring 39 aus BiliEiumgummi dient zur Abdichtung der Kathodeneinheit 34 der Wandpartie 31 gegenüber und auch dazu sicherzustellen, daß die Partie 31 und die Kathodeneinheit gegeneinander elektrisch isoliert sind.

Das zylindrische Element 35 weist eine runde Platte 40 auf, die die Zerstäubungsfangelektrode bildet und die aus dem Metall gebildet ist, das auf ein Werkstück aufgesprüht werden soll, welches in einer Ausnehmung 26 unter der Kathodeneinheit 34 am Had 18 sitzt. Die Platte 40 ist am Rest des Elements 35 angelötet, das aus Irgendeinem geeigneten Metall bestehen kann. Ein elektrischer Anschluß 41 ist am Element

35 befestigt.

Die axialen Längen der Kathodeneinheit 34 und der abgestuften Partie

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42 der Bohrung 32 sind derart, daß deie Platte 40 nicht unter die abgestufte Partie 42 vorsteht. Bin radiales Spiel 43 ist zwischen der zylindrischen Partie des Elements 35 und der abgestuften Bohrungspartie 42 vorhanden.

Ein ringförmiger Gang 44 führt um die Bohrungspartie 42 in der Wand 31 herum und steht mit der Bohrung über radiale Löcher 45 in Verbindung. Ein Fließweg 46 verbindet den Gang 44 mit einer Inertgasquelle. Bei dem inerten Gas kann es sich dabei um Argon handeln. Eine Drucksonde 47 steht mit der Kammerpartie 15 in Verbindung. Eine Zündkerze 48 für Kraftfahrzeuge ist durch Wegnahme der Massenelektrode und durch Entfernung eines Teils des Gewindemantels an der Hochspannungselektrode abgeändert. Die Kerze 48 sitzt dichtend in der Wandpartie 31 , derart, daß die Hochspannungselektrode der Kerze in Richtung auf die Kammerpartie 15 zeigt. Eine Lochplatte 49 erstrekct sich über das Ende der Bohrung 32, das von der Kathodeneinheit 34 entfernt liegt, und sie bildet ein Fenster, durch das Material auf das Werkstück aufgesprüht werden kann.

Im beschriebenen Ausführungsbeispiel bestheht die Platte 40 aus Gold, und die entsprechende Platte in der Kathodeneinheit 33 besteht aus einer Nickelchromlegierung.

Die Kammerpartie 16 hat keine zugehörige Kathodeneinheit, stattdessen ist ein Zugangsdeckel (nicht dargestellt) vorgesehen, der dichtend in einen Angriff mit der Wand der Partie 16 bringbar ist. Die Werkstücke können damit aus der Vorrichtung über die Kammmerpartie 16 nach dem Besprühen entnommen werden.

Die Kammerpartie 13 (Fig. 1 und 2) weist ein Magazin 50 auf, in das fünf Glassubstrate eingelegt werden können. Eine Kathodeneinheit 51 ipt vorgesehen, die im wesentlichen genauso wie die Kathodeneinheit 34 ausgebildet ist. Die Kathodeneinheit 51 ist jedoch ohne Platte vorgesehen, die der Platte 40 entspräche. Ferner ist die Einheit 51 in dem Bodenteil der Kammerpartie 13 so angeordnet, daß sie im we-

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sentliehen In einer Flucht mit der Bodenwand derselben liegt.

Sin Zahnstangen-Transferarm 52 ist in Funktion setztar, um die Substrate in einer Folge aus dem Magazin 50 in die Mitte der Kathodeneinheit 51 zu bewegen. Sin weiterer Zahnstangen-Transferarm 5? ist in Funktion setzbar, um die einzelnen Substrate von der Kathodeneinheit 51 in eine angrenzende Lage auf dem Had 18 zu bewegen, und zwar über einen Durchgang 54t der die Kammerpartie 12 mit der Kammerpartie 13 verbindet.

Die Wand 11 der Kammer und das Bad 1Θ sind beide geerdet. Zwischen den Anschluß 41 und die Wand 11 ist über eine Steuer- und Schalteinheit 55 (Fig· 5) eine Veohselstromspannung angelegt. Die Frequenz dieser Spannung beträgt 15,5 Mz, und die angelegte Spannung kann auf 2,5 KV gebracht werden. Die entsprechenden Anschlüsse an den Kathodeneinheiten 35> 51 sind entsprechend mit einer Wechselstromspannung verbunden.

Die Wand 11 der Kammer 10 zusammen mit dem Rad 18 bilden die Anode der Torrichtung. Die effektive Fläche der Anode ist damit sehr viel größer als die irgendeiner der Kathoden. Das Anlegen einer Hochfrequenz spannung an irgendeine der Kathoden führt zu einer Gleichstrom-Tor spannung der Erde gegenüber an der Kathode, nachdem einmal ein Plasma entstanden ist. Diese Vorspannung stellt sicher, daß Material nur von der Kathode abgesprüht wird. Die Vorspannung wird von einem Gleichstrommesser 56 (Fig. 5) erfaßt, und sie wird auch über eine Filterschaltung 57 an einen Eingang eines Differenzverstärkers 53 angelegt. Der andeere Eingang des Verstärkers 58 wird mit einer Bezugsspannung von einer Quelle 59 versorgt.

Ein Ausgangssignal vom Verstärker 53 liefert ein Steuersignal für die Steuereinheit 55, die im Betrieb auf den Verstärker 58 anspricht, um das Hochfrequenzpotential zu ändern, damit die Gleiohstromvorspannung im wesentlichen konstangt gehalten wird. Ein Ausgangssignal vom Ver-. stärker 53 zeigt außerdem das Vorhandensein eines Plaesias zwischen

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der Kathode und der Anode an und betätigt ein Beiais 60. Das Beiais 60 seinerseits steuert einen Zeitgeber 61, mittels dessen die Länge einer Besprühungsaxbeit eingestellt werden kann· Im Ende einer bestimmten Zeitdauer bewirkt der Zeitgeber 51, daß die Steuereinheit 55 die Hochfrequenzzuleitung zur Kathode ausschaltet.

Eine Gleichförmigkeit in der Ablagerung und die Adhäsion einer abgesprühten Lage werden dadurch verbessert, daß der Druck in einer Besprühungskammer reduziert wird. Es ist jedoch nicht möglich, ein Plasmafeld bei den idealen Yersprühungsdrücken mittele der Hochfrequenzspannung allein aufzubauen. Es ist jedoch festgestellt worden, daß ein Plasma erzeugt werden kann, und zwar bei den niedrigsten Drücken, bei denen das Plasma aufrechterhalten werden kann, indem eine Zündkerze 48 verwendet wird, deren Hochspannungselektrode mit 20 KY von einem herkömmlichen Zündgenerator 62 über einen Schalter 63 versorgt wird. Der Schalter 65 selbst steht unter der Steuerung des Beiais 60, so daß die Zuleitung zur Kerze 48 ausgeschaltet wird, wenn das Plasma erzeugt worden ist.

Venn das Plasma unbeabsichtigterweise zusammenbricht, hält das Beiais 60 den Zeitgeber 61 an und bewirkt ein Einschalten der Kerze 48, um das Plasma erneut entstehen zu lassen. Wenn das erfolgreich geschieht, beginnt das Zerstäuben von neuem und geht weiter bis zum Ablauf der Zeitdauer, die von dem Zeitgeber 61 eingestellt ist. Venn dias Plasma jedoch nicht weider aufgebaut werden kann, betätigt ein integrierender Zeitgeber 64» der auf die Betriebsdauer der Kerze 48 anspricht, einen Alarm 65 und schaltet die Hoohfrequenzsulerttfng aus.

Ein weiterer Zeitgeber 66 spricht auf die Zeit an, während der das Plasma bestehen bleibt, und bei Fehlen des Plasmas während einer bestimmten Zeit wird von ihm ebenfalls der Alarm 65 betätigt und die Hochfrequenzzuleitung ausgeschaltet.

Im Betrieb werden fünf Substrate in das Magazin 50 eingelegt, wobei drei Substrate zuvor gereinigt worden sind, um grobe Verunreinigungen zu entfernen. Die Substrate werden in einer Folge der Kathodeneinheit

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51 zugeführt» wo sie einer itzbesprühung unterzogen werden, "bei der alle Sttpuren τοη Yerunreinigungen entfernt werden. Nach dem Ätzen wird jedes Substrat vom Ina 53 auf das Rad 18 überführt, wobei fünf der sechs Stellen auf dem Bad 18 damit am Ende des Reinigungs- und UberführungsVorgangs eingenommen sind.

Das Rad wird schrittweise weiterbewegt, bis die leere Stelle in einer Flucht mit der Kathodeneinheit 33 liegt. Das Rad 18 und folglich die Substrate werden auf eine Temperatur von 300 C erhitzt. Sie Hochfrequenzzuleitung wird an die Sathodeneinheit 33 angelegt, und das Plasma wird mittels der zugehörigen Zündkerze erzeugt. Dieser Vorgang dient zum Reinigen der Elektrodenfangfläche der Kathodeneinheit 33, und das 1st der Grund, warum die leere Stelle am Rad 18 vorgesehen ist. Nachdem die Kathode 33 gerieinigt worden ist, wird das Rad erneut schrittweise weiterbewegt, um das erste Substrat in eine Flucht mit der Kathode 33 zu bringen, und eine Niokelchromlegierung wird auf das Substrat aufgesprüht. Das Aufsprühen wird für die anderen vier Substrate wiederholt, und bis zu dieser Zeit befindet eich die leere Stelle in einer Flucht mit der Kathodeneinheit 34· Bas Rad 18 und die Substrate werden auf eine Temperatur von 13O⁰C bis 200⁰G abgekühlt, und das Sprühreinigen wird an der Kathode 34 vorgenommen. Sie Substrate werden dann in einer sukzessiven Folge mit QoId besprüht. Schließlich werden die Substrate auf Raumtemperatur abgekühlt und über die Luke 16 entommen.

Sowohl während des Sprühätzens als auch während der Sprühablagerung wird ein FIuB an Argongas in die Kammer 10 durch den Gang eingeleitet, der dem Gang 44 entspricht, und zwar in der betreffenden Kdhodeneinheit, mit der gearbeitet wird. Sas führt zu einer gleichmäßigen Verteilung von Argon innerhalb der Kathodeneinheit, und es ist festgestellt worden, daß dadurch die Gleichförmigkeit in der Ablagerung ausgeprägt verbessert wird. Es ist ferner festgestellt worden, daß dadurch, daß sichergestellt wird, daß alles elektrisch geerdete Material in der Nähe der Kathode symmetrisch zur Kathode angeordnet ist, das Erreichen einer Gleichförmigkeit in der Ablagerung während des Aufsprühene unterstützt wird.

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Die radiale Abmessung des Spalts 43 um jede Kathodeneinheit herum ist kleiner als die des Dunkelraums an der Kathode. Damit erfolgt keine Ionenbeschießung irgendeines Teils der Kammerpartie. Die Wände der Kammer bilden damit eine "Dunkelraum"-Abschirmung für die Kathode,

Die Verwendung einer "Dunkelraum"-Abschirmung und der Steuerung der Ablagerung durch die Zeitbestimmung der Plasmadauer beseitigt die Notwendigkeit, bewegliche Schsirme innerhalb der Kammer vorzusehen. Da in einem Arbeitsspiel, bei dem mit einer Charge von fünf Substraten gearbeitet wird, das Reinigen, Besprühen und Überführen insgesamt unter der Steuerung durch elektrische Signale erfolgen, lassen sich die Zeitbestimmung und die Folge dieser Vorgänge ohne weiteres durch eine Lochkarte oder einen Lochstreifen oder ein Magnetband steuern.

Patentansprüche

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Claims (18)

1. Patentansprüche

   Zerstäubungsvorrichtung, gekennzeichnet durch eine Kammer zum Halten eines inerten Gases auf einem niedrigen Druck, wobei die Wände der Kammer eine Metallpartie aufweisen, die eine im wesentlichen zylindrische Bohrung hat, -.welche einen Teil der Kammer bildet, eine in einemn Eingriff mit der Metallpartie bringbare Kathodenanordnung in Isolierung ihr gegenüber und in einer Anordnung zum dichtenden Verschließen eines Endes der Bohrung, das von dem Rest der Kammer entfernt liegt, wobei die Kathodenanordnung eine Fangelektrodenfläche aufweist, die im wesentlichen koaxial zur Bohrung angeordnet ist, und Mittel zur Anordnung eines zu bestäubenden Gegenstands in der Kammer im wesentlichen in einer Flucht mit der Bohrung am anderen Ende derselben, wobei der Gegenstand im Betrieb einen Teil einer Anode der Vorrichtung bildet,
2. 2. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Anordnung aus Metall bestehen und elektrisch mit der Metallwandpartie verbunden sind, wobei die Vandpartie, die Mittel zur Anordnung und der Gegenstand im Betrieb alle unter der gleichen elektrischen Spannung stehen.
3. 3. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallwandpartie eine weitere Bohrung kleineren Durchmessers als die erstgenannte Bohrung hat und im wesentlichen axial in einer Flucht damit liegt und mit einem Ende derselben in Verbindung steht, das vom Best der Kammer entfernt liegt.
4. 4. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathodenanordnung eine im wesentlichen zylindrische Partie+ aufweist, die mit radialem Spiel in die weitere Bohrung hineingeführt ist.
5. 5. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 4» dadurch gekennzeichnet,

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   daß das freie Ende der zylindrischen Paxtie in der weiteren Bohrung liegt.
6. 6. Zerstäubungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Anordnung ein Had, das drehbar in der Kammer gelagert ist und mit mehreren Ausnehmungen zur Aufnahme von zu besprühenden Gegenständen versehen ist, und Mittel zum schrittweisen Weiterbewegen des Rads aufweisen, derart, daß die Ausnehmungen sukzessive in eine Flucht mit der Bohrung gelangen.
7. 7. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch mehrere Metallwandpartien, die jeweils Bohrungen bilden, und mehrere Kathodenanordnungen, die jeweils zum Angreifen an den Wandpartien vorgesehen sind, wobei die Ausnehmungen im gleichen Abstand um die Drehachse des Rads herum angeordnet sind und die Metallwandpartien dem Rest der Kammer gegenüber so angeordnet sind, daß im Betrieb in den Ausnehmungen befindliche Gegenstände sukzessive in eine Flucht mit den Bohrungen in den betreffenden Metallpartien mit dem schrittweisen Weiterbewegen des Rads gelangen.
8. 8. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 7» dadurch gekennzejüinet, daß die Kathodenanordnungen Fangelektrodenplatten aufweisen, wobei aufeinanderfolgende Kathodenanordnungen Fangelektrodenplatten aus verschiedenen Metallen aufweisen.
9. 9. Zerstäubungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch Mittel zum sukzessiven Beschicken der Mittel zur Anordnung mit mehreren der Geegenstände.
10. 10. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 9» dadurch gekennzeümet, daß die Mittel zum Beschicken ein Magaazin zum Halten mehrerer der Gegenstände und Mittel zum Transferieren der Gegenstände in einer Folge von dem Magazin in die Mittel zur Anordnung aufweisen.
11. 11. Zerstäubungsvor±ichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,

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    daß die Mittel zum Beschicken eine weitere Kathodenanordnung aufweisen, auf die jeder Gegenstand durch die Mittel zur Überführung während der Bewegung von dem Magazin in die Mittel zur Anordnung angeordnet wird.
12. 12. Zerstäubungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, gekennzeichnet durch eine Lochplatte, die sich über die erstgenannte Bohrung an dem Ende derselben erstreckt, das am Rest der Kammer liegt, wobei die Lochplatte ein Fenster bildet, das über einen Gegenstand liegt, welcher von den Mitteln Zur .Anordnung in einer Flucht mit der Bohrung ausgerichtet ist.
13. 1J. Zerstübungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, gekennzeichnet durch einen ringförmigen Kanal in der Kammerwand um die Kathodenanordnung herum und durch Mittel zum Einführen des inerten Gases in den Kanal, der mit der Kammer derart in Verbindung steht, daß das Gas mit einer im wesentlichen gleichförmigen Verteilung um die Achse der Kähodenanordnung herum in die Kammer einleitbar ist.
14. 14. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 4 oder 5» dadurch gekennzeichnet, daß das radiale Spiel eine Abmessung hat, die kleiner als die des Dunkelraums ist, der im Betrieb an der Kathodenanordnung entsteht.
15. 15. Zerstäubungsvorrichtung nach einem da: Ansprüche 1 bis 14» gekennzeichnet durch eine weitere Elektrode, die sich dichtend in die Kammer erstreckt,und durch Mittel zur Zuleitung einer Spannung zur weiteren Elektrode zum Einleiten des Aufbaüs eines Plasmas in der Kammer.
16. 16. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 15» gekennzeichnet durch Mittel zur Anlagung einer Wechselstromspannung zwischen die Kathodenanordnung und die Anode.
17. 17. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 16, gekennzeichnet durch Mittel zum Erfassen einer Gleichstromspannung an der Kathodenanordnung

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    und einen Komparator zur Lieferung eines ersten elektrischen Steuersignals in Abhängigkeit von der Differens zwischen der Gleichstromspannung und einer Bezugspannung, wobei die Mittel zum Anlegen einer Wechselstromspannung auf das erste elektrische Steuersignal eo ansprechen, daß die Vechselstromspannung in einer solchen Weise geändert wird, daß die Gleichstromspannung im wesentlichen konstant gehalten wird.
18. 18. Zerstäubungsvorrichtung nach Anspruch 17» gekennzeichnet durch Mittel, die in Erwiderung auf den Aufbau eines Plasmas in der Kammer so betätigbar sind, daß ein zweites elektrisches Signal erzeugt wird, und durch einen auf das zweite elektrische Signal ansprechenden Zeitgeber zur Lieferung eines dritten elektrischen Signals, das von des· gewünschten Dauer eines BesprühungsVorgangs abhängt, wobei die Mittel zum Anlegen der V/echselstromspannung auf das dritte elektrische Signal ansprechen.

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