DE2165703A1

DE2165703A1 - Lochmasken fuer farbbildroehren

Info

Publication number: DE2165703A1
Application number: DE2165703A
Authority: DE
Inventors: Hiromi Kanai; Eiichi Yamazaki
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1971-12-30
Filing date: 1971-12-30
Publication date: 1973-07-12
Also published as: GB1323620A; FR2166562A5; US3760214A

Description

Loehmasken für. Farbbild^öfaren Kurzfassung:

Bei einer Lochmaske für Farbbildröhren mit einer Anzahl von Perforationen für den Durchlauf eines Elektronenstrahls sind an den entgegengesetzten Seiten Lagen oder Schichten zur Unterdrückung der Emission von Sekundärelektronen vorgesehen, <lie durch den Aufprall des Elektronenstrahls entstehen.

Die Erfindung betrifft eine verbesserte Lochmaske für Farbbildröhren, insbesondere für Farbbildempfängerröhren mit Nachstellung der Schärfe.

Zur Erhöhung der Helligkeit des Fluoreszenzschirmes einer Farbbildröhre und zur Verbesserung der Farbreinheit wurde eine sogenannte Einricntung zur Nachstellung der Schärfe vorgeschlagen,

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bei weichet* eine elektronische Linse nahe einer Lochmaske angeordnet ist* um den Durchmesser des die Lochmaske durchlaufenden Elektronenstrahls ssu begrenzen.

Me in Fig-. 1 gezeigte nerkömmliche Lochmaske Io besteht aus dem rechteckigen Rahmen 11 und der dünnen durch den Rahmen gehaltenen Metallfolie 1, die mit einer Anzahl kleiner Perforationslöcher "versehen ist, um einen Elektronenstrahl hindurchzulassen. Wie in Fig. 2 gezeigt, ist die Lochmaske Io vor dex> Frontplatte angeordnet, d-eren Phosphorbesehichtung 3 auf der Innenfläche der Frontplatte aufgetragen ist. Wenn an der Lochmaske Io und am Phosphoroder fluoreszierenden Schirm 3 eine Machablenkspannung zum Scharfeinstellen anliegt, wird zwischen der Maske Io und den nahe an ihr angeordneten Elektroden (nicht gezeigt) ein starkes elektrisches Feld aufgebaut, so daß der durch die Öffnung a oder b an der Lochmaske Io auftreffende Elektronenstrahl von der Lochmaske zurückgeworfen wird oder bewirkt, daß diese Sekundärelektronen emittiert. Ein frei die Perforation einer Lochmaske durchlaufender Elektronenstrahl Cc) prallt auf den Leuchtschirm auf und wird sodann durch die metallische Rückseite (nicht gezeigt) der Phosphorschicht 3 reflektiert. Unter dem Einfluß eines starken Beschleunigungsfeldes zwischen der Lochmaske und dem Leuchtschirm werden diese nicht erwünschten Streuelektronen zur Phosphorschicht 3 hingezogen, wodurch sich eine Kontrastminderung ergibt.

Um diese unerwünschte Emission von Sekundärelektronen zu verhindern, wurde vorgeschlagen, auf die Oberfläche der metallischen Rückseite des Leuchtschirms oder an die Vorderfläche 4 der Lochmaske gegen-

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über der Elektronenschleuder (nicht gezeigt) oder auch an der Rückseite 5 gegenüber dem Leuchtschirm eine Masse, beispielsweise Graphit, aufzutragen, die keine Sekundärelektronen aussendet. Ein Graphitbelag kann jedoch nicht vollständig die Kontrastminderung des Leuchtschirms verhindern. Insbesondere war es unmöglich, die durch- einen auf die Innenwand der Perforation der Lochmaske aufprallenden. Elektronenstrahl erzeugte Emission von Sekundärelektronen genügend zu unterdrücken.

Somit besteht die Aufgabe der Erfindung darin, eine verbesserte Lochmaske für eine Farbfernseh-Empfangsröhre zu schaffen, mit welcher die durch den Aufprall eines Elektronenstrahls auf der Lochmaske erzeugte Emission von Sekundärelektronen herabgesetzt werden kann. Sodann, soll erfindungsgemäß eine verbesserte Lochmaske für eine Farbfernseh-Empfangsröhre gesc-haffen werden, insbesondere für Röhren ohne Fleckunschärfe nach Ablenkung, welche eine Kontrastminderung infolge der Emission von Sekundärelektronen verhindert, die durch den Aufprall eines Elektronenstrahls auf die Lochmaske entsteht.

Lrfindungsgemäß ist eine Lochmaske für eine Farbbildröhre mit einer Anzanl von Perforatxonslöchern zur Durchleitung eines Elektronenstraxils vorgesehen, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten einer Hasse zur Unterdrückung der durch den Aufprall des Elektronenstrahls erzeugten Emission von Sekundärelektronen auf die sich gegenüberliegenden Flächen der Lochmaske aufgebracht sind. Eine derartige .'Jcniciit kann auch an der Innenwand der Perforation aus- :;ein. . ......·

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Die Erfindung ist nachstehend näher erläutert. Alle in der g-.e«· Schreibung enthaltenen Merkmale und Maßnahmen können von er.fin*- dungswesentlicher Bedeutung sein. In den Zeichnungen ist? ■

Fig., 1 ein teilweise unyerdeckter Aufriß einer Lochmaske,

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Fig, ,2 der vergrößerte Schnitt eines Teiles einer herkömmlichen

Lochmaske zur Erläuterung der d-urch den Aufprall von Elek- ψ ironenstranlen er zeugten Emission von Sekundär elektronen,.

Fig. 3 ein vergrößerter Schnitt durch einen Teil der erfindungsgemäßen Lochmaske.

Fig. -4 eine Ansieht wie Fig.. 3, jedoch mit einem anderen Äusführungsbeispiel der Erfindung,

Erfindungsgemäß ist nach Fig. 3 eine Grapnitschicht auf die der «I nicht gezeigten Elektronenschleuder gegenüberliegende Vorderseite 4 und die Rückseite 5 aufgetragen, welche gegenüber dem Leuchtschirm 3 (s. Fig. 2) der Metallplatte 1 einer Lochmaske Io angeordnet ist; dadurch werden die Graphitschichten 6 und 7 gebildet, deren Ausformung auf bekannte Weise erfolgt. Jede Graphitschieht

3 und
besitzt eine Dicke zwischen/2o W· Da Graphit die Emission von Sekundärelektronen verhindert, verhindert die Schicht O auf der Vorderseite die durch den Elektronenstrahl a bewirkte Emission von Sekundärelektronen, der direkt auf die .Schicht ö aufprallt, und die Schicht 7 an der Rückseite verhindert ebenfalls die durch den Elektronen-tr aiii c erzeugte Emission von Sekundäre lekti\oit<_Mi,

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wobei dieser Elektronenstrahl auf den Leuchtschirm aufprallt und dadurch reflektiert wird oder auch anderweitig kollidiert und somit die Aussendung von Sekundärelektronen verursacht.

Bei dem in Fig. 4 gezeigten weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung wird außerdem die Graphitschicht noch auf die Innenwand der Perforation der Lochmaske aufgetragen. Insgesamt gesehen, ist die Perforation 2 der Lochmaske nicht zylindrisch ausgeformt, sondern besteht aus einem ersten schalenförmigen Teil 21 von kleinerem Durchmesser auf der Vorderseite und einem zweiten schalenförmigen Teil 22 mit größerem Durchmesser auf der Rückseite, wobei dieser Durchmesser der größte Durchmesser auf der Rückseite 5 ist. Da im allgemeinen nach Fig. 2 der die Perforation durcheilende Elektronenstrahl b auf die Innenfläche des Teils 22 mit dem großen Durchmesser aufprallt, wird erfindungsgemäß auch die Innenfläche des großen schalenförmigen Teils mit der Graphitschicht 8 in einer Dicke von 3 bis 2o/U versehen, wodurch auch die durch den Aufprall eines Elektronenstrahls der Form b verursachte Emission von Sekundärelektronen verhindert wird.

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Claims

Patentan s pr üche

Lochmaske für eine Farbbildröhre mit einer Anzahl von Perforationen zur Weiterleitung eines Elektronenstrahls, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten (6, 7) einer Masse zur Unterdrückung der durch den Aufprall des Elektronenstrahls (a, c) auf den sich gegenüberliegenden Flächen(¹^,5) der Lochmaske (lo) aufgetragen sind.
2. Lochmaske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Perforationen aus einem ersten (21) schalenförmigen Teil mit kleinerem Durchmesser an der Vorderseite (4-) der Lochmaske (lo) sowie einen zweiten (22) schalenförmigen Teil mit größerem Durchmesser an der Rückseite (5) der Lochmaske (lo) bestehen, und dadurch, daß die Schicht zur Unterdrückung der Emission von Sekundärelektronen außerdem noch auf die Innenfläche des zweiten schalenförmigen Teils (22) aufgetragen ist.
3. Lochmaske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die

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Dicke der -Schichten (6, 7) zwischen 3 und 2o μ beträgt.
4. Lochmaske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Masse zur Unterdrückung der Emission von Sekundärelektronen Graphit ist,

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