DE2639033B2 - Bauteil in mit Ladungsträgerstrahlen arbeitenden elektrischen Vakuumgeräten und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents
Bauteil in mit Ladungsträgerstrahlen arbeitenden elektrischen Vakuumgeräten und Verfahren zu dessen HerstellungInfo
- Publication number
- DE2639033B2 DE2639033B2 DE2639033A DE2639033A DE2639033B2 DE 2639033 B2 DE2639033 B2 DE 2639033B2 DE 2639033 A DE2639033 A DE 2639033A DE 2639033 A DE2639033 A DE 2639033A DE 2639033 B2 DE2639033 B2 DE 2639033B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- component
- openings
- component according
- electron
- bores
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 title claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 7
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/40—Traps for removing or diverting unwanted particles, e.g. negative ions, fringing electrons; Arrangements for velocity or mass selection
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/025—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/09—Diaphragms; Shields associated with electron or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/3002—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/44—Energy spectrometers, e.g. alpha-, beta-spectrometers
- H01J49/46—Static spectrometers
- H01J49/48—Static spectrometers using electrostatic analysers, e.g. cylindrical sector, Wien filter
- H01J49/482—Static spectrometers using electrostatic analysers, e.g. cylindrical sector, Wien filter with cylindrical mirrors
Description
40
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Bauteil gemäß
dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 und ein Verfahren zum Herstellen eines solchen Bauteiles.
Aus der FR-OS 22 57 142 ist ein als Teilchenfalle dienendes Bauteil der oben erwähnten Art bekannt, das
eine schwammähnliche, gesinterte Metall- oder Graphitstruktur enthält. Diese schwammähnliche Struktur
kann z.B. auf der Anode einer Elektronenröhre angeordnet sein. Nachteilig an einer solchen Schwammstruktur
ist jedoch, daß die an sich erwünschte, sehr große Oberfläche nur schwer zu entgasen ist und
naturgemäß zum überwiegenden Teil aus nicht als Teilchenfalle nutzbaren inneren und damit überflüssigen
Oberflächenbereichen besteht. Es ist daher bei Geräten, die ein solches als Teilchenfalle bestimmtes Bauteil
enthalten, schwierig, bei der Inbetriebnahme oder nach einer Belüftung ein hohes Betriebsvakuum zu erzeugen
und aufrecht zu erhalten, wie es bei mit Ladungsträgerstrahlen arbeitenden Vakuumgeräten im allgemeinen
gefordert wird, um störende Effekte durch Restgase zu vermeiden. Außerdem besteht bei der bekannten
Teilchenfalle wegen der unregelmäßigen Oberfläche der Schwammstruktur die Gefahr von Feldverzerrungen.
Aus der DE-OS 21 28 921 ist Zirkonium als Beschichtungsmaterial geringer Zerstäubung für Elektroden in
Hochvakuumentladungsgeräten bekannt.
Elektrode in einer Fernsehbildröhre zum Einfangen von Sekundärelektronen mit senkrecht zur Elektrode
verlaufenden Bohrungen zu versehen.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Bauteil der eingangs genannten Art zu
schaffen, das leicht zu entgasen ist Ferner soll das Bauteil aus einem Material hergestellt sein, das keine
elektrisch isolierenden Schichten bildet
Diese Aufgabe wird erfimiungsgemäß durch die im
kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst
Weiterbildungen, vorteilhafte Ausgestaltungen und ein vorteilhaftes Verfahren zum Herstellen des Bauteils
gemäß der Erfindung sind in den Unteransprachen angegeben.
Mit dem Bauteil gemäß der Erfindung werden gegenüber der aus der FR-OS 22 57 142 bekannten
Teilchenfalle die folgenden Vorteile erreicht:
Die aus Sacklöchern oder Durchgangsbohrungen bestehenden öffnungen, zwischen denen sich eine in der
Oberfläche liegende Gitterstruktur (Metall-Kristallgitter) befindet, verzerren das elektrische Feld nicht
merklich.
Durch die Ausbildung der Oberfläche aus Titan oder Zirkonium und deren Legierungen werden örtliche
Aufladungszonen vermieden, da diese Stoffe nicht zur Bildung isolierender Oxidschichten neigen.
Da sich die Bohrungen im wesentlichen senkrecht zur Oberfläche erstrecken, ergibt sich ein optimales
Verhältnis zwischen der elektronen-optisch wirksamen Oberfläche und der Gesamtoberfläche, d. h. Außenfläche
+ Wandfläche der öffnungen. Die Oberflächenvergrößerung
ist einerseits so groß, wie es für das Einfangen von Teilchen erforderlich ist, aber bei weitem
nicht so groß, daß insbesondere nach einer Belüftung das Entgasen erheblich erschwert wird.
Das Bauteil gemäß der Erfindung ist auch geschützt gegen Zerstäuben, Leistungsverringerungen durch sich
im Strahlengang mit hoher Energie bewegender Sputter-Produkte können daher verringert werden.
Im Hinblick auf mehrfache Reflexionen der Sekundärelektronen in den öffnungen ist es von Vorteil, wenn
diese gemäß dem Anspruch 2 ausgebildet sind. Solche Bohrungen lassen sich in besonders einfacher Weise mit
dem Verfahren nach dem Anspruch 5 erzeugen. Hierbei werden die Strahleintrittsöffnungen zwangsläufig geringfügig
größer als die Austrittsöffnungen.
Die Erfahrung mit den Bauteilen gemäß der Erfindung hat gezeigt, daß beispielsweise bei einem
Massenspektrometer eine ganz erhebliche Steigerung der Meßempfindlichkeit erzielt werden kann. Dieses
Ergebnis beruht mit darauf, daß beispielsweise ein ursprünglich im inneren Massenspektrometerraum
herrschendes Betriebsvakuum durch die desorbierende Wirkung des Elektronen-Ionenstrahls örtlich ganz
erheblich verschlechtert wird, was durch die Bauteile entsprechend der Erfindung verringert werden kann. Im
Trennelektrodenbereich trat bisher durch die sekundär emittierten Teilchen und insbesondere durch die
abgedampften (desorbierten) Restgase eine Vakuumverschlechterung auf.
Das Bauteil nach der Erfindung ist mit Vorteil einsetzbar beispielsweise für Elektronenstrahlkanonen
zum Schweißen, Bohren, Perforieren usw., Präzisions-Elektronenstrahl-Mikrooszillographen,
Elektronenbeschleuniger, Fernsehkameraröhren, Elektronenstrahlmikrosonden, Elektronenmikroskope, Rasterelektro-
nenmikroskope, Hektronenenergie-Analysatoren,
Ionenkanonen zur Materialbearbeitung, Ionenkanonen zur Material-Analyse, Quadnipolmassenspektrometer
und deren spezielle Ionenquellen und -Optiken, Elektronen-Beugungs-Einrichtungen, Polschuhplattenabdeckungen
bei Rasterelektronenmikroskopen, Bildwandlern und Bildverstärkern, Ionenmikrosonden,
Röntgenstrahlenquellengeräte und Ultraviolett-Quellea
Im folgenden wird die Erfindung an Ausführungsbeispielen
anhand der Zeichnungen näher erläutert Es zeigt
F i g. 1 schematisch ein Elektronenenergie-Analysator,
Fig.2 den vergrößerten Ausschnitt II der Fig. 1
entsprechend einem Schnitt entlang der Schnittlinie H-II der F ig. 5,
Fi g. 3 den vergrößerten Ausschnitt III der Fi g. 1,
F i g. 4 den vergrößerten Ausschnitt IV der F i g. 1 und F i g. 5 eine Ansicht in Pfeilrichtung V vo:. F i g. 2. In F j g. 1 ist im Schnitt ein Elektronenenergie-Analysator dargestellt, der im wesentlichen aus zwei koaxialen Zylindern besteht, die in einem nicht dargestellten evakuierten Gehäuse untergebracht sind. Der äußere Zylinder 1 liegt an einer Gleichspannungsquelle 2 und empfängt als Oberlagerung eine Wechselspannung von einer Wechselspannungsquelle 3. Hierdurch wird der bei e~ einfallende Elektronenstrahl nach Auftreffen auf eine Probe 4 als Primärstrahl in Richtung des Ringspaltes 9 durch diesen hindurch in den so Energieanalysator gelenkt Der innere Zylinder enthält eine Trennwand 7, so daß die von der Probe ausgehenden Primärelektronen 8 den Sekundärelektronenvervielfacher SEV nicht unmittelbar erreichen können. Durch einen entsprechenden Feldaufbau mit Gleich- und Wechselspannungsquellen entsteht im Analysator eine keulenförmige Elektronenbahn, die beim Ringspalt 9 von oben beginnend den Raum zwischen dem äußeren und dem inneren Zylinder durchsetzt und dann durch einen Ringspalt 10 des inneren Zylinders und weiterhin durch eine Blende 15 auf den SEV trifft
F i g. 4 den vergrößerten Ausschnitt IV der F i g. 1 und F i g. 5 eine Ansicht in Pfeilrichtung V vo:. F i g. 2. In F j g. 1 ist im Schnitt ein Elektronenenergie-Analysator dargestellt, der im wesentlichen aus zwei koaxialen Zylindern besteht, die in einem nicht dargestellten evakuierten Gehäuse untergebracht sind. Der äußere Zylinder 1 liegt an einer Gleichspannungsquelle 2 und empfängt als Oberlagerung eine Wechselspannung von einer Wechselspannungsquelle 3. Hierdurch wird der bei e~ einfallende Elektronenstrahl nach Auftreffen auf eine Probe 4 als Primärstrahl in Richtung des Ringspaltes 9 durch diesen hindurch in den so Energieanalysator gelenkt Der innere Zylinder enthält eine Trennwand 7, so daß die von der Probe ausgehenden Primärelektronen 8 den Sekundärelektronenvervielfacher SEV nicht unmittelbar erreichen können. Durch einen entsprechenden Feldaufbau mit Gleich- und Wechselspannungsquellen entsteht im Analysator eine keulenförmige Elektronenbahn, die beim Ringspalt 9 von oben beginnend den Raum zwischen dem äußeren und dem inneren Zylinder durchsetzt und dann durch einen Ringspalt 10 des inneren Zylinders und weiterhin durch eine Blende 15 auf den SEV trifft
Im gezeigten Ausführungsbeispiel kann der innere Zylinder 6 aus einem mit einem Elektronenstrahl
penörierten Zirkonium- oder Titanrohr bestehen. Dieser innere Zylinder 6 enthält auf seiner Außenseite
eng benachbarte Sackbohrungen 11 (Fig.3), die die
durch Energieselektierung aussortierter unerwünschten Primärelektronen und sonstige Teilchen absorbieren
und dabei die Außenflächen des inneren Zylinders elektronen-optisch nicht verändern, so daß die elektronen-optischen
Eigenschaften des Analysators erhalten bleiben.
Die relativ großen öffnungen am oberen und am unteren Ende des inneren Zylinders sind mit einem
dünnen Drahtnetz oder -Gitter 14 aus Zirkonium oder Titan abgedeckt.
Der äußere Zylinder 1 des Elektronenstrahl-Analysators
kann im Gegensatz zum inneren Zylinder 6 mit durchgehenden Perforationen oder Durchgangslöcbern
12 versehen sein, so daß auch die unerwünschten, vom Elektronenstrahl freigesetzten Teilchenströme nach
außen abwandern können (F i g. 2).
Die im inneren Zylinder vorgesehene Trennwand 7 kann ebenfalls als Zirkonium- oder Titanblech mit der
Struktur nach der Erfindung ausgebildet und an der der Probe 4 zugewandten Seite mit eng aneinanderliegenden
Sacklöchern U versehen sein. Eine zweite Möglichkeit besteht darin, die Trennwand in bisher
üblicher Form auszubilden und über dieser durchgehenden
Wand eine plane oder kartenförmige Zirkoniumoder Titanscheibe 13 anzuordnen, die dann mit
durchgehenden Bohrungen 12 versehen sein kann (F ig. 4).
Bei einem Quadrupolanalysator können die vier aus einem massiven Metall bestehenden Polstäbe und das
sie umgebende Rohr als Bauteile nach der Erfindung hergestellt werden.
Claims (5)
1. Bauteil in mit Ladungsträgerstrahlen arbeitenden elektrischen Vakuumgeräten, dessen von einem
Primärstrahlenbündel aus sichtbarer Oberflächenbereich
als strukturierte Oberfläche aus einem Werkstoff, wie Titan, mit niedriger Zerstäubungsrate
und sehr kleiner Desorptionsrate besteht und derart mit eng beieinanderliegenden Öffnungen
versehen ist, daß sie pro Millimeter mehr als eine öffnung von gleicher oder größerer Tiefe als der
Öffnungsdurchmesser aufweist und daß die Gesamtfläche der öffnungen mindestens die Hälfte der
gesamten Oberfläche des Oberflächenbereiches einnimmt, dadurch gekennzeichnet, daß
die öffnungen Sack- oder Durchgangsbohrungen (II, 12) von weniger als 0,5 mm Durchmesser sind,
die im wesentlichen senkrecht zur Oberfläche verlaufen, und daß die Oberfläche außer aus Titan
auch aus Zirkonium und deren Legierungen bestehen kann.
2. Bauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchmesser der Bohrungen mit
zunehmenden Abstand von der Oberfläche abnehmen.
3. Bauteil nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Bauteils
durch eine aufgelegte Platte (13) gebildet ist
4. Bauteil nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der
öffnungen 65 bis 85% der gesamten Oberfläche des Bauteils einnimmt
5. Verfahren zum Herstellen eines Bauteils nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Bohrungen durch Elektronen- oder Laserstrahlen erzeugt werden.
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2639033A DE2639033C3 (de) | 1976-08-30 | 1976-08-30 | Bauteil in mit Ladungsträgerstrahlen arbeitenden elektrischen Vakuumgeräten und Verfahren zu dessen Herstellung |
| NLAANVRAGE7708846,A NL186281C (nl) | 1976-08-30 | 1977-08-10 | Met ladingsdragerstralen werkende electrische vacuueminrichting. |
| SE7709301A SE422510B (sv) | 1976-08-30 | 1977-08-18 | Anordning i med laddningsberstralar arbetande elektriska vakuumapparater |
| GB35494/77A GB1592573A (en) | 1976-08-30 | 1977-08-24 | Electron and ion beam instruments |
| US05/827,307 US4123655A (en) | 1976-08-30 | 1977-08-24 | Arrangement for preventing the alteration of the primary beam by unwanted particles, such as sputter products, charged ions and electrons and their secondary processes |
| JP10275277A JPS5329793A (en) | 1976-08-30 | 1977-08-29 | Apparatus for preventing primary beam change by undesirable substances generated by scattering or secondary emission |
| FR7726164A FR2363183A1 (fr) | 1976-08-30 | 1977-08-29 | Dispositif servant a empecher des modifications du rayonnement primaire par des particules indesirables, en particulier dans des appareils a faisceaux d'electrons ou d'ions |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2639033A DE2639033C3 (de) | 1976-08-30 | 1976-08-30 | Bauteil in mit Ladungsträgerstrahlen arbeitenden elektrischen Vakuumgeräten und Verfahren zu dessen Herstellung |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2639033A1 DE2639033A1 (de) | 1978-03-02 |
| DE2639033B2 true DE2639033B2 (de) | 1980-10-16 |
| DE2639033C3 DE2639033C3 (de) | 1981-07-23 |
Family
ID=5986722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2639033A Expired DE2639033C3 (de) | 1976-08-30 | 1976-08-30 | Bauteil in mit Ladungsträgerstrahlen arbeitenden elektrischen Vakuumgeräten und Verfahren zu dessen Herstellung |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4123655A (de) |
| JP (1) | JPS5329793A (de) |
| DE (1) | DE2639033C3 (de) |
| FR (1) | FR2363183A1 (de) |
| GB (1) | GB1592573A (de) |
| NL (1) | NL186281C (de) |
| SE (1) | SE422510B (de) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4205232A (en) * | 1977-08-24 | 1980-05-27 | Gesellschaft Fur Kernenergieverwertung In Schiffbau Und Schiffahrt Mbh | Arrangement for preventing the alteration of the primary beam by unwanted particles, such as sputter products, charged ions and electrons and their secondary processes |
| DE2831791C2 (de) * | 1978-07-19 | 1982-09-09 | Gkss - Forschungszentrum Geesthacht Gmbh, 2000 Hamburg | Bauteil aus metallischem Werkstoff mit aufladungsgefährdeter Oberfläche und Verwendung hierfür |
| DE2848538C2 (de) * | 1978-11-09 | 1986-10-09 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Elektronen- oder ionenoptische Einrichtung |
| US20060196853A1 (en) * | 2005-03-04 | 2006-09-07 | The Regents Of The University Of California | Micro-joining using electron beams |
| CN1988052B (zh) * | 2006-12-14 | 2010-05-19 | 上海交通大学 | 粒子束流截面直径控制器件及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL152898B (nl) * | 1950-04-12 | Grace Gmbh | Microporeuze, plaatvormige kunstharsvoorwerpen, alsmede werkwijze voor de vervaardiging hiervan. | |
| FR1087364A (fr) * | 1953-07-24 | 1955-02-23 | Radio Ind | Perfectionnements aux tubes à vide |
| NL7009601A (de) * | 1970-06-30 | 1972-01-03 | ||
| FR2162065B1 (de) * | 1971-11-30 | 1977-08-26 | Hitachi Ltd | |
| IT1009545B (it) * | 1974-01-07 | 1976-12-20 | Getters Spa | Struttura a trappola per intercet tare elettroni e particelle elet tricamente cariche |
-
1976
- 1976-08-30 DE DE2639033A patent/DE2639033C3/de not_active Expired
-
1977
- 1977-08-10 NL NLAANVRAGE7708846,A patent/NL186281C/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-08-18 SE SE7709301A patent/SE422510B/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-08-24 US US05/827,307 patent/US4123655A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-08-24 GB GB35494/77A patent/GB1592573A/en not_active Expired
- 1977-08-29 JP JP10275277A patent/JPS5329793A/ja active Granted
- 1977-08-29 FR FR7726164A patent/FR2363183A1/fr active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2363183A1 (fr) | 1978-03-24 |
| NL186281C (nl) | 1990-10-16 |
| NL7708846A (nl) | 1978-03-02 |
| GB1592573A (en) | 1981-07-08 |
| SE7709301L (sv) | 1978-03-01 |
| US4123655A (en) | 1978-10-31 |
| JPS5329793A (en) | 1978-03-20 |
| JPS6342225B2 (de) | 1988-08-22 |
| NL186281B (nl) | 1990-05-16 |
| DE2639033C3 (de) | 1981-07-23 |
| DE2639033A1 (de) | 1978-03-02 |
| FR2363183B1 (de) | 1982-11-05 |
| SE422510B (sv) | 1982-03-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1089895B (de) | Elektronischer Bildverstaerker | |
| DD243369A5 (de) | Elektronenstrahlroehre mit einer inneren magnetischen abschirmung | |
| DE1589829A1 (de) | Niederspannungs-Elektronenstrahl-Geraet | |
| DE1187740B (de) | Elektronenvervielfacherroehre | |
| DE2639033C3 (de) | Bauteil in mit Ladungsträgerstrahlen arbeitenden elektrischen Vakuumgeräten und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| DE1098667B (de) | Ionen-Vakuumpumpe mit Glimmentladung | |
| DE1014242B (de) | Sekundaeremissionsvervielfacher mit einer Fotokathode, bei dem im Anodenraum Glimmlicht entsteht | |
| DE3438987A1 (de) | Auger-elektronenspektrometer mit hoher aufloesung | |
| DE2653812A1 (de) | Flache bildwiedergaberoehre | |
| DE3035241A1 (de) | Farbbildwiedergaberoehre und vorrichtung mit einer derartigen roehre | |
| DE2736916A1 (de) | Elektronenvervielfaeltiger mit strahleinschlussanordnung | |
| DE1941667A1 (de) | Anordnung zum Empfang von Bildsignalen und Synchronisiersignalen | |
| DE2436622C2 (de) | Bildwandler- oder Bildverstärkerröhre | |
| DE2333866A1 (de) | Felddesorptions-ionenquelle und verfahren zu ihrer herstellung | |
| DE2817698C2 (de) | Ionennachweisvorrichtung | |
| DE2944100A1 (de) | Bildwiedergabegeraet in flachbauweise mit strahlkollektor | |
| DE2406863B2 (de) | Leuchtschirm für eine Farbbildröhre mit Nachfokussierung | |
| DE2523360A1 (de) | Gasentladungselektronenstrahlerzeugungssystem zum erzeugen eines elektronenstrahls mit hilfe einer glimmentladung | |
| DE2744532A1 (de) | Elektronenvervielfacher mit filter fuer hochenergetische elektronen | |
| DE1201865B (de) | Schirm fuer Fernsehaufnahmeroehren vom Vidicontyp | |
| DE1289587B (de) | Elektronenentladungsvorrichtung fuer Bildverstaerker, Bildaufnahmeroehren und Photovervielfacher | |
| DE3039011A1 (de) | Sekundaerelektronenvervielfacher-fangelektrode bzw. -target | |
| DE2209533A1 (de) | Lichtverstarker | |
| DE1037610B (de) | Elektronenvervielfacher mit einer zwischen Kathode und Leuchtschirm angeordneten Vielzahl von Dynoden, bei denen die Traeger der Sekundaer-elektronen-Emissionsschichten gitterartige Gebilde sind | |
| DE4108287A1 (de) | Ionenerzeugungsvorrichtung mit entladung im magnetfeld |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OAP | Request for examination filed | ||
| OD | Request for examination | ||
| OGA | New person/name/address of the applicant | ||
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |