DE2165614A1 - Vorrichtung fuer kontinuierliche plattierung - Google Patents

Vorrichtung fuer kontinuierliche plattierung

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continuous
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Tomoyoshi Kawato
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
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    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/16—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
    • C25D17/22—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk having open containers

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US4427518A (en) 1981-07-10 1984-01-24 Siemens Aktiengesellschaft Electroplating device
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