DE2146697A1 - Elektrophotographisches Verfahren sowie Verfahren zur Herstellung von photoleitenden Partikeln - Google Patents

Elektrophotographisches Verfahren sowie Verfahren zur Herstellung von photoleitenden Partikeln

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Yasuo; Osawa Sadao; Honjo Satoru; Takimoto Masaaki Asaka Saitama Tamai (Japan)
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Description

Patentanwälte Dipl.-Ing. F. Weickmann,
Dipl.-Ing. H.Weickmann, Dipl.-Phys. Dr.K.Fincke Dipl.-Ing. F.A.Weickmann, Dipl.-Chem. B. Huber
XI
8 MÜNCHEN 86, DEN POSTFACH 860 820
MÖHLSTRASSE 22, RUFNUMMER 48 39 21/22
<983921/22>
RANK XEROX LIMITED
Rank Xerox House
338 Euston Road, London, N.W.1, England
Elektrophotographisches Verfahren sowie Verfahren zur Herstellung von photoleitenden Partikeln
Die Erfindung bezieht sich auf ein verbessertes elektrophotographisches Verfahren und insbesondere auf eine Verbesserung bei einem elektrophotographischen Verfahren, bei dem photoleitende Partikel als photoleitendes Material verwendet werden.
Es ist bereits ein Verfahren bekannt, bei dem in Kombination photoleitende Partikel mit einem transparenten Kernmaterial und eine leitende Platte verwendet wird. Dieses Verfahren ist ein Typ des elektrophotographischen Verfahrens, vie es an anderer Stelle näher erläutert werden wird (Patentanmeldung 44-12385).
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Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, ein verbessertes elektrophotographisches Verfahren zu schaffen. Bei dem neu zu schaffenden elelctrophotographischen Verfahren sollen photoleitende Partikel verwendet werden, durch die auch bei wiederholtem Gebrauch Schwierigkeiten infolge einer Mebel-Schleierbildung vermieden sind.
Gelöst wird die vorstehend aufgezeigte Aufgabe durch die im Patentanspruch 1 angegebene Erfindung.
Gemäß der Erfindung ist ein elektrophotographisches Verfahren geschaffen, bei dem ein photoleitendes Pulver nach Verteilen auf einem leitenden Artikel elektrostatisch aufgeladen wird oder bei dem eine Verteilung des Pulvers nach elektrostatischer Aufladung erfolgt, wobei ggfs. nach erneuter Aufladung, nach einem Origi_jial erfolgender Belichtung und nach Beseitigung der Partikel, deren elektrische Ladung sich durch die Belichtung vermindert hat, eine Fixierung der übrigen Partikel an ihrer jeweiligen Übertragungsstelle erfolgt. Dieses Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß ein photoleitendes Pulver verwendet wird, das ein pulverförmiges Kernmaterial mit einem Absorptions-
2—1
v . koeffizienten von weniger als 1,3 · 10 mm für eine Strahlung mit einer Wellenlänge aufweist, die dem Hauptteil des Wellenlängenbereichs entspricht, in welchem die photoleitende Substanz eigentlich empfindlich ist.
Dieses Verfahren ist zum Überziehen einer Stahlplatte, etc. unter Anwendung einer Vorrichtung angewandt worden, die als EPM-Vorrichtung bezeichnet wird, da auf der leitenden Platte getrennte Bilder erhalten werden können. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner eine weitere, neue Verbesserung eines derartigen Verfahrens.
0 9 313/1820 BAO
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Demgemäß werden bei dem verbesserten eiektrophotographischen Verfahren gemäß der Erfindung photoleitende Partikel elektrostatisch aufgeladen, die ein pulverförmiges Kernmaterial
2 —1 mit einem Absorptionskoeffizienten von weniger als 1,3 .10 mm für eine Strahlung mit einer Wellenlänge aufweisen, die dem Hauptteil des ¥ellenlängenbereichs entspricht, in dem die photoleitende Substanz empfindlich ist, und zwar nach Aufstäuben bzw. Verteilen auf einer Oberfläche eines leitenden Artikels oder mit Aufstäuben bzw„ Verteilen nach elektrostatischer Aufladung und ggfs» erfolgender Neuaufladung sowie Belichtung der betreffenden Oberfläche entsprechend einem Original, Beseitigung der Partikel, deren elektrische Ladung sich durch die Belichtung vermindert hat, und Fixierung der übrigen Partikel an ihrer jeweiligen übertragungssteile„ Dieses Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß das pulverförmige Kerninaterial eine Substanz mit einem niedrigen spezifischen Widerstand aufweist oder daß eine Oberflächenschicht mit einem niedrigen elektrischen spezifischen Widerstand vorgesehen ist.
Die photoleitenden Partikel gemäß der Erfindung zeichnen sich durch eine hohe Lichtempfindlichkeit im Vergleich zu photoleitenden Partikeln aus, wie sie an anderer Stelle näher beschrieben sind (Patentanmeldung 44-12385) und wie sie nachstehend als bekannte Partikel bezeichnet werden. Bei wiederholter Anwendung der bekannten Partikel zeigte sich, daß die photoleitende Schicht häufig von dem transparenten Kernmaterial auf Grund physikalischer Kräfte abgelöst war. In einem solchen Fall führt dies verschiedentlich zu einer Nebel- bzw. Schleierwirkung, da Partikel mit frei liegendem transparenten Kernmaterial auf der leitenden Fiatte zurückbleiben, ohne infolge einer Belichtung entladen zu sein, da nämlich das transparente Kernmaterial
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eine isolierende Substanz ist» Wenn jedoch die photoleitenden Partikel gemäß der Erfindung verwendet werden, haften diese Partikel nicht an der photoleitenden Platte, weshalb demgemäß auch keine Nebel- bzw« Schleierwirkung auftritt, wenn das transparente Kernmaterial einer Belichtung ausgesetzt ist. Der Grund hierfür liegt darin, daß das Kernmaterial einen niedrigen spezifischen Widerstand aufweist oder leitend ist„
An Hand von Zeichnungen wird die Erfindung nachstehend näher erläutert»
Figo 1 zeigt den Aufbau eines"photoleitenden Partikels, wie er in bisher bekannten elektrophotographischen Verfahren benutzt wird.
Fig. 2 zeigt in vergrößerter Schnittansicht einen photoleitenden Partikel, wie er gemäß der Erfindung verwendet wird.
In Fig. 1 ist in einer vergrößerten Schnittansicht ein photoleitender Partikel 10 dargestellt, wie er in bisher bekannten Verfahren verwendet wird. Der photoleitende Partikel 10 enthält einen transparenten Kern 11, auf dessen Oberfläche eine photoleitende Isolierschicht 12 vorgesehen ist. Der transparente Kern 11 weist einen Absorptions-
2—1 koeffizxenten von weniger als 1,3 · 10 mm für eine Strahlung mit einer Wellenlänge auf, die dem Hauptteil eines Wellenlängenbereichs entspricht, in dem die photoleitende Schicht 12 eigentlich empfindlich ist. Zur Erzielung einer leichten Fixierung enthält dabei zumindest der Kern 11 bzw« die photoleitende Isolierschicht 12 eine Substanz, die durch Wärmeeinwirkung schmelzbar ist oder die durch Anwendung eines Lösungsmittels lösbar ist.
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lh Fig. 2 ist in einer vergrößerten Schnittansicht eine Ausführungsform eines photoleitenden Partikels 20 dargestellt, wie er bei der vorliegenden Erfindung verwendet wird. Der photoleitende Partikel 20 enthält einen transparenten Kern 21 und eine Schicht 22 mit einem niedrigen elektrischen spezifischen Widerstand im Innern. Ferner ist eine photoleitende Isolierschicht 23 auf der genannten Schicht 22 vorgeseheno Der transparente Kern 21 und die Schicht 22, die einen niedrigen elektrischen spezifischen Widerstand aufweisen, weisen einen Absorptionskoeffizienten
2 —1
von vorzugsweise weniger als 1,3 . 10 mm für eine Strahlung mit einer Wellenlänge auf, die dem Hauptteil des Wellenlängenbereichs entspricht, in welchem die eigentliche Empfindlichkeit der photoleitenden Schicht 23 liegt.
Als transparentes Kernmaterial 21 können Partikel aus thermoplastischen Harzen, aus Harzen, die in einem Lösungsmittel lösbar sind, aus Harzen, die durch Wärmeeinwirkung härtbar sind, Glas und dgl. verwendet werden«,
Als Schicht mit einem niedrigen spezifischen widerstand und als leitende Schicht werden vorzugsweise solche Schichten verwendet, die auf Grund der Verwendung der photoleitenden Partikel nicht zueinander wandern. Dabei sind Schichten aus hochmolekularen Verbindungen (Natrium-Polystyrolsulfonat und Polyvinylbenzyltrimethylammoniumchlorid, etc) und anorganische Verbindungen speziell bevorzugt. Als Schicht mit einem niedrigen elektrischen spezifischen Widerstand kann eine leitende Harzschicht, eine Zinnoxydschicht und eine Kupferjodidschicht mit einem spezifischen
Oberflächenwiderstand von weniger als 10 Ohm/Quadratfläche bei 40/£ relativer Feuchtigkeit verwendet werden.
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Das transparente Kernmaterial weist vorzugsweise einen Durchmesser von 5-1000 Mikron auf. In diesem Zusammenhang hat sich ein gutes Ergebnis gezeigt bei Verwendung der leitenden Schicht in einer Dicke von 0,4 - 10 Mikron. Das transparente Kernmaterial kann einen niedrigen elektrischen spezifischen Widerstand aufweisen.
Um eine leitende Schicht auf das transparente Kernmaterial aufzubringen, wird vorzugsweise ein Verfahren angewandt, gemäß dem ein Kernmaterial mit einer Harzlösung benetzt ™ und getrocknet wird. Es kann aber auch ein Verfahren angewandt werden, gemäß dem ein Kernmaterial mit einer Harzlösung vermischt und dann durch Sprühtrocknung getrocknet wird. Wenn das Kernmaterial durch Glaskugeln bzw. Glasperlen gebildet ist, dann wird zusätzlich zu den oben erwähnten Verfahren zur Aufbringung einer leitenden Harzschicht auf das Kernmaterial vorzugsweise ein Verfahren angewandt, gemäß dem eine leitende Zinnoxydschicht (die als sogenannte NESA-Schicht bekannt ist) verwendet wird.
Die bei der vorliegenden Erfindung verwendeten Substanzen umfassen anorganische Photoleiter, wie Selen, Cadmiumsulfid, " Bleioxyd, Zinkoxyd, Titanoxyd und Zinksulfid, und organische Photoleiter, wie Anthrazen und Polyvinylcarbazol. Diese Stoffe werden allein oder in Mischung mit einem Isolierharz als photoleitende Schicht verwendet.
Die photoleitenden Partikel gemäß der Erfindung können nach verschiedenen Verfahren hergestellt werden. Im folgenden sind Beispiele für die Herstellung der betreffenden photoleitenden Partikel angegeben.
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Herstellverfahren 1
5 Gewichtsteilen einer 10bigen wässrigen Lösung von Natrium-Polystyrolsulfonat werden 50 Gewichtsteile PoIymethylmethacrylat-Harzpartikel mit einer mittleren Partikelgröße von 70 /u hinzugesetzt. An dieser Stelle sei noch bemerkt, daß sämtliche nachstehend angegebenen Anteile Gewichtsanteile sind. Die betreffende Mischung wird getrocknet, indem eine Warmluft unter hinreichender Umrührung der Mischung durch diese geblasen wird. Zu 7 Teilen der so erzielten Harzpartikel mit einer leitenden schicht werden zwei Teile der nachstehenden Zusammensetzung hinzugegeben, und die so erhaltene Mischung wird unter Umrühren mit Hilfe eines Heißwindes getrocknet.
Photoleitendes Zinkoxyd 15 Teile
(hergestellt von Sakai Chemical Co.)
Siliziumharzlack (FSR-107) 3 Teile
(hergestellt von Fuji Kobunshi Kagaku Kogyo Co.)
Ilit Styrol versehenes Alkydharz 1 Teil
Zyklohexan 10 Teile
Die obige Zusammensetzung wurde 30 Minuten lang in einem Schnellmischer verrührt, bevor sie mit den Harzpartikeln vermischt wurde. Es wurden trocken überzogene photoleitende Partikel erhalten. Die in den folgenden Beispielen angegebenen Herstellverfahren sind die gleichen wie das Herstellverfahren 1,
Hersteilverfahren 2
5 Teilen der nachstehenden Zusammensetzung wurden 15 Teile der Harzpartikel hinzugegeben, die eine entsprechend dem Herstellverfahren 1 hergestellte leitende Schicht auf der Oberfläche aufwiesen. Die Mischung wurde unter Bildung photoleitender Partikel in einem Heißwind unter Umrühren getrocknet.
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Photoleitendes Zinkoxyd 15 Teile
FSR - 107 4 Teile
Bengalischrot 0,1 Teile
Zyklohexan . ■ 100 Teile
Die obige Zusammensetzung mirde 30 Minuten lang in einem Schnellmischer durchmischt, bevor sie mit Harzpartikeln vermischt wurde, die die leitende Schicht aufweisen
^ Herstellverfahren 3
* 10 Teilen einer Lösung eines leitenden Harzes ECK-34, das
von der Dow Chemical Co0 hergestellt wird, in einer Mischung aus Wasser (92 Gewichtsprozent) und Methanol (8 Gewichtsprozent) wurden 150 Teile Glaskügelchen mit einer Partikelgrcße von 88 bis 210 hinzugesetzt (Glaskügelchen CB 402T
der Toshiba Company). Die Mischung wurde getrocknet, indem
unter Umrühren eineWarmluft durch sie hindurchgeblasen wurde.
Zu 25 Teilen der so erzielten Glaskügelchen ir.it einer leitenden Schicht wurden 3 Teile der nachstehenden Zusammensetzung hinzugegeben, woraufhin die betreffende Mischung
unter Umrühren durch Heißluft getrocknet wurde.
* Photoleitendes Zinkoxyd 16 Teile
Silikonharz 3,5 Teile
(KE- 211 von der Shinetsu
Chemical Industris Co.)
Epikote-Ester-Lack 0,5 Teile
(Nippon Oils Sc Fats Co.,Ltd.)
Äthylazetat 15 Teile
Sensibilisierungs-Farbstoff 0,05 Teile
Der Sensibilisierungs-Farbstoff genügt der nachstehenden
Formel und bewirkt eine Sensibilisierung im Blaubereich.
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O σ = cn - CH = C COCH3
N CH2COOK COOC2H
CH
Die betreffende Zusammensetzung wurde 10 Stunden lang in einer Kugelmühle gemischt, bevor sie mit den eine leitende Schicht aufweisenden Glaskügelchen vermischt wurde»
Herstellverfahren 4
Eine Zusammensetzung wurde dadurch hergestellt, daß 20 Stunden lang in einer Kugelmühle vier Teile Polystyrol anstatt des Silikonharzes und der Epikote-Ester-Lack gemäß dem Herstellverfahren 3 vermischt wurden.
Herstellverfahren 5
Anstatt des tei.-i Herstellverfahren 3 verwendeten photoleitenden Zinkoxyds wurde hierbei Cadmium-Gelb-Orange verwendet (ein Pigment, das aus Cadmium-Cadmiumkarbonat besteht),
Herstellverfahren 6
200 Teile harter Glaskügelchen (mit einer Partikelgröße von 40 - 117 /u) wurden durch folgende Lösung benetzt:
Tanninchlorid-Trihydrat 100 Teile
conz. Salzsäure 10 Teile
Antimontrichlorid 0,7 Teile
destilliertes Wasser 50 Teile
Die benetzten Glaskügelchen wurden einzeln in einen elektrischen Ofen fallengelassen, der eine Längs von 1,8 m aufwies und in dem eine Temperatur von 6000C aufrechtgehalten wurde. Dadurch wurde eine leitende Schicht aus Zinnoxyd im wesentlichen auf der Oberfläche der Glaskügelchen gebildet.
209813/1620 βΑο omGI/VAt
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JiO
Die so erzielten, mit einer leitenden Schicht versehenen Glaskügelchen wurden in einer Reibschale ein wenig pulverisiert, um die Bindung zwischen zwei oder mehreren Glaskügelchen zu löseno
Zu 20 Teilen der so erzielten, mit der leitenden Schicht versehenen Glaskügelchen wurden 5 Teile der nachstehenden Zusammensetzung unter hinreichendem Urnrühren hinzugesetzt« Sodann wurden die Glaskügelchen durch Sprühtrocknung getrocknet,
* Photoleitendes Zinkoxyd 8 Teile
Cadmium-Gelb-Orange 7 Teile
Silikonharzlack (FSR - 107) 7 Teile
Toluol 6 Teile
Äthylazetat 6 Teile
Die obige Zusammensetzung wurde 30 Minuten lang in einem Schnellmischer durchmischt, bevor sie mit den Glaskügelchen vermischt wurde.
Vergleichs-Herstellverfahren 1
Ph_£>toleitende Partikel wurden in derselben Weise herge-) stellt wie im Herstellverfahren 1 angegeben, und zwar durch Hinzugeben von Polymethylmethacrylat-Partikeln direkt zu einer Zusammensetzung, enthaltend Zinkoxyd gemäß dem Herst ellverfahr en 1, ohne daI3 eine Behandlung mit einer Lösung aus Natrium-Polystyrolsulfonat erfolgte.
Vergleichs-Herstellverfahren 2
Photoleitende Partikel wurden in derselben Weise hergestellt wie nach dem Herstellverfahren 3, indem Glaskügelchen einer Zusammensetzung direkt hinzugegeben wurden, die
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Zinkoxyd gemäß dem Her s tellverf ahre"n 3 enthielt, ohne daß eine Behandlung mit einer Lösung aus ECR-34 erfolgte»
Vergleichs-Herstellverfahren 3
Photoleitende Partikel wurden in derselben Weise hergestellt wie nach dem Herstellverfahren 6, indem harte Glaskugel chen einer Zusammensetzung hinzugefügt wurden, die Zinkoxyd und Cadmium-Gelb-Orange gemäß dem Herstellverfahren enthielt, ohne Bildung einer photoleitenden Schicht aus Zinnoxyd auf der Oberfläche der harten Glaskügelchen.
Bei der vorliegenden Erfindung ist es erforderlich, daß das zu überziehende, der jeweiligen Mischung hinzugefügte Kernmaterial sich nicht in dem Lösungsmittel der photoleitenden Überzugsmischungslösung auflöst, wenn die überzugsmischungslösung mit dem zu überziehenden Kernmaterial gemischt wird. Es zeigt sich nämlich eine Verschlechterung des Wirkungsgrades eines Systems, bei dem beim Mischen, Umrühren oder Trocknen eine Auflösung erfolgt. Im Falle vollständiger Auflösung zeigt das betreffende Material eine ähnliche Eigenschaft wie das Pulver, das durch Mischen einer photoleitenden Substanz, wie Zinkoxyd, mit einem Harz hergestellt wird. Demgemäß führt dies zu einer Herabsetzung der Empfindlichkeit und zu einer Verschlechterung der Eigenschaft des Verfahrens. Ferner sollte das Kernmaterial nicht allzuviel Strahlung innerhalb eines Wellenlängenbereichs absorbieren, in welchem die photoleitende Überzugssubstanz eigentlich empfindlich ist. Demgemäß sollte das betreffende Kernmaterial einen Absorptionskoeffizienten aufweisen, dessen Wert vorzugsweise kleiner ist als 1,3*10 mm , und zwar mit dem Hauptteil des Wellenlängenbereichs der eigentlichen Empfindlichkeit der verwendeten photoleitenden Substanz, wenn das Kernmaterial ein Film mit einer Dicke von 5 zu ist.
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Jegliche entsprechend, den obigen Beispielen hergestellten photoleitenden Partikel zeigen eine gute Verarbeitungseigenschaft und eine hohe Empfindlichkeit sowie ein geringes Restpotential und eine schwache Nebel- bzw. Schleierbildung im Vergleich zu der photoleitenden Substanz allein <, Die photoleitenden Fartikel sind in einem geeigneten Bindemittel dispergiert, oder sie weisen ein transparentes Kernmaterial auf, das nicht mit einer leitenden schicht versehen ist»
Im übrigen sind noch ein Vorteil im Hinblick auf die Vorrichtung und. ein Vorteil im Hinblick darauf vorhanden, daß die Behandlung schnell ausgeführt werden kann bzw„ wird. Ferner kann bei Verwendung von Rohstoffen mit hohem Prei-s, wie Selen und Cadmiumsulfid, ein photoleitendes Pulver mit ausgezeichnetem Wirkungsgrad bei einem sehr niedrigen Preis hergestellt werden, da nämlich eine billige pulverförmige Kernsubstanz verwendet wirdo Der Anteil der pulverförmigen Kernsubstanz in dem photoleitenden Pulver liegt vorzugsweise bei einem höheren Wert als 30 Volumenprozent. Ein effektives Ergebnis wird bei einem Wert von mehr 40% erzielt.
Es ist vorgesehen, daß die photoleitenden Partikel gemäß der Erfindung sensibilisiert werden, da durch eine Belichtung hervorgerufene Träger lediglich zu einer leitenden .Platte hin durch die leitende Schicht geleitet werden, die auf dem unteren Teil der photoleitenden Schicht gebildet ist. Es ist ferner angenommen, daß die betreffenden Partikel dadurch sensibilisiert werden, daß die Feldstärke im Innern der photoleitenden Partikel erhöht wird, und .zwar auf Grund des Vorhandenseins der leitenden Schicht.
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Nachstehend seinen Beispiele der Erfindung betrachtet. Es dürfte sicher ohne weiteres einzusehen sein, daß eine Abänderung des in den Beispielen beschriebenen Verfahrens und der angegebenen Kombinationen ohne Abweichung vom Erfindungsgedanken vorgenommen werden kann. Demgemäß ist die 3rfindung auf die oben angegebenen Herstellverfahren-Beispiele und auf die nachstehenden Beispiele nicht beschränkte
Beispiel 1
Es hat sich durch Vergleich von photoleitenden Partikeln gemäß der Erfindting, die nach dem Herstellverfahren 1 hergestellt worden sind, und photoleitenden Partikeln, die nach dem Vergleichs-Herstellverfahren 1 hergestellt worden sind, gezeigt, daß die erstgenannten Partikeln eine größere Lichtempfindlichkeit besaßen. So wurden z.B. diese beiden Arten von Partikeln auf eine Messingplatte mit einem Flächengewicht von 1,2 g/m aufgebracht. Die Platte wurde dann elektrostatisch im Dunkeln nach einem ICoronaentladeverfahren aufgeladen und einem Lichtbild entsprechend belichtet, und zwar mit einem reichlichen Anteil im nahen Ultraviolettbereich. Danach wurde Luft mit geeigneter Geschwindigkeit gegen die Platte gerichtet, um ein sichtbares Bild auf dieser Platte hervorzurufen. Ein Vergleich der nach diesem Verfahren hergestellten Bilder zeigte, daß nach dem Vergleichs-Herstellverfahren 1 hergestellte Partikel von der Messingplatte bei einer Belichtung von 500 lux · sec abgeführt waren, während nach dem Herstellverfahren 1 hergestellte Partikel bei einer Belichtung von 350 lux · sec von der betreffenden Platte bereits entfernt waren. In allen Fällen konnten die erzielten Bilder auf der leitenden Platte fixiert werden, indem über sie Toluol gesprüht wurde. <■
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2K6697
Beispiel 2
Gemäß diesem Beispiel wurden nach dein Herstellverfahren hergestellte photoleitende 'Partikel gemäß der Erfindung mit photoleitenden Partikeln verglichen, die nach dem Vergleichs-Herstellverfahren 2 hergestellt waren. Dabei diente das gleiche Vergleichsverfahren vie im Beispiel 1, wobei jedoch die Aufsprühmenge 3,5 g/m betrug. Hierbei zeigte sich, daß nach dem Vergleichs-Herstellverfahren 2 hergestellte Partikel bei einer Belichtung von 280 lux » sec von der Platte abgeführt waren, während die nach dem Herstellverfahren 3 hergestellten Partikel bei einer Belichtung von 190 lux - sec von der Platte abgeführt waren. Beispiel 3
Die nach dem Herstellverfahren 6 hergestellten photoleitenden Partikel gemäß der Erfindung wurden schließlich mit photoleitenden Partikeln verglichen, die nach dem Vergleichs-Herstellverfahren 3 hergestellt wareno Hierbei diente das gleiche Verfahren wie im Beispiel 1, jedoch betrug die Aufsprühmenge 3,5 g/m . In diesem Fall zeigte sich, daß die nach dem Vergleichs-Herstellverfahren 3 hergestellten Partikel bei einer Belichtung von 250 lux · sec abgeführt waren, während die nach dem Herstellverfahren 6 hergestellten Partikel bei einer Belichtung von 150 lux · sec abgeführt waren.
2098 13/1620 bad

Claims (1)

  1. Patentansprüche
    Elektrophotographisches Verfahren, bei dem photoleitende Partikel elektrostatisch geladen werden, die ein transparentes Kernmaterial mit einem niedrigen Absorptionskoeffizienten für eine Strahlung mit einer Wellenlänge aufweisen, die dem Hauptteil eines Wellenlängenbereichs entspricht, in dem die photoleitende Substanz eigentlich empfindlich ist, und zwar nach Aufsprühen auf einer überfläche von leitenden Artikeln oder mit Aufsprühen der Partikel nach elektrostatischer Aufladung und ggfs. erfolgter Wiederaufladung, wobei nach einer Belichtung entsprechend einem Original und Beseitigung von Partikeln, deren elektrische Ladung durch die Belichtung vermindert worden ist, eine Fixierung der Partikel an ihrer jeweiligen Übertragungsstelle vorgenommen wird, dadurch gekennzeichnet, daß als transparentes Kernmaterial (21) eine Substanz mit einem niedrigen spezifischen Widerstand verwendet wird oder daß eine Schicht (22) mit einem niedrigen elektrischen spezifischen Widerstand zwischen der photoleitenden Substanz (23) und dem transparenten Kernmaterial (21) vorgesehen wird.
    2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Absorptionskoeffizient des Kernmaterials (21)
    2 -1
    kleiner als 1,3 · 10 mm für eine Strahlung mit einer Wellenlänge gewählt wird, die dem Hauptteil des Wellenlängenbereichs entspricht, in dem die eigentliche Empfindlichkeit der photoleitenden Substanz (23) liegt.
    3«-Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Kernmaterial (21) aus einer ein
    2 0 9 813/1620 8^0
    durch Wärme einbrennbares Harz, ein durch ein Lösungsmittel lösbares Harz und Glas umfassenden Materialgruppe ausgewählt wird.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der spezifische Oberflächenwiderstand des transparenten Kernmaterials (21) und/oder der Schicht (22) mit dem niedrigen spezifischen Wider-
    stand kleiner ist als 10 Ohm/Plächeneinheit gewählt wird.
    5. Verfahren zur Herstellung photoleitender Partikel, insbesondere für die Durchfuhrung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht (22) mit einem niedrigen spezifischen Widerstand auf die Oberfläche von transparentem Kernmaterial (21) aufgebracht wird und daß ferner eine photoleitende Schicht (23) auf das Kemmaterial (21) aufgebracht wird.
    6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß als photoleitende Substanz (23) eine Mischung aus photoleitendem Zinkoxyd, einem Isolierharz und einem sensibilisierenden Farbstoff verwendet wird.
    7. Photoleitender Partikel, hergestellt nach einem Verfahren gemäß Anspruch 5 oder 6.
    ORIGINAL
    20981 3/ 1620
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