DE2139836C3 - Verfahren zum berührungslosen Messen der Unebenheiten von Oberflächen - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum berührungslosen Messen der Unebenheiten von Oberflächen durch Erzeugung eines periodischen Lichtmusters mittels eines durch einen parallelen Lichtstrahl unter einem bestimmten Win-

durch die sie überlagernde Schar der durch Inter- 45 kel beleuchteten, in Abstand und parallel zu der zu ferenz der am Gitter (12) und an der zu unter- untersuchenden Oberfläche angeordneten, aus periodisch auftretenden, abwechselnd unterschiedliche Absorptions- oder Beugungseigenschaften aufweisenden linienförmigen Bereichen bestehenden Elements. Auf vielen Gebieten der Technik, vor allem bei der Prüfung von Halb- und Fertigfabrikaten ist es erforderlich, die Güte und die Ebenheit von Flächen oder Flächenelementen laufend zu prüfen. Dazu sind

Meßverfahren erforderlich, die es gestatten, möglichst

suchenden Fläche (13) gespiegelten Strahlung erzeugten Interferenzlinien (65) geeicht werden.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Spiegelung am Gitter (12) erzeugte erste Beugungsordnung und die beim zweiten Durchgang durchs Gitter entstehende nullte Beugungsordnung der beim ersten Durchgang durchs Gitter entstandenen und an

der zu untersuchenden Fläche (13) gespiegelten 55 auf einen Blick festzustellen, ob die Abweichungen ersten Beugungsordnung zur Erzeugung der der einer untersuchten Fläche von einer bestimmten Eichung dienenden Interferenzlinien (65) ver- Ebene innerhalb der zulässigen Toleranzen liegen wendet werden. oder ob sie diese überschreiten. Die bisher zur Prü-

6. Verfahren nach einem oder mehreren der fung der Maßhaltigkeit verwendeten Fühlhebelgeräte Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß 60 oder mechanischen Meßuhren waren zur Untersuzur Unterscheidung konvexer von konkaven Un- chung großer Anzahlen von Flächen nicht geeignet, ebenheiten die Richtung der auf das Gitter (12) da die dazu erforderliche Vermessung einer Vielzahl fallenden Strahlung geändert wird, wobei bei von Einzelpunkten zu zeitaufwendig ist. Außerdem kleiner werdendem Einfallwinkel die die Uneben- ist die Meßgenauigkeit dieser Anordnungen begrenzt, heit anzeigenden ringförmigen Doppelbeugungs- 65 und es kann eine mechanische Beschädigung der linien (61, 62, 63) aus einer konvexen Unebenheit vermessenen Flächen nicht mit Sicherheit ausgeheraus-und in eine konkave Unebenheit hinein- schlossen werden. In der DT-AS 16 48 630 wird ^1ailfpn eine Anordnung beschrieben, bei der eine Rolle über

:lie zu untersuchende Fläche läuft. An dem diese bei 25 μπι liegt Das in der Einleitung zur erstgenann-Rolle tragenden Hebel ist eine Lichtschranke be- ten Literaturstelle erwähnte, mit zwei getrennten festigt, die bei Auftreten von Unebenheiten auf der Lichtquellen arbeitende Verfahren hat den Nachteil, cu untersuchenden Fläche einen Lichtstrahl modu- daß die beiden Lichtquellen in der Auswertebene liert. Bei den bekannten interferoL;etrischen Meß- 5 liegen, wodurch das Verfahren umständlich und zur verfahren werden die beiden zuletzt genannten Nach- Verwendung bei der laufenden Untersuchung wähteile zwar vermieden, es ist aber auch bei diesem rend der Herstellung von Massengütern wenig ge-Verfahren nur eine punktweise Vermessung mögiich. eignet ist.

Darüber hinaus sind die meisten der bekannten Meß- In der Literaturstelle »Optik in der Längenmeßverfahren für Meßbereiche, die ein Vielfaches der io technik«, von F. Hod am, 1962, S. 263, wird vorWellenlänge der verwendeten Strahlung betragen, geschlagen, interferometrische Messungen mit mehsehr umständlich und zeitraubend. reren Wellenlängen gleichzeitig durchzuführen. Die

In der Literaturstelle »Moire Contours«, Optical durch die einzelnen Wellenlängen erzeugten Inter- and Laser Technology, November 1970, Vol. 2, Nr. 4, ferenzstreifen stimmen nur in bestimmten, sich peri-S. 226, wird ein Verfahren zur Darstellung der Kon- 15 odisch wiederholenden Lagen räumlich überein, türen unebener Körper beschrieben, bei dem das Diese Übereinstimmungen der Streifenlagen gestatten Objekt durch ein Gitter hindurch mittels einer punkt- eine Ablesung nach dem Noniusprinzip, d. h., die förmigen Lichtquelle beleuchtet und durch das glei- größte abzulesende Einheit sind nicht mehr die ehe oder ein ähnliches Gitter betrachtet wird. Das Interferenzstreifen, sondern die obengenannten Über-Auflösungsvennögen liegt bei diesem Verfahren bei 20 einstimmungen der Lage der Interferenzstreifen aller etwa 1 mm. Ein ähnliches Verfahren wird in der verwendeten Farben. Auf diese Weise entfällt das Literaturstelle »Moire Topographie Maps«, von J. mühsame Abzählen aller Interferenzstreifen und alle Vasowski, Optics Communications, Vol. 2, Nr. 7, damit zusammenhängenden Fehlerquellen. Es hat Dezember 1970, S. 321 bis 323, beschrieben. In der sich aber gezeigt, daß das Erkennen und somit das Literaturstelle »High-Efficiency Phase-Hologram »5 Abzählen der Lagen, in denen die Interferenzstreifen Gratings«, von A. Schmackpfeffer, W. Jarisch aller verwendeten Farben gleichzeitig auftreten, ins- und W. W. KuIcke, IBM Journal of Research besondere bei der Verwendung mehrerer eng benach- and Development, Vol. 14, Nr. 5, September 1970, barter Wellenlängen sehr schwierig und unsicher ist. S. 533 bis 538, wird ein Verfahren zur Herstellung Es wurde daher vorgeschlagen, die den einzelnen besonders leistungsfähiger Phasen-Hologrammgitter 30 Wellenlängen zugeordneten Interferenzstreifen fotobeschrieben. Bei den in den beiden zuerst genannten grafisch aufzuzeichnen und die einzelnen Aufzeich-Literaturstellen beschriebenen Moire-Verfahren wer- nungen zur Auswertung durch Projektion zu uberden sogenannte Höhen- oder Schichtlinien dadurch lagern. Dieses Verfahren ist, wie leicht einzusehen, erzeugt, daß zwei Gitter gleicher Gitterkonstante und sehr umständlich, zeitraubend und kostspielig, bine Richtung auf dem zu vermessenden Objekt durch 35 Verwendung dieses Verfahrens bei der Überwachung Projektion zur Überlagerung gebracht werden. Es ist der Produktion von Massengütern, beispielsweise zur auch möglich, auf das zu vermessende Objekt nur Überprüfung der Halbleiterplättchen wahrend und ein Gitter zu projizieren und die Projektion dieses nach den einzelnen Fabrikationsschritten bei der Gitters durch dasselbe oder ein gleiches Gitter zu Herstellung von integrierten Schaltungen ist dauer betrachten 40 ausgeschlossen. Die oben angegebenen Moire-Ver-

Es ist leicht einzusehen, daß das Auflösungsver- fahren sind, abgesehen von relativ seltenen Sondermöeen vor allem das Tiefenauflösungsvermögen fällen und der Anwendung von besonderen Vorkehdieser Verfahren von der Gitterkonstante abhängt. rungen auf die Ausmessung von nicht spiegelnden Da mit kleiner werdender Gitterkonstante auch der Oberflächen beschränkt.

Abstand vom Gitter kleiner wird, indem noch scharfe, 45 Ke Erfindung geht von der Aufgabenstellung 1aus, von Interferenzerscheinungen ungestörte Schatten ein Verfahren bzw. eine Vorrichtung der eingangs der Gitterbalken vorliegen, der Abstand zwischen genannten Art anzugeben, das die obengenannten Giter und Objekt, aber aus praktischen Gründen Nachteile vermeidet und in einfacher We.se die Fest-St beliebig klein gemacht werden kann, ist das stellung von im Bereich νοημίη liegenden Uneben-Moie-Verfahren nur in solchen Fällen anwendbar, ₅o heiten auch spiegelnder Flachen ermöglicht. Darüber mdenen die Tiefenausdehnung der aufzulösenden hinaus soll es möglich sein, das ^Af ^™^"™^ Unebenheiten über etwa 0,1 mm liegt. Ein in der von nach ^^^^^'^^^ deutschen Offenlegungsschrift 21 00 304 beschriebe- in einfacher Weise innerhalb weiter Grenzen zu ver nes Verfahren zum zerstörungsfreien Messen von ändern. _u a- _{m 4η}™,Λ ι he

Oberflächenzuständen ist ebenfalls auf relativ große ₅₅ Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 be-Gitterkonstanten und somit auf geringe Meßgenauig- schriebene Erfindung gelost.

keiten beschränkt. Die in dieser Literafurstelle ange- Durch die Verwendung von Gittern m Gitte-

gebenen Maßnahmen eignen sich zudem nur zur konstanten, ^be' ^de.^ne" t'^teTnichTwte bei den integralen Bestimmung der kumulativen Wirkung stehende: periodische ^muster nicht^wie bei^den einer Vielzahl von im Abtastbereich auftretenden 60 bekannten Moire-Verfahren du ch Jha^nwurt, Störungen. In den Literaturstellen »Applied Optics«, sondern durch Interferenz entsteht w.rd emoghch VoI 9 Nr 4, April 1970, S. 942 bis 947, und »Ap- Auflösungsvermögen bis in den Bereich von Bruch plted Optics« Vol. 9, Nr. 12, Dezember 1970, S. 2802 teilen von _μηι zu erreichen und den »ΡΡ"»™^Α£ und 2803, werden Verfahren und Vorrichtungen zur wand sowie die Storanfa hgkeit gegenubeJ bekannte« Vermessung von Oberflächen mittels Moire-Verfah- 65 Vorrichtungen mit vergleichbaren Leistungen stark ren beschrieben. Abgesehen von ihrer Kompliziert- herabzusehen. „ . _d

heit weisen diese Verfahren den Nachteil auf, daß Die !Erfindung wird anschließend an Hand der

das maximal erreichbare Auflösungsvermögen etwa Zeichnungen näher erläutert, hs zeigt

Fig. 1 eine schematische Darstellung der hinter einem optischen Gitter mit einer Gitterkonstante in der Größenordnung von μίτι auftretenden Interferenzfeldes,

F i g. 2 eine schematische Darstellung der nach dem erfindungsgemäßen Verfahren auszuwertenden Beugungsordnungen und Beobachtungsrichtungen,

F i g. 3 eine schematische Darstellung der durch örtlich begrenzte Neigungen der zu untersuchenden Fläche entstehenden Fehler,

F i g. 4 die schematische Darstellung einer Anordnung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit inkohärentem Licht,

F i g. 5 die schematische Darstellung einer Anordnung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit kohärentem Licht,

Fig. 6 die Darstellung eines fotografisch aufgezeichneten Doppelbeugungslinienmusters, das von einem Interferenzlinienmuster überlagert ist.

Gemäß F i g. 1 fällt ein kohärenter paralleler Strahl aus der mit dem Pfeil 11 eingezeichneten Richtung auf ein optisches Gitter 12, dessen Gitterkonstante in der Größenordnung von 1 μίτι liegt. Unterhalb des Gitters entsteht durch Interferenz der nullten Beugungsordnung mit der plus ersten Beugungsordnung, also der mit 11,0 und 11,+ 1 bezeichneten Strahlungen, ein Interferenzmuster, das wie folgt konstruiert werden kann. Die Strahlungsfelder 11,0 und 11,+ 1 haben gleiche Wellenlängen und feste Phasenlagen, wie sie beispielsweise durch die Sinuskurven 15 und 16 angedeutet werden. Von jedem Minimum des durch die Kurve 15 angedeuteten Amplitudenverlaufes wird eine parallel zur Wellenfront der Strahlung 11.0 verlaufende ausgezogene Gerade und von jedem Maximum eine parallel dazu verlaufende gestrichelte Gerade gezogen. Von jedem Maximum der Kurve 16 wird eine parallel zur Wellenfront der Strahlung 11,4-1 verlaufende gestrichelte und von jedem Minimum dieser Kurve eine parallel dazu verlaufende ausgezogene Gerade gezogen. Es ist leicht einzusehen, daß in den Punkten, in denen sich ausgezogene mit ausgezogenen oder gestrichelte mit gestrichelten Linien schneiden, Maxima und in den Punkten, in denen sich ausgezogene mit gestrichelten Linien schneiden, jeweils Minima vorliegen werden. Da«; sich ergebende Interferenzmuster besteht aus ka^imartig nebeneinander angeordneten Lichtstegen, die die Strahlungen 11,+ 1 un 11,0 enthalten und in einer Richtung δ — (<5₀ + <5j)/2 verlaufen, wobei δ₀ der Winkel der nullten Beugungsordnung (11,0) und <5, der Winkel der minus ersten Beugungsordnung (11, 4-1) mit der normalen ist.

In F i g. 2 werden die Verhältnisse im einzelnen quantitativ dargestellt. Die aus der Richtung des mit 11 bezeichneten Pfeiles einfallende parallele kohärente Strahlung wird am Gitter 12 in Beugungsordnungen + 1,0 und —1 (11,4-1; 11,0 und 11,-1) aufgespalten. Wird eine parallel zum Gitter 12 liegende spiegelnde Räche 13 in das Interferenzfeld gebracht, so wird das Interferenzfeld um diese Ebene geklappt und fällt unter dem Winkel δ = (δ₀+O₁)Zl auf die Unterseite des Gitters 12. Weist die Ebene 13 Unebenheiten auf, so wird das reflektierte Interferenzmuster entsprechend deformiert Durch die Beugung des reflektierten Interferenzmusters an der Unterseite des Gitters 12 entsteht ein Streifensystern. vsoöci'uis tvitsxsiiSTiao'c Streifes Jk. Stcüen des Gitters verbinden, die gleiche Abstände von den entsprechenden Flächenelementen haben. Diese Streifen werden, da sie durch zweimalige Beugung am Gittei 12 entstehen, als Doppelbeugungslinien bezeichnet. Beim Übergang von einem dunklen zu einem hellen Streifen des Systems der Doppelbeugungslinien ändert sich die Oberflächenhöhe gemäß F i g. 2 um

5 =

4 tan

wobei g die Gitterkonstante und ό der Gitterübertragungswinkel ist.

Dunkle Streifen entstehen an den Stellen, an denen der Abstand h des reflektierenden Flächenelements von der Gitterebene ein ungerades Vielfaches von s ist, also:

h = m-s mit m = 1, 3, 5 ... (3)

An diesen Stellen fallen die Interfercnzmaxima auf die lichtundurchlässigen Stege des Gitters 12. Für

/1 = n-s mit η = 2,4, 6 ... (4)

fallen die Interferenzmaxima in die Lücken zwischen den Stegen.

Über einem reflektierenden Testobjekt entsteht alsc ein Höhenschichtliniensystem der Oberfläche.

Die Änderung der Oberflächenhöhe zwischen zwe dunklen Streifen beträgt nach den Gleichungen 2,3,4: 30

= 2s =

2 tan ό

Um die Maxima oder Minima der spiegelnder

Fläche 13 entstehen Ringsysteme. Die Unterschei dung, ob es sich dabei um ein Maximum oder eir Minimum handelt, ist durch Änderung von ί festzustellen. Bei Verkleinerung von ό laufen die Ringe aus einem Maximum heraus und in ein Mini mum hinein, da sich die Streifen nach (2) zu größerer Flächen-Gitterabständen verlagern. Wie leicht ein zusehen, kann diese Differenzierung auch durch Veränderung des Gitterabstandes vorgenommen werden Wie aus F i g. 2 ersichtlich, fallen die Maxima de:

Interferenzmusters auf die undurchsichtigen Stegs des Gitters 12, wenn die spiegelnde Fläche 13 siel in den Lagen 13a, 13b, 13c oder 13d befinden. Ir den dazwischenliegenden Lagen der spiegelnden Flä ehe 13 fallen die Maxima des reflektierten Inter ferenzmusters mit den Gitteröffnungen zusammen, se daß sie am Gitter gebeugt werden. Es wird darau hingewiesen, daß die Richtung der die Maxima ent haltenden Lichtstege des Interferenzfeldes nicht mi der Richtung der an ihrer Bildung beteiligten Strah

len übereinstimmt Durch Wahl einer bestimmtei Beobachtungsrichtung kann eine beliebige Beugungs Ordnung ausgewählt werden. Als besonders vorteil haft hat sich die Verwendung der am Gitter 12 bein ersten Durchtritt der Strahlung entstehende Beu

gungsordnung 4-1 erwiesen, die in Richtung de nullten Beugungsordnung des durch die zweite Beu gung am Gitter entstehenden Interferenzfeldes beob achtet wird. Diese Beobachtungsrichtung hat gegen über allen anderen Beobachtungsrichtungen dei

Vorteil, daß die beim ersten Auftreffen der Strahluni

^ auf das Gitter 12 ak T*eugu>?.i».«/->rdnung — 1 T«^a"k tieiic und keine Information enthaltende Strahiunj 22, die in der gleichen Richtung liegt wie die in Beob

7 8

achtungsrichtung verlaufende nullte Beugungsord- des erfindungsgemäßen Verfahrens beschrieben. Ein nung der an der Fläche 13 reflektierten Beugungs- von einem Laser 30 ausgehender paralleler kohäordnung+1, wesentlich schwächer ist als die am renter Strahl 31 wird durch die Linsen 32 und 33 Gitter 12 reflektierte, ebenfalls keine Information verbreitert und fällt auf ein optisches Gitter 34, an enthaltende nullte Beugungsordnung 23. Die von der 5 dem er gebeugt wird. Das unterhalb des Gitters entnullten Beugungsordnung der das Gitter zum ersten- stehende Interferenzfeld wird an einem zu untermal durchsetzenden Strahlung herrührenden Strah- suchenden Körper 35 reflektiert und fällt von unten len 26, 27 und 28, von denen der Strahl 26 in Beob- auf das gleiche Gitter. Die dabei entstehenden Dopachtungsrichtung liegt, liegen so weit von den beob- pelbeugungslinien werden, wie im Zusammenhang achteten Strahlen 25, daß sie durch eine Blende unter- io mit F i g. 2 näher erläutert, in Richtung der nullten drückt werden können. Weiterhin entstehen durch Beugungsordnung der beim ersten Auftreffen auf die am Gitter 12 reflektierte Beugungsordnung+1 das Gitter entstehenden Beugungsordnung+1 bestrahl 22) und die an der spiegelnden Fläche 13 obachtet, was durch Anordnung eines Schirmes oder reflektierte Beugungsordnung +1 Interferenzringe, einer Mattscheibe 36 im Verlauf dieses Strahles erdie eine Eichung des gemäß des erfindungsgemäßen i₅ folgt.

Verfahrens erzeugten Doppelbeugungsliniensystems In F i g. 4 wird eine Anordnung zur Durchführung

ermöglichen. Aus den obenerwähnten Gründen ist die des erfindungsgemäßen Verfahrens mit inkohärentem

Helligkeit dieser Interferenzringe relativ gering, so Licht wiedergegeben. Eine von einer Quelle 40 aus-

daß eine Störung bei der Beobachtung des Doppel- gehende inkohärente Strahlung 41 wird durch die

beugungsliniensystems nicht erfolgt. 20 Kondensorlinsen 42 und 43 konvergent gemacht und

Bei den oben beschriebenen Verfahren wurde vor- durchsetzt ein Filter 44, das sie als monochromaausgesetzt, daß die Reflexion der Lichtbündel an tische Strahlung verläßt. Die Strahlung durchsetzt Flächcnelementen erfolgt, die parallel zur Gitter- anschließend eine Aperturblende 45 und wird an ebene orientiert sind. Das ist streng genommen nur einem Spiegel 46 in Richtung auf eine Feldlinse 47 im Bereich der Maxima oder Minima der zu unter- 25 abgelenkt, hinter der ein Gitter 48 und eine zu untersuchenden Fläche der Fall. Dazwischen haben die suchende Fläche 49 angeordnet ist. Die an der zu Flächenelemente in der Regel eine von Null ver- untersuchenden Fläche reflektierte und beim Durchschiedene Steigung. Auf diese Weise entstehen Meß- tritt durch das Gitter zum zweitenmal gebeugte Strahfehler δ h des Abstandes h der Gitterebene von dem lung wird an einem Spiegel 50 in Richtung auf einen entsprechenden Flächenelement. Nach F i g. 3 beträgt ₃₀ Beobachtungsschirm 53 abgelenkt. Zwischen Spiegel jeder Fehler für kleine Winkel 50 und Beobachtungsschirm 53 ist eine Lochblende

51 zur Ausblendung aller unerwünschten Beugungs-

_ ~ ^tanP , (6) Ordnungen und des Streulichtes und eine Abbildungs-

Ί *^an δ linse 52 vorgesehen.

35 F i g. 6 stellt die fotografische Aufzeichnung eines

Bei der Untersuchung von Oberflächen hoher Güte bei der Untersuchung eines Halbleiterplättchens ent-

ist dieser Fehler vernachlässigbar. stehenden Doppelbeugungsliniensystems dar. Die

Soll geprüft werden, ob unzulässig hohe Steigun- Doppelbeugungslinien 61, 62 und 63 werden durch gen auf der Oberfläche auftreten, so wird das Gitter ein System von Interferenzlinien 65 überlagert. Durch über der Fläche so beleuchtet, daß <5 = 0 wird und ₄₀ Abzählen der zwischen zwei Doppelbeugungslinien festgestellt, ob dunkle Streifen auftreten. Ist dies liegenden Interferenzlinien kann der durch zwei benicht der Fall, so enthält die Fläche keine unzulässig nachbarte Doppelbeugungslinien definierte Höhenhohen Steigungen. unterschied der entsprechenden Bereiche der zu

In F i g. 5 wird eine Anordnung zur Durchführung untersuchenden Fläche genau bestimmt werden.

Hierzu 5 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

1. Patentansprüche:

   1. Verfahren zum berührungslosen Messen der Unebenheiten von Oberflächen durch Erzeugung eines periodischen Lichtmusters mittels eines durch einen parallelen Lichtstrahl unter einem bestimmten Winkel beleuchteten, in Abstand und parallel ru der zu untersuchenden Oberfläche angeordneten, aus periodisch auftretenden, abwechselnd unterschiedliche Absorptions- oder Beugungseigenschaften aufweisenden linienförmigen Bereichen bestehenden Elements, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Bestrahlung eines Beugungsgitters (12) ein aus kammartig nebeneinanderliegenden Lichtstegen bestehendes Interferenzfeld erzeugt wird, daß dieses Interlerenzfeld an der zu untersuchenden Oberfläche {13) zum Beugungsgitter zurückgespiegelt wird, to daß durch Beugung des gespiegelten Interlerenzfeldes am Beugungsgitter (12) ein die Un- ao tbenheiten der zu untersuchenden Oberfläche (13) wiedergebendes, aus doppelt gebeugten Linien bestehendes kurvenförmiges Doppelbeugungsliniensystem (61, 62, 63) entsteht, wobei durch Wahl einer bestimmten Beobachtungsrichtung as tine beliebige Beugungsordnung der Doppelbeugungslinien ausgewählt wird.

   2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß durch Wahl der Beobachtungsrichtung das durch das Zusammenwirken der nullten (11,0) und der ersten (11,+ 1) Beugungs-Ordnung erzeugte Interferenzfeld ausgewertet wird.

   3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Beobachtung in Richtung der nullten Beugungsordnung (25) der am Gitter beim ersten Durchgang gestreuten und an der untersuchten Fläche (13) gespiegelten ersten Beugungsordnung (11, +1) erfolgt.

   4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die der Größe der Tiefenausdehnungen der Unebenheiten der zu untersuchenden Oberfläche (13) zugeordneten Abstände der Doppelbeugungslinien (61, 62, 63)

   7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß zur Prüfung einer Fläche auf das Vorliegen von das Meßverfahren beeinträchtigenden Neigungen die Strahlung senkrecht auf das Gitter (12) gerichtet wird, wobei das Auftreten von ringförmigen Doppelbeugungslinien (61, 62, 63) das Vorliegen solcher störender Neigungen anzeigt.

   8. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine kohärente Lichtquelle (30), eine Linsenanordnung (32,33) zur Strahlverbreiterung, ein optisches Gitter (34) mit einer in der Größenordnung weniger μτη liegenden Gitterkonstante, unter das die zu untersuchende Fläche (35) bringbar ist, und einen in den Bereich der gewünschten Beugungsordnung der Doppelbeugungslinien bringbaren Beobachtungsschirm (36).

   9. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine inkohärente mehrfarbige Lichtquelle (40), die von der Lichtquelle ausgehende Strahlung konvergentmachende Linsen (42, 43), ein Filter (44), eine Blende (45), einen die Strahlung auf eine sie parallelrichtende Linse (47) ablenkenden Spiegel (46), ein die parallelgerichtete Strahlung beugendes Gitter (48) mit einer in der Größenordnung weniger μπι liegenden Gitterkonstante, unter das die zu untersuchende Fläche bringbar ist, sowie einen die das Gitter (47) zum zweiten Mal durchsetzende Strahlung in Richtung auf eine Blende (51), eine Linse (52) und einen Beobachtungsschirm (53) ablenkenden Spiegel (50).