DE2139836B2 - Verfahren zum berührungslosen Messen der Unebenheilen von Oberflächen - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum berührungslosen Messen der Unebenheiten von Oberflächen durch Erzeugung eines periodischen Lichtmusters mittels eines durch einen parallelen Lichtstrahl unter einem bestimmten Windurch die sie überlagernde Schar der durch Inter- 45 kel beleuchteten, in Abstand und parallel zu der zu ferenz der am Gitter (12) und an der zu unter- untersuchenden Oberfläche angeordneten, aus peri

odisch auftretenden, abwechselnd unterschiedliche Absorptions- oder Beugungseigenschaften aufweisenden linienförmigen Bereichen bestehenden Elements. Auf vielen Gebieten der Technik, vor allem bei der Prüfung von Halb- und Fertigfabrikaten ist es ei forderlich, die Güte und die Ebenheit von Flächen oder Flächenelemenlen laufend zu prüfen. Dazu sind Meßverfahren erforderlich, die es gestatten, möglichst

suchenden Fläche (13) gespiegelten Strahlung erzeugten Interferenzlinien (65) geeicht werden.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Spiegelung am Gitler (12) erzeugte erste Beugungsordnung und die beim zweiten Durchgang durchs Gitter entstehende nullte Beugungsordnung der beim ersten Durchgang durchs Gitter entstandenen und an

der zu untersuchenden Fläche (13) gespiegelten 55 auf einen Blick festzustellen, ob die Abweichungen ersten Beugungsordnung zur Erzeugung der der einer untersuchten Fläche von einer bestimmten Eichung dienenden Interferenzlinien (65) ver- Ebene innerhalb der zulässigen Toleranzen liegen wendet werden. oder ob sie diese überschreiten. Die bisher zur Prü-

6. Verfahren nach einem oder mehreren der fung der Maßhaltigkeit verwendeten Fühlhebdgeriitc Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß 60 oder mechanischen Meßuhren waren zur Untcrsuzur Unterscheidung konvexer von konkaven Un- chung großer Anzahlen von Flächen nicht geeignet, ebenheiten die Richtung der auf das Gitter (12) da die dazu erforderliche Vermessung einer Vielzahl fallenden Strahlung geändert wird, wobei bei von Einzelpunkten zu zeitaufwendig ist. Außerdem kleiner werdendem Einfallwinkel die die Uneben- ist die Meßgenauigkeit dieser Anordnungen begrenzt, heit anzeigenden ringförmigen Doppelbeugungs- 65 und es kann eine mechanische Beschädigung der linien (61, 62, 63) aus einer konvexen Unebenheit vermessenen Flächen nicht mit Sicherheit ausgeheraus- und in eine konkave Unebenheit hinein- schlossen werden. In der DT-AS 16 48 630 wird laufen. eine Anordnung beschrieben, bei der eine Rolle über

Jj₆ zu untersuchende Fläche läuft. An dem diese Rolle tragenden Hebel ist eine Lichtschranke be festigt, die bei Auftreten von Unebenheiten auf der ^untersuchenden Fläche einen Lichtstrahl modu- igrt. Bei den bekannten interferometrischen Meß- »erfahren werden die beiden zuletzt genannten Nachsäe zwar vermieden, es ist aber auch bei diesem Verfahren nur eine punktweise Vermessung möglich. Darüber hinaus sind die meisten der bekannten Meßverfahren für Meßbereiche, die ein Vielfacher der Wellenlänge der verwendeten Strahlung betragen, ,ehr umständlich und zeitraubend.

In der Literaturstelle »Moire Contours«, Optical ,nd Laser Technology, November 1970, Vol. 2, Nr. 4, S. 226, wird ein Verfahren zur Darstellung der Konluren unebener Körper beschrieben, bei dem das Objekt durch ein Gitter hindurch mittels einer punktfönnigen Lichtquelle beleuchtet und durch das gleiche oder ein ähnliches Gitter betrachtet wird. Das Auflösungsvermögen liegt bei diesem Verfahren bei etwa 1 mm. Ein ähnliches Verfahren wird in der Literaturstclle »Moire Topographie Maps«, von J. Vasowski, Optics Communications, Vol. 2, Nr. 7, Dezember 1970, S. 321 bis 323, beschrieb n. In der Literaturstelle »High-Efficiency Phase-Hologram Gratings«, von A. Schmackpfeffer, W. J arisch und W. W. Kulcke, IBM Journal of Research and Development, Vol. 14, Nr. 5, September 1970, S. 533 bis 538, wird ein Verfahren zur Herstellung besonders leistungsfähiger Phasen-Hologramm^itter beschrieben. Bei den in den beiden zuerst genannten Literaturstellen beschriebenen Moire-Verfahren werden sogenannte Höhen- oder Schichtlinien dadurch erzeugt, daß zwei Gitter gleicher Giiterkonstante und Richtung auf dem zu vermessenden Objekt durch Projektion zur Überlagerung gebracht werden. Es ist auch möglich, auf das zu vermessende Objekt nur ein Gitter zu projizieren und die Projektion dieses Gitters durch dasselbe oder ein gleiches Gitter zu betrachten.

Es ist leicht einzusehen, daß das Auflösungsvermögen, vor allem das Tiefer.auflösungsvermögen dieser Verfahren von der Gitterkonstante abhängt. Da mit kleiner werdender Gitterkonstante auch der Abstand vom Gitter kleiner wird, indem noch scharfe, von Interferenrerscheinungen ungestörte Schatten der Gitterbalken vorliegen, der Abstand zwischen Gitter und Objekt, aber aus praktischen Gründen nicht beliebig klein gemacht werden kann, ist das Moire-Verfahren nur in solchen Fällen anwendbar, in denen die Ticfenausdchnung der aufzulösenden Unebenheiten über etwa 0,1 mm liegt. !Ein in der deutschen Offenlegungsschrift 2100 304 beschriebenes Verfahren zum zerstörungsfreien Messen von Obcrflächenzuständen ist ebenfalls auf relativ große Gitterkonstanten und somit auf geringe Meßgenauigkeiten beschränkt. Die in dieser Literaturstclle angegebenen Maßnahmen eignen sich zudem nur zur inteiualen Bestimmung der kumulativen Wirkung einer Vielzahl von im Abtastbereich auftretenden Störungen. In den Litcratinstellen »Applied Optics*·, Vol.9, Nr. 4, April 1970, S. 942 bis 947. und »Applied Optics«, Vol. 9, Nr. 1 2, Dezember I 970. S. 2802 und 2803, werden Verfahren und Vorrichtungen zur Vermessung von Oberflächen mittels Moire-Verfahren beschrieben. Abgesehen \on ihrer Kompliziertheit weisen diese Verfahren den Nachteil auf. daß das maximal erreichbare Auflösungsvermögen etwa

bd 25 um liegt. Das in der Einleitung zur erstgenannten Literaturstelle erwähnte, mit zwei getrennten Lichtquellen arbeitende Verfahren hat den Nachteil, daß die beiden Lichtquellen in der Auswertebene liegen, wodurch das Verfahren umständlich und zur Verwendung bei der laufenden Untersuchung während der Herstellung von Massengütern wenig geeignet ist.

In der Literaturstelle »Optik in der Längenmeß-

technik«, von F. Hodam, 1962, S. 263, wird vorgeschlagen, interferometrische Messungen mit mehreren Wellenlängen gleichzeitig durchzuführen. Die durch die einzelnen Wellenlängen erzeugten Interferenzstreifen stimmen nur in bestimmten, sich periodisch wiederholenden Lagen räumlich überein. D;ese Übereinstimmungen der Streifenlagen gestatten eine Ablesung nach dem Noniusprinzip, d. h., die größte abzulesende Einheit sind nicht mehr die Interferenzsireifen, sondern die obengenannten Übereinsiimmungen der Lage der Interferenzstreifen aller verwendeten Farben. Auf diese Weise entfällt das mühsame Abzählen aller Interferenzstreifen und alle damit zusammenhängenden Fehlerquellen. Es hat sich aber gezeigt, daß das Erkennen und somit das Abzählen der Lagen, in denen die Interferenzstreifen aller verwendeten Farben gleichzeitig auftreten, insbesondere bei der Verwendung mehrerer eng benachbarter Wellenlängen sehr schwierig und unsicher ist. Es wurde daher vorgeschlagen, die den einzelnen Wellenlängen zugeordneten Interferenzstreifen fotografisch autzuzeichnen und die einzelnen Aufzeichnungen zur Auswertung durch Projektion zu überlagern. Dieses Verfahren ist, wie leicht einzusehen, sehr umständlich, zeitraubend und kostspielig. Eine Verwendung dieses Verfahrens bei der überwachung der Produktion von Massengütern, beispielsweise zur Überprüfung der Halbleiterplättchen während und nach den einzelnen Fabrikationsschritten bei der Herstellung von integrierten Schaltungen ist daher ausgeschlossen. Die oben angegebenen Moire-Verfahren sind, abgesehen von relativ seltenen Sonderfällen und der Anwendung von besonderen Vorkehrungen auf die Ausmessung von nicht spiegelnden Obci flächen beschränkt.

Die Erfindung geht von der Aufgabenstellung aus, ein Verfahren bzw. eine Vorrichtung der eingangs genannten Art anzugeben, das die obengenannten Nachteile vermeidet und in einfacher Weise die Feststellung von im Bereich von μΐη liegenden Unebenheitcn auch spiegelnder Flächen ermöglicht. Darüber hinaus soll es möglich sein, das Auflösungsvermögen von nach der Erfindung arbeitenden Vorrichtungen in einfacher Weise innerhalb weiter Grenzen zu verändern.

Diese Autgabe wird durch die im Anspruch 1 beschriebene Erfindung gelöst.

Durch die Verwendung von Gittern mit Gitterkonstanten, bei denen das hinter dem Gitter entstehende periodische l.ichunuster nicht wie bei den bekannten Moire-Verfahren durch Schattenwurf, rindern durch Interferenz entsteht, wird es möglich. Auflösungsvermögen bis in den Bereich von Bruchteilen von urn /u erreichen und den apparativen Aufwand sowie die Störanfälligkeit gegenüber bekannten Vorrichtungen mit vergleichbaren Leistungen stark herabzusetzen.

Die Erfindung wird anschließend an Hand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt

Fig. 1 eine schematische Darstellung der hinter sprechenden Flächenelementen haben. Diese Streifen

einem optischen Gitter mit einer Gitterkonstante in werden, da sie durch zweimalige Beugung am Gitter

der Größenordnung von μπι auftretenden Interferenz- 12 entstehen, als Doppelbeugungslinien bezeichnet,

feldes, Beim Übergang von einem dunklen zu einem

F i g. 2 eine schematische Darstellung der nach 5 hellen Streifen des Systems der Doppelbeugungs-

dem erfindungsgemäßen Verfahren auszuwertenden linien ändert sich die Oberflächenhöhe gemäß F i g. 2

Beugungsordnungen und Beobachtungsrichtungen, um

F i g. 3 eine schematische Darstellung der durch

örtlich begrenzte Neigungen der zu untersuchenden s = —— _j (2)

Fläche entstehenden Fehler, io ^{4 tan} °

F i g. 4 die schematische Darstellung einer Anordnung zur Durchführung des erfindungsgemäßen wobei g die Gitterkonstante und <5 der Gitterüber-Verfahrens mit inkohärentem Licht, tragungswinkel ist.

Fig. 5 die schematische Darstellung einer An- Dunkle Streifen entstehen an den Stellen, an denen

Ordnung zur Durchführung des erfindungsgemäßen 15 der Abstand h des reflektierenden Flächenelements

Verfahrens mit kohärentem Licht, von der Gitterebene ein ungerades Vielfaches von s

Fig. 6 die Darstellung eines fotografisch aufge- ist, also:

zeichneten Doppelbeugungsiinienmusters, das von ^ _ _m . _{s m}j_{t TO} _ j 3 5 /χ\

einem Interferenzlinienmuster überlageit ist. ' ' '"' *■ '

Gemäß F i g. 1 fällt ein kohärenter paralleler Strahl ao An diesen Stellen fallen die Interferenzmaxima auf

aus der mit dem Pfeil 11 eingezeichneten Richtung die lichtundurchlässigen Stege des Gitters 12. Für

auf ein optisches Gitter 12, dessen Gitterkonstante 1, _ „ „ -_{t o λ} , ,.^

j /-. ··(■> j ι ι· * TT , i_ lu j " — ⁿ'^s mit π = Z, 4,6... (4)

in der Größenordnung von 1 μηι hegt. Unterhalb des ^w

Gitters entsteht durch Interferenz der nullten Beu- fallen die Interferenzmaxima in die Lücken zwischen

gungsordnung mit der plus ersten Beugungsordnung, 25 den Stegen.

also der mit 11,0 und 11,4-1 bezeichneten Strahlun- Über einem reflektierenden Testobjekt entsteht also

gen, ein Interferenzmuster, das wie folgt konstru- ein Höhenschichtliniensystem der Oberfläche,

iert werden kann. Die Strahlungsfelder 11.0 und Die Änderung der Oberflächenhöhe zwischen zwei

11,+ 1 haben gleiche Wellenlängen und feste Pha- dunklen Streifen beträgt nach den Gleichungen 2, 3,4:

senlagen, wie sie beispielsweise durch die Sinuskurven 30

15 und 16 angedeutet werden. Von jedem Minimum As = 2s = (S) des durch die Kurve 15 angedeuteten Amplituden- 2 tan <5
Verlaufes wird eine parallel zur Wellenfront der Strahlung 11,0 verlaufende ausgezogene Gerade und von Um die Maxima oder Minima der spiegelnden jedem Maximum eine parallel dazu verlaufende ge- 35 Fläche 13 entstehen Ringsysteme. Die Unterscheistrichelte Gerade gezogen. Von jedem Maximum der dung, ob es sich dabei um ein Maximum oder ein Kurve 16 wird eine parallel zur Wellenfront der Minimum handelt, ist durch Änderung von δ Strahlung 11, +1 verlaufende gestrichelte und von festzustellen. Bei Verkleinerung von δ laufen die jedem Minimum dieser Kurve eine parallel dazu ver- Ringe aus einem Maximum heraus und in ein Minilaufende ausgezogene Gerade gezogen. Es ist leicht 4° mum hinein, da sich die Streifen nach (2) zu größeren einzusehen, daß in den Punkten, in denen sich aus- Flächen-Gitterabständen verlagern. Wie leicht eingezogene mit ausgezogenen oder gestrichelte mit ge- zusehen, kann diese Differenzierung auch durch Verstrichelten Linien schneiden, Maxima und in den änderung des Gitterabstandes vorgenommen werden. Punkten, in denen sich ausgezogene mit gestrichelten Wie aus Fig. 2 ersichtlich, fallen die Maxima des Linien schneiden, jeweils Minima vorliegen werden. 45 Interfeienzmusters auf die undurchsichtigen Stege Das sich ergebende Interferenzmuster besteht aus des Gitters 12, wenn die spiegelnde Fläche 13 sich kammartig nebeneinander angeordneten Lichtstegen, in den Lagen 13a. I3&, 13c oder 13d befinden. In die die Strahlungen 11,4-1 un 11,0 enthalten und in den dazwischenliegenden Lagen der spiegelnden Fläeiner Richtung δ = (<5₀4-<5,)/2 verlaufen, wobei δ_η ehe 13 fallen die Maxima des reflektierten Interder Winkel der nullten Beugungsordnung (11,0) und 50 ferenzmusters mit den Gitteröffnungen zusammen, so <5, der Winkel der minus ersten Beugungsordnung daß sie am Gitter gebeugt werden. Es wird darauf (11, 4-1) mit der normalen ist. hingewiesen, daß die Richtung der die Maxima entin F i g. 2 werden die Verhältnisse im einzelnen haltenden Lichtstege des Interferenzfeldes nicht mit quantitativ dargestellt. Die aus der Richtung des mit der Richtung der an ihrer Bildung beteiligten Strah-11 bezeichneten Pfeiles einfallende parallele kohä- 55 len übereinstimmt. Durch Wahl einer bestimmten rente Strahlung wird am Gitter 12 in Beugungsord- Beobachtungsrichtung kann eine beliebige Beugungsnungen 4-1,0 und —1 (11,4-1; 11,0 und 11,-1) Ordnung ausgewählt werden. Als besonders vorteilaufgespalten. Wird eine parallel zum Gitter 12 lie- haft hat sich die Verwendung der am Gitter 12 beim gerrde spiegelnde Fläche 13 in das Interferenzfeld ersten Durchtritt der Strahlung entstehende Beugebracht, so wird das Interferenzfeld um diese Ebene 60 gungsordnung 4-1 erwiesen, die in Richtung der geklappt und fällt unter dem Winkel δ = (δ_η 4- <5,)/2 nullten Beugungsordnung des durch die zweite Beuauf die Unterseite des Gitters 12. Weist die Ebene 13 gung am Gitter entstehenden Interferenzfeldes beob-Uaebenheiten auf, so wird das reflektierte Inter- achtet wird. Diese Beobachtungsrichtung hat gegenferenzmuster entsprechend deformiert. Durch die über allen anderen Beobachtungsrichtungen den Beugung des reflektierten Interferenzmusters an der 65 Vorteil, daß die beim ersten Auftrefft η der Strahlung Unterseite des Gitters 12 entsteht ein Streifensystem, auf das Gitter 12 als Beugungsordnung —1 reflekwobei die entstehenden Streifen die Stellen des Git- tierte und keine Information enthaltende Strahlung ters verbinden, die gleiche Abstände von den ent- 22, die in der gleichen Richtung liegt wie die in Beob-

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achtungsrichtung verlaufende nullte Beugungsord- des erfindungsgemäßen Verfahrens beschrieben. Ein nung der an der Fläche 13 reflektierten Beugungs- von einem Laser 30 ausgehender paralleler kohäordnung+1, wesentlich schwächer ist als die am renter Strahl 31 wird durch die Linsen 32 und 33 Gitter 12 reflektierte, ebenfalls keine Information verbreitert und fällt auf ein optisches Gitter 34, an enthaltende nullte Beugungsordnung 23. Die von der 5 dem er gebeugt wird. Das unterhalb des Gitters entnullten Beugungsordnung der das Gitter zum ersten- stehende Interfcrenzfeld wird an einem zu untermal durchsetzenden Strahlung herrührenden Strah- suchenden Körper 35 reflektiert und fällt von unten len 26, 27 und 28, von denen der Strahl 26 in Beob- auf das gleiche Gitter. Die dabei entstehenden Dopachtungsrichtung liegt, liegen so weit von den beob- pelbeugungslinien werden, wie im Zusammenhang achteten Strahlen 25, daß sie durch eine Blende unter- io mit Fig. 2 näher erläutert, in Richtung der nullten drückt werden können. Weiterhin entstehen durch Beugungsordnung der beim ersten Auftreflen auf die am Gitter 12 reflektierte Beugungsordnung +1 das Gitter entstehenden Beugungsordnung+1 be-(Strahl 22) und die an der spiegelnden Fläche 13 obachtet, was durch Anordnung eines Schirmes oder reflektierte Beugungsordnung -f 1 Interferenzringe, einer Mattscheibe 36 im Verlauf dieses Strahles erdie eine Eichung des gemäß des erfindungsgemäßen i₅ folgt.

Verfahrens erzeugten Doppelbeugungsliniensystems In F i g. 4 wird eine Anordnung zur Durchführung

ermöglichen. Aus den obenerwähnten Gründen ist die des erfindungsgemäßen Verfahrens mit inkohärentem

Helligkeit dieser Interferenzringe relativ gering, so Licht wiedergegeben. Eine von einer Quelle 40 aus-

daß eine Störung bei der Beobachtung des Doppel- gehende inkohärente Strahlung 41 wird durch die

beugungsliniensystems nicht erfolgt. ₁₀ Kondensorlinsen 42 und 43 konvergent gemacht und

Bei den oben beschriebenen Verfahren wurde vor- durchsetzt ein Filter 44, das sie als monochromaausgesetzt, daß die Reflexion der Lichtbündel an tische Strahlung verläßt. Die Strahlung durchsetzt Flächenelementen erfolgt, die parallel zur Gitter- anschließend eine Aperturblende 45 und wird an ebene orientiert sind. Das ist streng genommen nur einem Spiegel 46 in Richtung auf eine Feldlinse 47 im Bereich der Maxima oder Minima der zu unter- ₂₅ abgelenkt, hinter der ein Gitter 48 und eine zu untersuchenden Fläche der Fall. Dazwischen haben die suchende Fläche 49 angeordnet ist. Die an der zu Flächenelemente in der Regel eine von Null ver- untersuchenden Fläche reflektierte und beim Durchschiedene Steigung. Auf diese Weise entstehen Meß- tritt durch das Gitter zum zweitenmal gebeugte Strahfehleroft des Abstandes h der Gitterebene von dem lung wird an einem Spiegel 50 in Richtung auf einen entsprechenden Flächenelement. Nach F i g. 3 beträgt ₃₀ Beobachtungsschirm 53 abgelenkt. Zwischen Spiegel jeder Fehler für kleine Winkel 50 und Beobachtungsschirm 53 ist eine Lochblende

51 zur Ausblendung aller unerwünschten Beugungs-

°" ~ ^tanft (6) ordnurgen und des Streulichtes und eine Abbildungs-

h tan Ά li_nse 52 vorgesehen.

35 F i g. 6 stellt die fotografische Aufzeichnung eines

Bei der Untersuchung von Oberflächen hoher Güte bei der Untersuchung eines Halbleiterplättchens ent-

ist dieser Fehler vernachlässigbar. stehenden Doppelbeugungsliniensystems dar. Die

Soll geprüft werden, ob unzulässig hohe Steigun- Doppelbeugungslinien 61, 62 und 63 werden durch gen auf der Oberfläche auftreten, so wird das Gitter ein System von Interferenzlinien 65 überlagert. Durch über der Fläche so beleuchtet, daß ^ = O wird und _4O Abzählen der zwischen zwei Doppelbeugungslinien festgestellt, ob dunkle Streifen auftreten. Ist dies liegenden Interferenzlinien kann der durch zwei benicht der Fall, so enthält die Fläche keine unzulässig nachbarte Doppelbeugungslinien definierte Höhenhohen Steigungen. unterschied der entsprechenden Bereiche der zi

In F i g. 5 wird eine Anordnung zur Durchführung untersuchenden Fläche genau bestimmt werden.

Hierzu 5 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

1. Patentansprüche:

   1. Verfahren zum berührungslosen Messen der Unebenheiten von Oberflächen durch Erzeugung eines periodischen Lichtmusters mittels eines durch einen parallelen Lichtstrahl unter einem bestimmten Winkel beleuchteten, in Abstand und parallel zu der zu untersuchenden Oberfläche angeordneten, aus periodisch auftretenden, abwechselnd unterschiedliche Absorptions- oder Beugungseigenschaften aufweisenden linienförmigen Bereichen bestehenden Elements, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Bestrahlung eines Beugungsgitters (12) ein aus kammartig nebeneinanderliegenden Lichtstegen bestehendes Interferenzfeld erzeugt wird, daß dieses Interferenzfeld an der zu untersuchenden Oberfläche (13) zum Beugungsgitter zurückgespiegelt wird, so daß durch Beugung des gespiegelten Interferenzfeldes am Beugungsgitter (12) ein die Un- ao ebenheiten der zu untersuchenden Oberfläche (13) wiedergebendes, aus doppelt gebeugten Linien bestehendes kurvenförmiges Doppelbeugungsliniensystem (61, 62,63) entsteht, wobei durch Wahl einer bestimmten Beobachtungsrichtung eine beliebige Beugungsordnung der Doppelbeugungslinien ausgewählt wird.

   2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß durch Wahl der Beobachtungsrichtung das durch das Zusammenwirken der nullten (11,0) und der ersten (11,+ 1) Beugungsordnung erzeugte Interfeienzfeld ausgewertet wird.

   3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Beobachtung in Richtung der nullten Beugungsordnung (25) der am Gitter beim ersten Durchgang gestreuten und an der untersuchten Fläche (13) gespiegelten ersten Beugungsordnung (11, +1) erfolgt.

   4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die der Größe der Tiefenausdehnungen der Unebenheiten der zu untersuchenden Oberfläche (13) zugeordneten Abstände der Doppelbeugungslinien (61, 62, 63)

   7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet daß zur Prüfung einer Fläche auf das Vorliegen von das Meßverfahren beeinträchtigenden Neigungen die Strahlung senkrecht auf das Gitter (12) gerichtet wird, wobei das Auftreten von ringförmigen Doppelbeugungslinien (61, 62, 63) das Vorliegen solcher störender Neigungen anzeigt.

   8. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine kohärente Lichtquelle (2i0), eine Linsenanordnung (32,33) zur Strahlverbreiterung, ein optisches Gitter (34) mit einer in der Größenordnung weniger μΐη liegenden Gitterkonstante, unter das die zu untersuchende Fläche (35) bringbar ist, und einen in den Bereich der gewünschten Beugungsordnung der Doppelbeugungslinien bringbaren Beobachtungsschirm (36).

   9. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine inkohärente mehrfarbige Lichtquelle (40), die von der Lichtquelle ausgehende Strahlung konvergentmachende Linsen (42, 43), ein Filter (44), eine Blende (45), einen die Strahlung auf eine sie parallelrichtende Linse (47) ablenkenden Spiegel (46), ein die parallelgerichtete Strahlung beugendes Gitter (48) mit einer in der Größenordnung weniger μΐη liegenden Gitterkonstante, unter das die zu untersuchende Fläche bringbar ist, sowie einen die das Gitter (47) zum zweiten Mal durchsetzende Strahlung in Richtung auf eine Blende (51), eine Linse (ii>2) und einen Beobachtungsschirm (53) ablenkenden Spiegel (50).