DE2627609A1 - Interferometrisches verfahren - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein interferometrisches Verfahren und eine Vorrichtung zum Feststellen und Messen von Fehlern und zum Ausrichten von periodisch strukturierte Flächen aufweisenden Objekten mittels Interferenz von am Meßobjekt modulierten und nicht modulierten Strahlen.

Auf vielen Gebieten der Technik, beispielsweise bei der Herstellung und Prüfung der Abbildungsgüte von hochauflösenden opti-

sehen Systemen oder bei der Fabrikation und Prüfung von Gittern und gitterähnlichen Strukturen ist es erforderlich, das Vorliegen und den Umfang von Störungen der Periodizität von periodisch strukturierte Flächen aufweisenden Objekten festzustellen und zu messen. So müssen beispielsweise die Übertragungseigenschaften der bei der Herstellung von integrierten Schaltungen verwendeten hochauflösenden abbildenden Systeme für jede Einstellung überprüft v/erden, was am besten durch Prüfung und Ausmessung eines mit dem zu prüfenden System hergestellten Mikrogitters erfolgt.

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2 Da auf einem Halbleiterplättchen von etwa 5 cm in der Regel tausende von einander gleichen vSchaltungen,- beispielsweise bistabile Speicherschaltungen, aufgebracht werden, stellen auch die zur Herstellung der integrierten Schaltungen verwendeten Masken periodische Strukturen mit Gitterkonstanten von 1 bis 5 μια dar, bei denen Abweichungen von der Periodizität in der Regel zu Störungen der elektrischen Eigenschaften der mit ihrer Hilfe hergestellten integrierten Schaltungen führen. Das gleiche trifft auch für die integrierten Schaltungen selbst zu.

Störungen der Periodizität der übertragenen Muster können auch bei der Verwendung sogenannter "Step and Repeat"--Kameras auftreten, bei denen bekanntlich das auf ein mit einer Fotolackschicht überzogenes Halbleiterplättchen übertragene Lichtmuster durch übertragung hunderter und tausender genau aufeinander ausgerichteter Teilmuster durch eine entsprechende Anzahl von Einzelbelichtungen erfolgt.

Die Bedeutung der Einhaltung einer möglichst vollkommenen Periodizität und einer möglichst hohen Lagegenauigkeit der übertragenen Muster ergibt sich unter anderem auch aus der Tatsache,- daß bei der Herstellung von integrierten Schaltungen in der Regel in etwa 20 bis 30 aufeinanderfolgenden Produktionsschritten die gleiche Anzahl genauestens aufeinander ausgerichteter und teilweise einander in einer genau definierten Weise überlappender Lichtmuster aufgebracht werden, deren Linienbreiten und Linienabstände in der Größenordnung von wenigen pm liegen.

Angesichts des Trends zu bei immer höheren Packungsdichten immer feiner strukturierten integrierten Schaltungen und immer größer werdenden Halbleiterplättchen, wird die Wichtigkeit der genauen Maßhaltigkeit und der exakten Periodizität der übertragenen Muster sowie die Wichtigkeit von eine Überprüfung dieser Eigenschaften ermöglichenden Messungen besonders deutlich.

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Diese Untersuchungen konnten bisher nur durch Vergleichsmessungen, beispielsweise zwischen zwei Masken oder zwischen einer Maske und einem Halblexterplattchen, durchgeführt werden. Da für diese Art von Messungen besondere Testmasken und eine Unzahl von Meßdaten. sowie ihre Korrelation mit den entsprechenden Ileßdaten der Vergleichsobjekte erforderlich war, konnten diese Verfahren, abgesehen von ihrem hohen apparativen Aufwand und ihren Kosten.- nicht zur laufenden überprüfung der Produktion verwendet werden.

In der deutschen Offenlegungsschrift 2 150 110 wird ein Verfahren zum Nachweis der Verschiebung oder Deformation eines periodisch strukturierten Objekts angegeben, bei dem das Objekt mit zwei aus einem gemeinsamen Strahl abgeleiteten Strahlen so beaufschlagt wird,- daß zwei unterschiedliche, von der nullten Ordnung verschiedene Beugungsordnungen der beiden Wellenfronten durch ein abbildendes Element einander überlagert und zur Interferenz gebracht werden. Da nach diesem Verfahren beide Strahlen durch die zu untersuchende Struktur beeinflußt v/erden, ergibt sich neben einer stark herabgesetzten Empfindlichkeit auch der Nachteil, daß in Interferenzfeld sichtbar werdende Störungen nicht mit bestimmten Orten der untersuchten Objekte korreliert werden können. Außer einem höheren apparativen Aufwand treten bei diesem Verfahren noch zusätzliche, durch die Abbildungsfehler der verwendeten abbildenden Systeme bedingte Ungenauigkeiten auf.

Die Erfindung geht von der Aufgabe aus, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Ermittlung und Ausmessung von Fehlern oder Abweichungen von der Periodizität oder der Drehlage gitterartig strukturierte Flächen aufweisenden Objekten anzugeben, das es ermöglicht, in einfacher Weise und mit relativ geringem apparativen Aufwand derartige Messungen an relativ großen Flächen

(10 cm und mehr) in einem Arbeitsgang in Bruchteilen von Sekunden visuell oder automatisch durchzuführen. Die Erfindung soll

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weiterhin eine Ausrichtung von gitterartig strukturierte Flächen aufweisenden Objekten in gleich einfacher Weise ermöglichen. Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 beschriebene Erfindung gelöst.

Neben seiner Einfachheit und den außerordentlich geringen apparativen Aufwand, weist das erfindungsgemäße Verfahren vor allem den großen Vorteil auf, daß es im Gegensatz zu allen anderen bekannten interferometrischen Meßverfahren unabhängig von der Oberflächenebenheit der zu prüfenden Fläche ist, da nur Strukturveränderungen in der Objektebene (xy--Ebene) nicht aber senkrecht dazu (z-Richtung) sich als Verzerrungen des erzeugten In-terferenzstreifensystems auswirken. Auf diese Weise werden die mit dem Stoke'sehen Interferometer verbundenen Nachteile, bei dem sich nicht nur Objektveränderungen in der xy-Ebene sondern auch Gitterunebenheiten (z-Richtung) auf die Meßergebnisse auswirken, praktisch vollkommen vermieden.

Die Erfindung wird anschließend anhand der Figuren näher erläutert. Es zeigen:

Fign. 1 und 2 Ausführungsbeispiele der Erfindung, bei denen

die an einem Reflektions- oder Transmissionsgitter gebeugte erste Ordnung einer von einem Strahlenteiler abgelenkten Strahlung überlagert wird.

Fign. 3 und 4 Ausführungsbeispiele der Erfindung, bei denen

die nullte und die erste Ordung zweier an einem Reflektions- oder Transmissionsgitter gebeugten Strahlungen überlagert werden.

Fign. 5 und 6 Interferenzlinienfeider für konstante bzw. örtlich gestörte Gitter.

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Bei der in Fig. 3 dargestellten Vorrichtung wird ein zu untersuchendes gitterförmig strukturiertes Objekt 15 mit zwei ebenen, vorzugsweise gleichsinnig linear polarisierten Wellenfronten 28, 29 aus zwei einen Winkel θ einschließenden Richtungen bestrahlt.

Unter der Voraussetzung, daß das gitterförmig strukturierte Objekt 15 die Eigenschaften eines idealen Gitters mit der Gitterkonstante

g = g = -λ (-I)

^{J a}o sine

aufweist, verläuft die aus der Wellenfront 28 bestehende Strahlung ebenso wie ihre am Objekt 15 gebeugte nullte Ordnung 32 parallel zur ersten Ordnung 33 der am gleichen Objekt gebeugten.- aus der Wellenfront 29 bestehenden Strahlung.

Ist g ψ g , so verlaufen die Strahlungskomponenten 32 und 33 nicht mehr parallel zueinander, sondern in zwei verschiedenen Richtungen. Durch die überlagerung dieser Komponenten entsteht auf einem Beobachtungsschirm 6 ein aus hellen und dunklen Streifen bestehendes Interferenzlinienfeld, wie es beispielsweise in Fig. 5 für eine Gitterstruktur mit gleichbleibender Gitterkonstante und in Fig.6 für eine beispielsweise durch örtliche Wärmewirkung lokal gestörte Gitterstruktur dargestellt ist.

Der Abstand zwischen benachbarten Linien ist bei paralleler Lage des Beobachtungsschirms 6 zum Prüfobjekt 15

V % sin θ Ί-2- ⁽²⁾

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Aus der Beziehung (2) folgt,- daß mit zunehmender Differenz g - g der Linienabstand Δ abnimmt. Für eine visuelle Erkennung der Abweichung ist es erforderlich, daß Λ nicht größer wird als die flächenmäßige Ausdehnung des Objektgitters. Andererseits darf die Liniendichte die Auflösungsgrenze des Auges nicht überschreiten. So kann z.B. die Längenänderung eines 100 mm langen Objektes um 1 μπι gut erkannt werden.

Es gilt:	q	100 +	ISL3.
2		100
^o	= —3--T
Δ	1θ"
	=100 mm
Für δ	=■■ ίο"3 -	-- 1 u

-5

folgt

Ein kleinerer Linienabatand und damit eine Steigerung der Nach-Weisempfindlichkeit kann mit einem Gitter der Gitterkonstanten g< 1 um erreicht v/erden. Kommerziell sind Gitter bis zu g = 0,3 um erhältlich.

Eine weitere Steigerung der fleßempfindlichkeit ist auch ohne weitere Verringerung der Gitterkonstanten des Testobjektes möglich. Wird nämlich der Winkel θ ⁼ Ö'^J zwischen den zwei beleuch tenden Bündeln so gewählt, daß

sin Θ- = Al , JtI. _f ... ₍3)

so kann durch überlagerung mit den entsprechenden +2., +3., ... Beugungsordnungen des Gitters eine Verdoppelung bzw. Verdreifachung etc. der Nachwexsempfindlichkeit erreicht werden. Das entspricht der Vergrößerung der Nachweisempfindlichkeit bei einer Verringerung der Gitterkonstanten der Objektgitters auf

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Bei den bisher und im folgenden abgeleiteten Beziehungen ist die Gitterkonstante g durch g" zu ersetzen.

Die bisherigen Betrachtungen beschränken sich auf eine gleichmäßige Ausdehnung bzw. Schrumpfung der gesamten Objektfläche. Das Beobachtungsfeld ist mit einem gleichmäßigen Linienraster überdeckt .

Ebenso können lokale Strukturveränderungen in der Objektoberfläche erkannt werden. Sie äußern sich als eine Verzerrung des beobachtbaren Liniensystems· Das heißt, das Verfahren ermöglicht es, Overlay-Abweichungen von einem Standard nachzuweisen und quantitativ zu ermitteln.

Durch Drehung des Objektgitters um den Winkel ψ wird das Beobachtungsfeld mit einem Linienraster überzogen. Der Streifenabstand ergibt sich zu:

g · g
"" 2 . 2 "■"

g² + g_o ² ·· 2 gg_o . cosT (5)

1. Im Spezialfall Ψ = O folgt:

g^ · g g . g

_Δ ο ! _ 19 1

_(g - g_o)

² * " ?n 1 - 3.

und somit Beziehung (2).

^GE"⁶⁰⁰¹ 709852/0298

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2. Im Fall g = g_Q Ψ ^ O folgt;

2 g - 2 g cosH 2 sin |

Eine lineare Abweichung der Gitterkonstanten g von g_Q kann bei gedrehtem Gitter nicht erkannt werden. Sie wird erst sichtbar bei Ψ = O. Dagegen ermöglicht die Drehung den Nachweis lokaler Abweichungen der Gitterkonstanten über das gesamte Meßobjekt.

Durch Drehung des Gitters kann eine feine Unterteilung des gesamten Meßbereiches (Objektoberfläche) erreicht wer-en bis zu

A·- 9

Falls die Unterteilung das AufIosungsvermögen des Auges überschreitet, kann für ein fest eingestelltes Δ' eine Strukturverzerrung dadurch sichtbar gemacht werden, daß in der Beobachtungs-ebene ein Referenzgitter mit der Gitterkonstanten Δ' angeordnet wird. Dadurch entsteht ein neues sichtbares Streifensystem (Moiremuster), das Aufschluß über Mikroverzerrungen im Ileßbereich gibt.

Bei der in Fig. 1 dargestellten Vorrichtung wird der durch eine beispielsweise als Laser ausgebildete Lichtquelle 1 erzeugte monochromatische und kohärente Strahl 2 durch Linsen 3 und 4 aufgeweitet und einem Strahlenteiler 5 zugeführt. Die am Strahlenteiler 5 nach oben reflektierte, durch ausgezogene Linien dargestellte Komponente 12 fällt unbeeinflußt vom Prüfobjekt 15 auf einen Beobachtungsschirm 6. Ein Teil der den Strahlenteiler 5 durchsetzenden Komponente 8 wird durch einen Spiegel 7 als Strahl 9 auf ein Prüfobjekt 15 gerichtet. Die erste, durch gestrichelte Linien dargestellte Beugungsordnung 13 dieser Strahlung durchsetzt den Strahlenteiler 5 und fällt gemeinsam mit der vom Prüf-

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objekt 15 unbeeinflußten Komponente 12 auf den Beobachtungsschirm 6. Die Anordnung ist so getroffen, daß bei einer gegebenen Gitterkonstante des gitterartig strukturierten PrüfObjekts 15 die beiden Komponenten 12 und 13 parallel zueinander verlaufen und im Bereich des Beobachtungsschirms 6 eine homogene Intensitätsverteilung bzw. bei geringer Divergenz ein gleichmäßige Abstände aufweisendes Interferenzlinienfeld erzeugen. Bei Drehung des Gitters in bezug auf die Einfallebene entsteht bei fehlerlosem Gitter ein Interferenzlinienfeld mit gleichen Abständen. Bei Unregelmäßigkeiten der Gitterstruktur des Meßobjektes 15 ändert sich die Richtung der in diese Störungen aufweisenden Bereichen gebeugten ersten Ordnung, was zu einer Störung der Gleichmäßigjceit des im Bereich des Beobachtungsschirms 6 sichtbar werdenden Interferenzlinienfeldes führt. Weicht die tatsächliche Gitterkonstante von der Sollgitterkonstante ab, so ändert sich die Richtung der ersten Beugungsordnung entsprechend, was zu einer Veränderung des im Bereich des Beobachtungsschirms 6 sichtbar werdenden Interferenalinienfeldes führt. Eine Änderung der Winkellage um eine zur Zeichnungsebenen parallele Achse kommt einer Veränderung der Gitterkonstante der Gitterstruktur des Meßobjekts 15 gleich und wirkt sich danach ebenfalls auf das im Bereich des Beobachtungsschirms 6 sichtbar v/erdende Interferenzlinienfeld aus.

Das in Fig. 5 dargestellte Interferenzlinienfeld wurde durch Bestrahlung eines fehlerfreien Gitters erzeugt, bei dem die Gitterlinien mit der Einfallsebene einen Winkel α einschließen, der geringfügig kleiner als 90 war. In den obigen Formeln wurde der Übersichtlichkeit halber der Winkel Ψ = 90° - α gesetzt.

Die in Fig. 2 dargestellte Vorrichtung dient, im Gegensatz zu der in Fig. 1 dargestellten, der Prüfung eines die Eigenschaften eines Reflektionsgitters aufweisenden Meßobjektes dienenden Vorrichtung, zur Prüfung eines die Eigenschaften eines Transmissionsgitters aufweisenden Meßobjektes. Die in den Fign. 1 bis 4 dargestellten Vorrichtungen sind einander weitgehend ähnlich. Einander entsprechende Elemente werden durch gleiche Bezugszeichen gekennzeichnet. Ein von einer beispielsweise als Laser ausgebildeten Lichtquelle 1 ausgehender kohärenter und monochroma-

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tischer Strahl 2 wird durch Linsen 3 und 4 aufgeweitet und einem Strahlenteiler 5 zugeführt. Eine an diesem Strahlenteiler reflektierte, durch ausgezogene Linien dargestellte Komponente 12 gelangt, vom Meßobjekt 15 unbeeinflußt, zu einem Beobachtungsschirm 6. Ein Teil einer den Strahlenteiler 5 durchsetzenden Komponente 8 wird durch Spiegel 7 und 17 als Komponente 9 unter einem von O verschiedenen Winkel auf ein die Eigenschaften eines Transmissionsgitters aufweisendes Meßobjekt 15 gerichtet. Die erste Beugungsordnung 13 dieser Strahlung durchsetzt den Strahlenteiler 5 von unten und gelangt als vom Meßobjekt beeinflußte Komponente 13 gemeinsam mit der vom ileßobjekt nicht beeinflußten Komponente 12 zum Beobachtungsschirm 6, auf dem ein Interferenzlinienfeld erscheint, wie es beispielsweise in Fig. 5 dargestellt wird.

Die Anordnung ist so getroffen, daß bei gleichmäßiger Struktur und bei einer vorgegebenen Gitterkonstante des Meßobjektes 15 die beiden Komponenten 13 und 12 parallel zueinander verlaufen, so daß sie im Bereich des Beobachtungsschirmes 16 ein vorgegebenes* gleichmäßige Abstände aufweisendes Interferenzlinienfeld erzeugen.

Das bei der Beschreibung der Figur 1 über die Entstehung des in Fig. 5 dargestellten Musters Gesagte gilt entsprechend. Treten in bestimmten Bereichen des Meßobjektes 15 Störungen der gleichmäßigen Gitterstruktur auf, so ändert sich die Richtung der in diesen Bereichen gebeugten ersten Ordnung, was zu entsprechenden Störungen des am Beobachtungsschirm 6 sichtbaren Interferenzlinienfeldes führt. Ein derartiges Interferenzlinienfeld wird in Fig. 6 dargestellt. Auch eine Abweichung der Gitterkonstante oder der Winkellage des Meßobjektes 15 führt zu Änderungen der Richtung der ersten Beugungsordnung und somit zu Veränderungen des am Beobachtungsschirm 6 sichtbar werdenden Interferenzfeldes.

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Die in Fig. 3 dargestellte Vorrichtung dient zur Prüfung eines die Eigenschaften eines Reflektionsgitters aufweisenden Meßobjektes 15. Ein von einer beispielsweise als Laser ausgebildeten Lichtquelle 1 ausgehender monochromatischer und kohärenter Lichtstrahl 2 wird durch Linsen 3 und 4 aufgeweitet und einem Strahlenteiler 5 zugeführt. Eine an diesem Strahlenteiler reflektierte Komponente 28 wird an einem Spiegel 27 reflektiert und fällt auf das Meßobjekt 15. Die nullte Ordnung 32 dieser am gitterartig strukturierten Meßobjekt 15 gebeugten Strahlung, die bekanntlich durch die Gitterstruktur des beugenden Objektes nicht beeinflußt wird, fällt auf einen Beobachtungsschirm 6. Eine den Strahlenteiler 5 durchsetzende Komponente 29 fällt ebenfalls auf das gitterartig strukturierte Prüfobjekt 15 und wird an diesem in bekannter Weise gebeugt. Die erste, durch gestrichelte Linien dargestellte Beugungsordnung 33 dieser Strahlung, die bekanntlich durch die Eigenschaften des gitterartig strukturierten Objektes 15 beeinflußt wird, interferiert mit der vom Meßobjekt unbeeinflußten Komponente 32 und erzeugt auf dem Beobachtungsschirm 6 ein Interferenzlinienfeld. Die Anordnung ist so getroffen, daß bei einer gegebenen Gitterkonstante und bei gleichmäßiger Ausbildung der Gitterstruktur des PrüfObjektes 15 beide Komponenten 32 und 33 zueinander parallel verlaufen und auf dem Beobachtungsschirm 6 ein gleichmäßiges, bestimmte Abstände aufweisendes Interferenzlinienmuster erzeugen. Das bei der Beschreibung der Fig. 1 über die Entstehung des in Fig. 5 dargestellten Musters Gesagte gilt entsprechend. Bei örtlichen Störungen der gleichmäßigen Gitterstruktur des Meßobjektes 15 wird die in diesen Bereichen gebeugte erste Ordnung eine andere Richtung aufweisen, was zu Störungen, wie sie beispielsweise aus Figur 6 ersichtlich sind, des im Bereich des Beobachtungsschirms 6 sichtbar werdenden Interferenzlinienfeldes führt. Auch eine Ände rung der Gitterkonstante oder der Winkellage des Meßobjektes 15 wird im Bereich des Beobachtungsschirmes 6 durch Veränderungen des dort entstehenden Interferenzlinienfeldes angezeigt.

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Die in Fig. 4 dargestellte Vorrichtung dient zur Prüfung eines die Eigenschaften eines Transmissionsgitters aufweisenden Meßobjektes 15. Ein von einer beispielsweise als Laser ausgebildeten Lichtquelle 1 ausgehender monochromatischer und kohärenter Lichtstrahl 2 wird durch Linsen 3 und 4 aufgeweitet und einem Strahlenteiler 5 zugeführt. Eine an diesem Strahlenteiler reflektierte Komponente 49 wird an einem Spiegel 27 reflektiert und fällt unter einem von O verschiedenen Winkel auf ein zu prüfendes, die Eigenschaften eines Transmissionsgitters aufweisendes Meßobjekt 15. Eine den Strahlenteiler 5 durchsetzende Komponente 48 fällt senkrecht auf das Meßobjekt 15 und wird an diesem in bekannter Weise unter verschiedenen Ordnungen gebeugt. Die nullte, durch ausgezogene Linien dargestellte Beugungsordnung 52 dieser Komponente, die bekanntlich durch die Eigenschaften des gitterartig strukturierten Meßobjektes 15 nicht beeinflußt wird,, fällt senkrecht auf einen Beobachtungsschirm 6. Die unter einem von O verschiedenen Winkel auf das Meßobjekt 15 auftreffende Komponente 49 wird ebenfalls in an sich bekannter Weise unter verschiedenen Ordnungen am Meßobjekt 15 gebeugt. Die erste, durch gestrichelte Linien dargestellte Ordnung 53, die bekanntlich von den Eigenschaften des gitterähnlich strukturierten Meßobjekts 15 beeinflußt wird, interferiert mit der Komponente 52 und erzeugt im Bereich des Beobachtungsschirms 6 ein Interferenzstreifenmuster. Die Anordnung ist so getroffen, daß bei gleichmäßiger Ausbildung und bei einer vorgegebenen Gitterkonstante des gitterähnlich strukturierten Meßobjektes 15 die beiden Komponenten 52 und 53 parallel zueinander verlaufen und im Bereich des Beobachtungsschirms 6 ein bestimmte Abstände aufweisendes gleichmäßiges Interferenz linienf eld er zeugen. ■* Bei örtlichen Störungen der gleichmäßigen Gitterstruktur des Meßob-jektes 15 verläuft die in den betreffenden Bereichen gebeugte 1. Ordnung 53 nicht mehr parallel zur Komponente 52, so daß im Bereich des Beobachtungsschirmes 6 in den zugeordneten Bereichen Störungen sichtbar werden. Das gleiche gilt auch, wie im Zusammenhang mit der Beschreibung der vorhergehenden Figuren erläutert, für Abweichungen der Winkellage des Objektes 15, um eine zur Zeichnungsebene parallele Achse und für Änderungen der Gitter-

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konstante der Struktur des Meßobjektes 15.

Bei den in den Fign. 1 bis 4 dargestellten Vorrichtungen werden die Meßobjekte 15 von geeigneten Trägerelementen 16 gehaltert.

Es ist leicht einzusehen, daß bei den beschriebenen Vorrichtungen nur Änderungen der Gitterstruktur in Richtung der Gitterebene auf den Beobachtungsschirmen 6 sichtbar werden, während Unebenheiten der gitterartig strukturierten Fläche des Meßobjektes 15 keinerlei Auswirkungen auf die entstehenden Interferenzlinienfelder haben.

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Claims (9)

PATENTANSPRÜCHE

1. / Interferometrisches Verfahren zum Feststellen und Hessen

von Fehlern und zum Ausrichten von periodisch strukturierte Flächen aufweisenden Objekten mittels Interferenz von am Prüfobjekt modulierten und nicht modulierten Strahlen, dadurch gekennzeichnet, daß ein kohärenter Strahl in eine erste, am Objekt zu beugende und mit der Meßinformation zu modulierende sowie in eine zweite vom Objekt nicht zu beeinflussende Komponente aufgespalten wird, daß die nicht zu beeinflussende Komponente so geführt wird, daß sie oder ihre O. Beugungsordnung mit einer von O verschiedenen Ordnung der mit der Meßinformation zu modulierenden Komponente interferiert und ein Interferenzfeld bildet, bei dem auftretende Störungen Funktionen von Periodizitäts- oder Drehlageabweichungen der Gitterstruktur des untersuchten Objekts sind.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Prüfobjekt nicht zu beeinflussende Komponente in den Strahlengang einer von 0 verschiedenen Ordnung der am Objekt gebeugten Strahlung eingespiegelt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Meßobjekt nicht zu beeinflussende und die mit der Meßinformation zu modulierende Komponente unter solchen Winkeln auf das Prüfobjekt treffen, daß die nullte, vom Meßobjekt unbeeinflußte Ordnung der als Referenzstrahl dienenden Komponente mit einer von Null verschiedenen Ordnung der mit der Meßinformation zu modulierenden Komponente in gleicher Richtung parallel verläuft und ein Interferenzfeld bildet.

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ORfGlNAL INSPECTED

4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Prüfobjekt zu beeinflussende und die nicht zu beeinflussende Komponente gleichsinnig zueinander linear polarisiert sind.

5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Kriterium für das Vorliegen einer fehlerfreien . Gitterstruktur gemäß der Beziehung

^{g = g}o ⁼ "sTn Θ"

das Fehlen von Interferenzlinien dient, wobei g die Gitterkonstante und θ der Winkel zwischen den beiden das Prüfobjekt beaufschlagenden Komponenten ist.

6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als Kriterium für das Vorliegen einer fehlerfreien Gitterstruktur gemäß der Beziehung

A-

2 2

+ 9_O - 2 gg_Q

das Vorliegen von äquidistanten Interferenzlinien dient, wobei Δ der Linienabstand, g_Q die Sollgitterkonstante, g die Istgitterkonstante und ψ der Winkel zwischen der Einfallsebene und einer die Gitterlinien unter einem Winkel von 90 schneidenden Geraden ist.

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7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Kriterium für das Vorliegen einer fehlerhaften Gitterstruktur gemäß den Beziehungen

g Φ g,

ο sin9

und

_ g

λ ₌ _SL φ

ein vorgegebener Linienabstand dient, wobei g die Gitterkonstante, θ der Winkel zwischen den beiden das Prüfobjekt beaufschlagenden Komponenten und Δ der Linienabstand ist.

8. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine Lichtquelle (1), einen Strahlenaufweiter (3,4), einen Strahlenteiler (5), Spiegel (7, 17, 27) und einen Beobach-tungsschirm (6).

9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Beobachtungsschirm (6) parallel zum Prüfobjekt (15) liegt.

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