DE2139836A1

DE2139836A1 - Verfahren zum messen von unebenheiten

Info

Publication number: DE2139836A1
Application number: DE2139836A
Authority: DE
Inventors: Walter Dipl Phys Dr Jaerisch; Guenter Dipl Phys Makosch
Original assignee: IBM Deutschland GmbH
Current assignee: IBM Deutschland GmbH
Priority date: 1971-08-09
Filing date: 1971-08-09
Publication date: 1973-02-22
Also published as: GB1403013A; US3858981A; JPS4826170A; DE2139836B2; JPS5534361B2; FR2150037A5

Description

Böblingen, den 12. Mai 19 71

pr-sz

Amtliches Aktenzeichen: Neuanmeldung Aktenzeichen der Anmelderin: Docket GE 971 021

Verfahren zum Messen von Unebenheiten

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Messen der Unebenheiten einer Fläche durch Erzeugung eines periodischen Lichtmusters.

Auf vielen Gebieten der Technik, vor allem bei der Prüfung von Halb- und Fertigfabrikaten ist es erforderlich, die Güte und die Ebenheit von Flächen oder Flächenelementen laufend zu prüfen. Dazu sind Meßverfahren erforderlich, die es gestatten, möglichst auf einen Blick festzustellen, ob die Abweichungen einer untersuchten Fläche von einer bestimmten Ebene innerhalb λ der zulässigen Toleranzen liegen oder ob sie diese überschreiten. Die bisher zur Prüfung der Maßhaltigkeit verwendeten Fühlhebelgeräte oder mechanischen Meßuhren waren zur Untersuchung großer Anzahlen von Flächen nicht geeignet, da die dazu erforderliche Vermessung einer Vielzahl von Einzelpunkten zu zeitaufwendig ist. Außerdem ist die Meßgenauigkeit dieser Anordnungen begrenzt und es kann eine mechanische Beschädigung der vermessenen Flächen nicht mit Sicherheit ausgeschlossen werden. In der DAS 1 648 630 wird eine Anordnung beschrieben, bei der eine Rolle über die zu untersuchende Fläche läuft. An dem diese Rolle tragenden Hebel ist eine Lichtschranke befestigt, die bei Auf-

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treten von Unebenheiten auf der zu untersuchenden Fläche einen Lichtstrahl moduliert. Bei den bekannten interferometrischen Meßverfahren werden die beiden zuletztgenannten Nachteile zwar vermieden, es ist aber auch bei diesem Verfahren nur eine punktweise Vermessung möglich. Darüber hinaus sind die meisten der bekannten Meßverfahren für Meßbereiche, die ein Vielfaches der Wellenlänge der verwendeten Strahlung betragen, sehr umständlich und zeitraubend.

In der Literaturstelle "Moire Contours", Optical and Laser Technology ... Seite 226, wird ein Verfahren zur Darstellung der Konturen unebener Körper beschrieben, bei dem das Objekt durch ein Gitter hindurch mittels einer punktförmigen Lichtquelle beleuchtet und durch das gleiche oder ein ähnliches Gitter betrachtet wird. Das Auflösungsvermögen liegt bei diesem Verfahren bei etwa 1 mm. Ein ähnliches Verfahren wird in der Literaturstelle "Moire Topographie Maps", von J. Vasowski, Optics Communications, Volume 2, Nr. 7, Dezember 1970, Seiten 321 bis 323 beschrieben. In der Literaturstelle "High-Efficiency Phase-Hologram Gratings", von A. Schmackpfeffer, W. Järisch und W. W. Kulke, IBM Journal of Research and Development, Volume 14, Nr. 5, Septemer 1970, Seiten 533 bis 538, wird ein Verfahren zur Herstellung besonders leistungsfähiger Phasen-Hologrammgitter beschrieben. Bei den in den beiden zuerstgenannten Literaturstellen beschriebenen Moire-Verfahren werden sog. Höhen- oder Schichtlinien dadurch erzeugt, daß zwei Gitter gleicher Gitterkonstante und Richtung auf den zu vermessenden Objekt durch Projektion zur Überlagerung gebracht werden. Es ist auch möglich, auf das zu vermessende Objekt nur ein Gitter zu projizieren und die Projektion dieses Gitters durch das selbe oder ein gleiches Gitter zu betrachten.

Es ist leicht einzusehen, daß das Auflösungvermögen, vor allem das Tiefenauflösungsvermögen dieser Verfahren von der Gitterkonstante abhängt. Da mit kleiner werdender Gitterkonstante

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auch der Abstand vom Gitter kleiner wird, indem noch scharfe, von Interferenzerscheinungen ungestörte Schatten der Gitterbalken vorliegen, der Abstand zwischen Gitter und Objekt aber aus praktischen Gründen nicht beliebig klein gemacht werden kann, ist das Moire-Verfahren nur in solchen Fällen anwendbar, in denen die Tiefenausdehnung der aufzulösenden Unebenheiten über etwa 0,1 mm liegt. In der Literaturstelle "Optik in der Längenmeßtechnik", von F. Hodam, 1962, Seite 263, wird vorgeschlagen, interferometrische Messungen mit mehreren Wellenlängen gleichzeitig durchzuführen. Die durch die einzelnen Wellenlängen erzeugten Interferenzstreifen stimmen nur in bestimmten, sich periodisch wiederholenden Lagen räumlich überein. Diese Übereinstimmungen der Streifenlagen gestatten eine Ablesung nach dem Noniusprinzip, d. h., die größte abzulesende Einheit sind nicht mehr die Interferenzstreifen sondern die obengenannten Übereinstimmungen der Lage der Interferenzstreifen aller verwendeten Farben. Auf diese Weise entfällt das mühsame Abzählen aller Interferenzstreifen und alle damit zusammenhängenden Fehlerquellen. Es hat sich aber gezeigt, daß das Erkennen und somit das Abzählen der Übereinstimmung, insbesondere, bei Verwendung mehrerer eng benachbarter Wellenlängen, sehr schwierig und unsicher ist. Es wurde daher vorgeschlagen, die den einzelnen Wellenlängen zugeordneten Interferenzstreifen fotographisch aufzuzeichnen und zur Auswertung die einzelnen Auf- ä zeichnungen durch Projektion zu überlagern. Dieses Verfahren ist, wie leicht einzusehen, sehr umständlich, zeitraubend und kostspielig. Besonders die Veränderung des Verhältnis zwischen der Anzahl der Übereinstimmungen der Lagen der den einzelnen Wellenlängen zugeordneten Interferenzstreifen und den zu messenden Abständen ist sehr umständlich.

Die Erfindung geht von der Aufgabenstellung aus, ein Verfahren zu finden, das die obengenannten Nachteile vermeidet und in einfacher Wen se die Feststellung von im Bereich von ]im liegenden Unebenheiten auch spiegelnder Flächen ermöglicht. Darüber

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hinaus soll es möglich sein, das Auflösungsvermögen von nach der E'rfindung arbeitenden Anordnungen in einfacher Weise innerhalb weiter Grenzen zu verändern.

Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung durch ein Verfahren zum Messen der Unebenheiten einer Fläche durch Erzeugung eines periodischen Lichtmusters gelöst, daß dadurch gekennzeichnet ist, daß durch Bestrahlung eines optischen Beugungsgitters ein aus kammartig nebeneinanderliegenden Lichtstegen bestehendes Interferenzfeld erzeugt wird, daß dieses Interferenzfeld an der zu untersuchenden Fläche zum Beugungsgitter zurückgespiegelt und daß durch Beugung des gespiegelten Interferenzfeldes am Beugungsgitter eine die Unebenheiten der untersuchten Fläche wiedergebende Kurvenschar erzeugt wird. Da diese Kurvenschar durch zweimalige Beugung der das Gitter beaufschlagenden Strahlung entsteht, werden die Kurven dieser Schar als Doppelbeugungslinien bezeichnet.

Da die Tiefe des hinter dem Beugungsgitter erzeugten Interferenzfeldes, die Verwendung einer gut kohärenten Strahlung voraussetzt, eine Funktion der Gitterkonstante und der Gitterbreite ist, können nach dem erfindungsgemäßen Verfahren Unebenheiten von wenigen μΐη gemessen und festgestellt werden, deren Abstand vom Gitter mehr als das Zehntausendfache ihrer Tiefenausdehnung beträgt. Das erfindungsgemäße Verfahren kann in besonders vorteilhafter Weise für die Vermessung von gut spiegelnden Flächen verwendet werden, was bei den bisher bekannten Moire-Verfahren nicht der Fall ist.

Eine besonders vorteilhafte Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist dadurch gekennzeichnet, daß durch Wahl der Beobachtungsrichtung das durch das Zusammenwirken der nullten und der ersten BeugungsOrdnung erzeugte Interferenzfeld ausgewertet wird.

Eine weitere besonders vorteilhafte Fortbildung des Erfindungs-

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gedankens ist dadurch gekennzeichnet, daß die Beobachtung in Richtung der nullten Ordnung der beim ersten Durchgang am Gitter gestreuten ersten Ordnung erfolgt.

Eine andere vorteilhafte Weiterbildung des Erfindungsgedankens ist dadurch gekennzeichnet, daß die der Größe der Tiefenausdehnungen der Unebenheiten zugeordneten Abstände der durch Beugung des Interferenzfeldes am Gitter erzeugten Doppelbeugungslinien durch die sie überlagernde Schar der durch Interferenz der am Gitter und an der zu untersuchenden Fläche reflektierten Strahlung gebildeten Interferenzlinien geeicht werden.

Eine andere vorteilhafte Ausführungsform des Erfindungsgedankens ist dadurch gekennzeichnet, daß die durch Spiegelung am Gitter erzeugte erste Beugungsordnung und die beim zweiten Durchgang durchs Gitter entstehende nullte BeugungsOrdnung der beim ersten Durchgang durchs Gitter entstandenen und an der zu untersuchenden Fläche gespiegelten ersten Beugungsordnung zur Bildung der Interferenz linien verwendet werden.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Erfindungsgedankens ergeben sich aus den Unteransprüchen.

Die Erfindung wird anschließend an Hand der Figuren näher erläutert. Es zeigen: f

Fig. 1 eine schematische Darstellung des hinter einem

,optischen Gitter auftretenden Interferenzfeldes,

Fig. 2 eine schematische Darstellung der nach dem er

findungsgemäßen Verfahren auszuwertenden Beugungsordnungen und Beobachtungsrichtungen,

Fig. 3 eine schematische Darstellung zur Erläuterung

der durch örtlich begrenzte Neigungen der zu untersuchenden Fläche entstehenden Fehler,

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Fig. 4 die schematische Darstellung einer Anordnung

zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit inkohärentem Licht,

Fig. 5 die schematische Darstellung einer Anordnung

zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit kohärentem Licht,

Fig. 6 die Darstellung eines fotographisch aufge

zeichneten Doppelbeugungslinienmusters, das von einem Interferenzlinienmuster überlagert ist.

Gemäß Fig. 1 fällt ein kohärenter paralleler Strahl aus der mit dem Pfeil 11 eingezeichneten Richtung auf ein optisches Gitter 12, dessen Gitterkonstante in der Größenordnung von 1 Jiun liegt. Unterhalb des Gitters entsteht durch Interferenz der nullten Beugungsordnung mit der plus ersten BeugungsOrdnung, also der mit 11,0 und 11,+1 bezeichneten Strahlungen, ein Interferenzmuster, das wie folgt konstruiert werden kann. Die Strahlungsfelder 11,0 und 11,+1 haben gleiche Wellenlängen und feste Phasenlagen, wie sie beispielsweise durch die Sinuskurven 15 und 16 angedeutet werden. Von jedem Minimum des durch die Kurve 15 angedeuteteten Amplitudenverlaufes wird eine parallel zur Wellenfront der Strahlung 11,0 verlaufende ausgezogene Gerade und von jedem Maximum eine parallel dazu verlaufenden gestrichelte Gerade gezogen. Von jedem Maximum der Kurve 16 wird eine parallel zur Wellenfront der Strahlung 11,+1 verlaufenden gestrichtelte und von jedem Minimum dieser Kurve eine parallel dazu verlaufende ausgezogene Gerade gezogen. Es ist leicht einzusehen, daß in den Punkten, in denen sich ausgezogene mit ausgezogenen oder gestrichelte mit gestrichelten Linien schneiden, Maxima und in den Punkten, in denen sich ausgezogene mit gestrichelten Linien schneiden, jeweils Minima vorliegen werden. Das sich ergebende Interferenzmuster besteht aus kammartig nebeneinander angeordneten Lichtstegen, die die Strahlungen 11,+1 und 11,0 enthalten

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und in einer Richtung δ = (δ + δ )/2 verlaufen, wobei δ der Winkel der nullten Beugungsordnung (11,0) und δ, der Winkel der minus ersten BeugungsOrdnung (11,+1) mit der normalen ist.

In Fig. 2 werden die Verhältnisse im einzelnen quantitativ dargestellt. Die aus der Richtung des mit 11 bezeichneten Pfeiles einfallende parallele kohärente Strahlung wird am Gitter 12 in Beugungsordnungen +1, 0 und -1 (11,+1; 11,0 und 11,-1) aufgespalten. Wird eine parallel zum Gitter 12 liegende spiegelnde Fläche 13 in das Interferenzfeld gebracht, so wird das Interferenzfeld um diese Ebene geklappt und fällt unter dem Winkel δ = (δ + δ)/2 auf die Unterseite des Gitters 12. Weist die M Ebene 13 Unebenheiten auf, so wird das reflektierte Interferenzmuster entsprechend deformiert. Durch die Beugung des reflektierten Interferenzmusters an der Unterseite des Gitters 12 entsteht ein Steifensystem, wobei die entstehenden Streifen die Stellen des Gitters verbinden, die gleiche Abstände von den entsprechenden Flächenelementen haben. Diese Streifen werden, da sie durch zweimalige Beugung am Gitter 12 entstehen, als Doppelbeugungslinien bezeichnet.

Beim Übergang von einem dunklen zu einem hellen Streifen des Systems der Doppelbeugungslinien ändert sich die Oberflächenhöhe gemäß Fig. 2 um

(2) s = —3.

4 tan δ

wobei g die Gitterkonstante und δ der Gitterübertragungswinkel ist. · .

Dunkle Streifen entstehen an den Stellen, an denen der Abstand h des reflektierenden Flächenelements von der Gitterebene ein ungerades Vielfaches von s ist, also:

(3) h = m · s mit m = 1, 3, 5-...

3O¹J:''' / 03B9 (Ji: 971 021

An diesen Stellen fallen die Interferenzmaxima auf die lichtundurchlässigen Stege des Gitters 12. Für

(4) h = η · s mit η = 2, 4, 6 ...

fallen die Interferenzmaxima in die Lücken zwischen den Stegen.

Über einem reflektierenden Testobjekt entsteht also ein Höhenschichtliniensystem der Oberfläche.

Die Änderung der Oberflächenhöhe zwischen zwei dunklen Steifen beträgt nach <3,en Gleichungen 2, 3, 4:

(5) - . As = 2s =

2 tan δ

Um die Maxima oder Minima der spiegelnden Fläche 13 entstehen Ringsysteme. Die Unterscheidung, ob es sich dabei um ein Maximum oder ein Minimum handelt, ist durch Änderung von δ festzustellen, Bei Verkleinerung von δ laufen die Ringe a,us einem Maximum heraus und in ein Minimum hinein, da sich die Streifert^nach (2) zu größeren Flächen-Gitterabständen verlagern. Wie leicht einzusehen, kann diese Differenzierung auch durch Veränderung des Gitterabstandes vorgenommen werden.

Wie aus Fig. 2 ersichtlich, fallen die Maxima des Interferenzmusters auf die undurchsichtigen Stege des Gitters 12, wenn die spiegelnde Fläche 13 sich in den Lagen 13a, 13b, 13c oder I3d befinden. In den dazv/is chenliegenden Lagen der spiegelnden Fläche 13 fallen die Maxima des reflektierten Interferenzmusters mit den Gitteröffnungen zusammen, so daß sie am Gitter gebeugt werden. Es wird darauf hingewiesen, daß die Richtung der die Maxima enthaltenden Lichtstege des Interferenzfeldes nicht mit der Richtung der an ihrer Bildung beteiligten Strahlen übereinstimmt. Durch Wahl einer bestimmten Beobachtungsrichtung kann eine beliebige Beugungsordnung ausgewählt werden. Als besonders vorteilhaft hat sich die Verwendung der am Gitter 12 beim ersten

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Durchtritt der Strahlung entstehende BeugungsOrdnung +1 erwiesen, die in Richtung der nullten Beugungsordnung des durch die zweite Beugung am Gitter entstehenden Interferenzfeldes beobachtet wird. Diese Beobachtungsrichtung hat gegenüber allen anderen Beobachtungsrichtungen den Vorteil, daß die beim ersten Auftreffen der Strahlung auf das Gitter 12 als BeugungsOrdnung -1 reflektierte und keine Information enthaltende Strahlung 22, die in der gleichen Richtung liegt wie die in Beobachtungsrichtung verlaufende nullte Beugungsordnung der an der Fläche 13 reflektierten Beugungsordnung +1, wesentlich schwächer ist als die am Gitter 12 reflektierte, ebenfalls keine Information enthaltende nullte BeugungsOrdnung 23. Die von der nullten BeugungsOrdnung der das " Gitter zum erstenmal durchsetzenden Strahlung herrührenden Strahlen 26, 27 und 28, von denen der Strahl 26 in Beobachtungsrichtung liegt, liegen so weit von den beobachteten Strahlen 25, daß sie durch eine Blende unterdrückt werden können. Weiterhin entstehen durch die am Gitter 12 reflektierte BeugungsOrdnung +1 (Strahl 22) und die an der spiegelnden Fläche 13 reflektierte Beugungsordnung +1 Interferenzringe, die eine Eichung des gemäß des erfindungsgemäßen Verfahrens erzeugten Doppelbeugungsliniensystems ermöglichen. Aus den obenerwähnten Gründen ist die Helligkeit dieser Interferenzringe relativ gering, so daß eine Störung bei der Beobachtung des Doppelbeugungsliniensystems nicht erfolgt.

Bei den oben beschriebenen Verfahren wurde vorausgesetzt, daß die Reflexion der Lichtbündel an Flächenelementen erfolgt, die parallel zur Gitterebene orientiert sind. Das ist streng genommen nur im Bereich der Maxima oder Minima der zu untersuchenden Fläche der Fall. Dazwischen haben die Flächenelemente in der Regel eine von Null verschiedene Steigung. Auf diese Weise entste- ' hen Meßfehler 6h des Abstandes h der Gitterebene von dem entsprechenden Flächenelement. Nach Fig. 3 beträgt jeder Fehler für kleine Winkel

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Bei der Untersuchung von Oberflächen hoher Güte ist dieser Fehler vernachlässigbar.

Soll geprüft werden _t ob unzulässig hohe Steigungen auf der Oberfläche auftreten, so wird das Gitter über der Fläche so beleuchtet, daß 0=0 wird und festgestellt, ob dunkle Streifen auftreten. Ist dies nicht der Fall, so enthält die Fläche keine unzulässig hohen Steigungen.

In Fig. 5 wird eine Anordnung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens beschrieben. Ein von einem Laser 30 ausgehender paralleler kohärenter Strahl 31 wird durch die Linsen 32 und 33 verbreitert und fällt auf ein optisches Gitter 34, an dem er gebeugt wird. Das unterhalb des Gitters entstehende Interferenzfeld wird an einem zu untersuchenden Körper 35 reflektiert und fällt von unten auf das gleiche Gitter. Die dabei entstehenden Doppelbeugungslinien werden, wie im Zusammenhang mit Fig. 2 näher erläutert, in Richtung der nullten BeugungsOrdnung der beim ersten Auftreffen auf das Gitter entstehenden Beugungsordnung +1 beobachtet, was durch Anordnung eines Schirmes oder einer Mattscheibe 36 im Verlauf dieses Strahles erfolgt.

In Fig. 4 wird eine Anordnung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit inkohärentem Licht wiedergegeben. Eine von einer Quelle 40 ausgehende inkohärente Strahlung 41 wird durch die Kondensorlinsen 42 und 43 konvergent gemacht und durchsetzt ein Filter 44, das sie als monochromatische Strahlung verläßt. Die Strahlung durchsetzt anschließend eine Aperturblende 45 und wird an einem Spiegel 46 in Richtung auf eine Feldlinse 47 abgelenkt, hinter der ein Gitter 48 und eine zu untersuchende Fläche 49 angeordnet ist. Die an der zu untersuchenden Fläche reflektierte und beim Durchtritt durch das Gitter zum zweitenmal gebeugte Strahlung wird an einem Spiegel 50 in Richtung auf einen Beobachtungsschirm 53 abgelenkt. Zwischen Spiegel 50 und Beobachtungsschirm 53 ist eine Lochblende 51 zur Ausblendung aller unerwünschten Beugungsordnungen und des Streulichtes und eine Ab-

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- 11 bildungslinse 52 vorgesehen,

Fig. 6 stellt die fotographische Aufzeichnung eines bei der Un-= tersuchung eines Halbleiterplättchens entstehenden Doppelbeugungs liniensy stems dar. Die Doppelbeugungslinien 61, 62 und werden durch ein System von Interferenzlinien 65 überlagerte Durch Abzählen der zwischen zwei Doppelbeugungslinien liegenden Interferenzlinien kann der durch zwei benachbarte Doppelbeugungslinien definierte Höhenunterschied der entsprechenden Bereiche der zu untersuchenden Fläche genau bestimmt werden»

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Claims

PATENTANSPRÜCHE

Verfahren zum Messen der Unebenheiten einer Fläche durch Erzeugung eines periodischen Lichtmusters, dadurch gekennzeichnet/ daß durch Bestrahlung eines Beugungsgitters (12) ein aus kammartig nebeneinanderliegenden Lichtstegen bestehendes Interferenzfeld erzeugt wird, daß dieses Interferenzfeld an der zu untersuchenden Fläche (13) zum Beugungsgitter zurückgespiegelt und daß durch Beugung des gespiegelten Interferenzfeldes am Beugungsgitter eine der Unebenheiten der untersuchten Fläche wiedergebende aus doppelt gebeugten Linien bestehende Kurvenschar (61, 62, 63 ...) erzeugt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß durch Wahl der Beobachtungsrichtung das durch das Zusammenwirken der nullten (11,0) und der ersten (11,+1) BeugungsOrdnung erzeugte Interferenzfeld ausgewertet wird.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Beobachtung in Richtung der nullten Ordnung (25) der am Gitter beim ersten Durchgang gestreuten und an der untersuchten Fläche gespiegelten ersten BeugungsOrdnung (11,+1) erfolgt.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die der Größe der Tiefenausdehnungen der Unebenheiten zugeordneten Abstände der durch Beugung des Interferenzfeldes am Gitter erzeugten Doppelbeugungslinien (61, 62, 63) durch die sie überlagernde Schar der durch Interferenz der am Gitter und an der zu untersuchenden Fläche gespiegelten Strahlung erzeugten Interferenzlinien

(65) geeicht werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die

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durch Spiegelung am Gitter (12) erzeugte erste Beugungsordnung und die beim zweiten Durchgang durchs Gitter entstehende nullte Beugungsordnung der beim ersten Durchgang durchs Gitter entstandenen und an der zu untersuchenden Fläche (13) gespiegelten ersten Beugungsordnung zur Erzeugung der der Eichung dienenden Interferenzlinien (65) verwendet werden.
6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß zur Unterscheidung konvexer

von konkaven Unebenheiten die Richtung der auf das Gitter % (12) fallenden Strahlung geändert wird, wobei bei kleinerwerdendem Einfallwinkel die die Unebenheit anzeigenden ringförmigen Doppelbeugungslinien (61, 62, 63) aus einer konvexen Unebenheit heraus- und in eine konkave Unebenheit hineinlaufen.
7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß zur Prüfung einer Fläche auf das Vorliegen von das Meßverfahren beeinträchtigenden Neigungen die Strahlung senkrecht auf das Gitter (12) gerichtet wird, wobei das Auftreten von ringförmigen Doppelbeugungslinien (61, 62, 63) das Vorliegen solcher stören- λ der Neigungen anzeigt.
8. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine kohärente Lichtquelle (30), eine Anordnung (32, 33) zur Strahlverbreiterung, ein Gitter (34), mit einer in der Größenordnung weniger pm liegenden Gitterkonstante, unter das die zu untersuchenden Flächen (35) verbringbar sind und einen in den Bereich der gewünschten BeugungsOrdnung der Doppelbeugungslinien verbringbaren Beobachtungsschirm (36).
9. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach den An-Docket GE 971 021 309808/0389

Sprüchen 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine inkohärente mehrfarbige Lichtquelle (40), die von der Lichtquelle ausgehende Strahlung konvergentmachende Linsen (42, 43), ein Filter (44), eine Blende (45) , einen die Strahlung auf eine sie parallelrichtende Linse (47) ablenkenden Spiegel (46) , ein die parallelgerichtete Strahlung beugendes Gitter (48) mit einer in der Größenordnung weniger ym liegenden Gitterkonstante, unter das die zu untersuchenden Flächen verbringbar sind und einen die das Gitter (47) zum zweiten Mal durchsetzende Strahlung in Richtung auf eine Blende (51) , eine Linse (52) und einen Beobachtungsschirm ablenkenden Spiegel (50).

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