DE2130605C3 - Sontrastierungsverfahren für mikroskopisch zu untersuchende Objekte - Google Patents
Sontrastierungsverfahren für mikroskopisch zu untersuchende ObjekteInfo
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/31—Processing objects on a macro-scale
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Description
Der Vorteil des neuen Verfahrens liegt darin, uY.B
es wenig aufwendig hinsichtlich Gerät und Zeit ist und sich iro'.zdeni bei nahezu allen Objekten anwenden
läßt.
Das V-rfahien ist nachfolgend an Hand einer
Zeichnung erläutert.
Zur Durchführung des Verfahrens wird ein* Vakuumkammer
I benutzt, die einen Objektträger 2 aufweist, welcher mit dem positiven Foi einer Hochgleichspan.iungsquelleS
sowie mit Masse elektrisch ic. verbunden ist. Das Objekt 4 wird auf den Träger 2
aufgebracht. Außer dem Objektträger! weist die Vakuumkammer
1 eine Ionen-Kanone 5 vom Gasentladungstyp auf, welche einmal mit dem Minus-Poi uor Quelle 3, zum anderen mit der regelbaren Gas-Liuclle
6 der Ionenquelle S verbunden ist. Darüber hinaus weist die Vakuumkammer einen Einlaß? auf,
durch welchen Reagenzgas zugeführt wird, sowie 1.-MiOIi AusiaßS für den Anschluß einer Vakuumpumpe
9. Die Funktion des Genannten ist folgende: Nachdem das Objekt 4 auf den Objektträger 2 aufgebracht
und die Vakuumkammer i verschlossen ist, wird mittels der Vakuumpumpe 9 in ^er Vakuumkammer
ein Unterdruck von beispielsweise 10 ~3 Torr erzeugt und angenähert aufrechterhalten. Nunmehr
wird die Ionen-Kanone 5 durch Einschalten der Hochspannung und der Gaszufuhr aus der Quelle 6
gezündet. Es bildet sich ein gaskonzentrierter Strahl, dessen Begrenzungen aufleuchten. Die Fokussierung
dieses Strahls läßt sich je nach Größe des Objektes sj
durch die Feinregulierung der Gaszufuhr, beispielsweise mittels eines Nadelventils, aus der Quelle 6
sieuern Gleichzeitig wird über den Einlaß? ein mit
dem Objekt auf chemischem Wege reagierendes (,,
charakteristische Rcaktionsschicht, d,e nach ,,1.
Schluß des Kontrast*.-„ngsverfahrens unter einem
Mikroskops betrachtet und ausgewertet werden
Stat' wir dargesteiit, für das Reaktionsgas ei!.,·»
eigenen Einlaß7 zu verwenden, ist es möglich, a,,
Gr- direki über die Ionen-Kanone a zuzuiiilircn.
Um Objekte vor einer unzulässigen Erwärmung
w'ihrerd der Reaktion zu schützen, kann der ObjeH
träger mit einer Kühlvorrichtung bekannter Art abgerüstet
-ni Umgekehrt kanu es erwünscht scm. civ
Reaktionsgeschwindigkeit zu erhöhen was beispielweise
durch zusätzliche Erwärmung des Objektes erreicht werden kann. Zu diesem Zweck kann der Objektträger
mit einer entsprechenden Heizvorrichtung
versehen sein.
Wie sich gezeigt hat, weis.:.: die Reaktionsschichten
in Richtung auf die nicht bes.rahilcn Objckue·,': eine nach dem Rand hin abfallende Kontrastierung
auf Um dem entgegenzuwirken, können Mittel zur Re'ativbcwegung /wischer; Objekt und Strahl vorgesehen
sein welche eine gleichmäßige Beaufschlagung alle- gewünschten Objekiflächenanteile sicherstellen.
Schließlich ist es möglich, im Strahlengang des beaufschlagenden
Strahls eine oder mehrere Blenden oder Masken vorzusehen, welche eine exakte Abgrenzung
des beaufschlagten Bereiches bewirken.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (7)
1. Kontrastierungsverfaluen für mikroskopisch ί rap-.iaics m e ■ ■ · ι ^ Materialien aeen-net
zu untersuchende Objekie, bei dom das Objekt in 5 »,en werden, vvo.u π-τ - ■·.-
eine Vakuumkammer eingebracht wird, in der »inu. ^ ^ ^ Auidampfcn von hod:i-rc-
Vakuumkammer ein Vakuum erzeugt wird und Mar. kann ''-1^' 1V, .,,,;,„;,,.·!, Materialien im
bei dem das Objekt bei weituehender Aufrechter- chenden und "Ll " ' ' :j * t in^rferenz!;..!;^
haltuna des Vakuums durch den Teiichenstrali! HochvaKnum au! u^ ^ ■ ^ Ko|rtr.ts,Vl,r>,jr.
einer fonen-Kanonc beaufschlagt wird, die durch io Schichtosi_^1"-'1·"11^^.^^"'^-;.'rSahren hat sich aber .,e-
das Anlegen einer Hochspannung zwischen dem kung erre-icun. u->
■ "'^^., 7,-.I1IJcI10n Aufwandes
Objekt und der Ionen-Kanone mil Hilfe einer re- gen des hohen apr■■""·;_■_;_" ,,,^11 nicht jcdocl·, tür
gelbaren Hochspannungsquelle in Betrieb ge- bisher nur lur ' ^/■"; ,;".£,,,„.„ können,
setzt wird, dadurch gekennzeichnet. Rout.neuntersucl.unL π ,;; ■-■ - - ^^ ^. ^
daß die Ionen-Kanone (S) an den negativen Po! 15 Beim sogenannten -κ.:·;··^^^ ^, m^]n^
der regelbaren Hochspannungsquelle (3) ange- lieh w,rd da. Ub ,k ... i;- ; bd das Öt.-.-kt
schlossen und mit einer reaelbaren Gasquelle (6) chcn positiven (one, "^"y: 'G„füaeentwi,.k;..nff
zur Erzeugung eines caskonzentrierten Elektro- als Kathode geschalte, i·.. «. ■ ",^1,.1.;.'
nen-Ionen-Strahls verbunden wird und daß wird dabei im wesen.lH-nen -u^h "η^"^;;' "Γ^
gleichzeitig ein mit der beaufschlagten Fläche des 20 Abtragen der \ersLl'lLt'Ll:l ('',o , Oxydation -ait
Objekts (4) auf chemischem Wege reagierendes (Reliefbildung) ,me n;,..U >
y djc R
Gas in die Vakuumkammer (1) eingeleitet wird. positiven Luft- und S.u.. :m ' . Zuordnun„ 1)n
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- ,raste stark erhohen do, 1, d, ,^ ; ^ ™^,^
kennzeichnet, daß zusätzlich während der Beauf- Grauwert oder Farbe /um Jitmisch emht.tl, ,,ui
schlaeune die Divergenz des beaufschlagenden as Material geht durch d,c i;-nenätzung in ü.n mu ;cα
Strahls variiert wird. " Fällen verloren. Über die oben angefahrte,^ Vedah
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden ren gibt das Buch
3. Verfahren nach einem der vorhergehend re g f%
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß nach- der Technik« von Dr up F[^un
einandcr unterschiedliche Gase eingeleitet wer- Verlag, Fankfurt/Mam 196h, Aaskunit.
den 30 Der Anmeldung hegt die Aufgabe zugrunde, em
4. Yerfal./en nach einem der vorhergehenden einfaches Verfah.cn zu entwickeln, welches es gcsat-Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß gleich- tet, Kontrasticrungen. insbesondere harOKontrasue-
hidlih: Oase als Gemisch *** iiurs fss^i^^
£3cT ffiraiiurs fss^^^
5 Verfahren nach einem der vorhergehenden 35 skopischer Beobachtung möglich sein, damit ein AnAnsprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Ob- wender die für sein spezielles Präparat gunstigsten
jekt (4) gleichzeitig mit den Strahlen mehrerer Präparationsbedingungen selbst erarbeiten Kann.
Elektronen-Ionenstrahlenquellcn beaufschlagt Gegenstand der Erfindung ist daher ein neues
wird Kontrastierungsverfahren für iBÜjoskopisch zu υπό.
Verfahren nach einem der vorhergehenden 40 tersuchende Objekte, bei dem das Objekt in eine \ a-Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß wäh- kuumkammer eingebracht wird, in der vaKuumKamrend
der Beaufschlagung in an sich bekannter mer ein Vakuum erzeugt wird und bei dem das,UD-Weise
eine Relativbewegung zwischen Objekt jekt bei weitgehender Aufrechterhaltung des Vaku-
und beaufschlagendem Strahl erzeugt wird. ums durch den Teilchenstrahl einer Ionen-Kanone
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden 45 beaufschlagt wird, die durch das Anlegen einer
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Ob- Hochspannung zwischen dem Objekt und der
jekt zusätzlich während der Kontrastierung mi- Ionen-Kanone mit Hilfe einer regelbaren Hochspankroskopisch
beobachtet und gegebenenfalls das nungsquelle in Betrieb gesetzt wird. Es zeichnet sich
Ende der Kontrastierung in Abhängigkeit von der dadurch aus, daß die Ionen-Kanone an den negati-Beobachtung
festgelegt wird. . 50 ven Pol der regelbaren Hochspannungsquelle ange
schlossen und mit einer regelbaren Gasquelle zur Erzeugung eines gaskonzentrierten Elektronen-Ionen-
Strahls verbunden wird und daß gleichzeitig ein mit
der beaufschlagten Fläche des Objekts auf chemi-55
schcm Wege reagierendes Gas in die Vakuumkam-
Die vorliegende Anmeldung betrifft ein Kontra- mer eingeleitet wird. Es ist möglich, während der Bestierungsverfahren
für mikroskopisch zu untcrsu- aufschlagung die Divergenz des beaufschlagenden
chendc Objekte gemäß dem Oberbegriff des An- Strahls zu variieren. Auch können mehrere unterspruchs
1. schiedliche Gase nacheinander oder gleichzeitig als
In der biologischen Forschung wird seit langer 60 Gemisch eingeleitet werden. Auch ist es möglich, daß
Zeit das spezifische Einfärben von Dünnschnitten das Objekt gleichzeitig mit mehreren Eleklronertmittels
geeigneter Farbstoffe angewandt. Bei der Prä- Ionen-Strahlen beaufschlagt wird. Dabei können die
paration nicht-biologischer Objekte versagt diese Strahlen mit dem Objekt unterschiedliche Winkel
Methode in der Regel. Die Anwendung von spziellcn einschließen. Es kann von Vorteil sein, wenn das
Ablösungen (Naßätzen) oder Elektrolyten (anodi- 65 Objekt zusätzlich während der Kontrastierung misches
Ätzen) zur Erzeugung von farbigen Reaktions- kroskopisch beobachtet und gegebenenfalls das Ende
schichten blieb auf wenige Anwendungsfällc be- der Kontrastierung in Abhängigkeit von der Beobschränkt.
achtung festgelegt wird.
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2130605A DE2130605C3 (de) | 1971-06-21 | 1971-06-21 | Sontrastierungsverfahren für mikroskopisch zu untersuchende Objekte |
JP3650372A JPS5616367B1 (de) | 1971-06-21 | 1972-04-13 | |
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DE2130605B2 DE2130605B2 (de) | 1973-07-19 |
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ID=5811289
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Also Published As
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Legal Events
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EF | Willingness to grant licences | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |