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Gebiet der Erfindung
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Die Erfindung bezieht sich auf ein mobiles Monoblockelement beispielsweise des Typs koaxiale Hemmung und insbesondere auf ein solches mobiles Element aus einem mikrobearbeitbaren oder elektroformbaren Material.
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Hintergrund der Erfindung
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Es ist bekannt, dass die Hemmung eines mechanischen Uhrwerks mit Schweizer Anker oder koaxialem Anker ein Hemmungsrad aufweist, dessen regelmäßig beabstandete Zähne dem Stoß der im Allgemeinen aus Rubin bestehenden Ankersteine unterliegen.
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Ein Beispiel eines koaxialen Hemmungssystems ist aus dem Dokument
EP 1 045 297 bekannt. Ein solcher Mechanismus, wie er in
11 gezeigt ist, umfasst ein mobiles Element, das aus einem ersten und einem zweiten Hemmungsrad
1 bzw.
11 gebildet ist. Dieses zweite Hemmungsrad
11, das auch Impulstrieb genannt wird, ist auf derselben Achse
3 montiert. Die Winkelposition der Zähne
13 des zweiten Hemmungsrades
11 ist auf die Winkelposition der Zähne
8 des ersten Hemmungsrades
1 indexiert.
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Das erste Hemmungsrad 1 hat die Form eines Hemmungsrades mit herkömmlichem Schweizer Anker. Das zweite Hemmungsrad 11 dient auch als Hemmungstrieb 15, indem es mit einem Zwischenrad 17 kämmt, was den Vorteil hat, dass die Höhe des Mechanismus verringert ist.
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Die große Hebelscheibe (19) der (nicht gezeigten) Unruh trägt einen Hebelscheibenstift 21 und einen Impulsankerstein 23. Der Erstere, 21, ist dazu bestimmt, in einem hin und her gehenden Werk den Anker 25 über seine Gabel 27 anzutreiben, während der Zweite, 23, dazu bestimmt ist, mit den Zähnen 8 des ersten Hemmungsrades 1 zusammenzuwirken.
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Der Anker 25 umfasst einen Impulsankerstein 24, der mit den Zähnen 13 des zweiten Hemmungsrades 11 zusammenwirkt. Der Anker 25 umfasst außerdem zwei weitere Ruheankersteine 26, 28, einen für den Eingang und einen für den Ausgang, die mit den Zähnen 8 des ersten Hemmungsrades 1 zusammenwirken.
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Die Konstruktion einer solchen koaxialen Hemmung erfordert eine sehr hohe Präzision, insbesondere in Bezug auf die relativen Ausrichtungen zwischen dem ersten und dem zweiten Hemmungsrad 1 bzw. 11, was ihre Herstellung schwierig macht. Darüber hinaus besteht im Allgemeinen bei den Räderwerken eines Zeitmessgeräts mit zwei Ebenen wie etwa den Üblichen des Rad/Trieb-Typs stets die Notwendigkeit, dass zwischen ihnen eine perfekte Indexierung vorhanden ist.
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Zusammenfassung der Erfindung
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Das Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, die oben erwähnten Nachteile vollständig oder teilweise zu beseitigen, indem sie ein mobiles Element wie beispielsweise ein mobiles Element einer koaxialen Hemmung vorschlägt, bei dem die Ausrichtprobleme verringert sind.
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Hierzu bezieht sich die Erfindung auf ein mobiles Monoblockelement einer koaxialen Hemmung, das umfasst: eine erste Zahnung, die am Umfang einer ersten Platte gebildet ist, wobei die erste Zahnung dafür ausgelegt ist, mit einem Stift und wenigstens einer ersten Ankersteinreihe zusammenzuwirken, und eine zweite Zahnung, die am Umfang einer zweiten Platte ausgebildet ist und dafür ausgelegt ist, mit einer zweiten Ankersteinreihe zusammenzuwirken, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Platte einteilig aus Metall oder aus einer Metalllegierung gebildet sind, um die Ausrichtprobleme relativ zueinander zu verringern.
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Gemäß weiteren vorteilhaften Merkmalen der Erfindung:
- – ist jede Platte mit einer Nabe ausgebildet, die mit Hilfe wenigstens eines Arms mit ihrer Zahnung verbunden ist;
- – umfasst wenigstens eine der Platten eine Öffnung, die dazu bestimmt ist, mit einer Achse zusammenzuwirken, um das mobile Element der koaxialen Hemmung drehbar zu montieren;
- – weist die Öffnung Befestigungsmittel mit elastischer Verformung auf, um die Achse festzuklemmen, ohne auf die wenigstens eine der Platten eine zerstörende Beanspruchung auszuüben;
- – weist die Öffnung Befestigungsmittel mit plastischer Verformung auf, um die Achse festzuklemmen, ohne auf die wenigstens eine der Platten eine zerstörende Beanspruchung auszuüben;
- – sind die erste und die zweite Platte auf Höhe ihrer Nabe einteilig ausgebildet und befindet sich wenigstens ein Teil der Arme einer der Platten nicht senkrecht über einem Arm der anderen Platte;
- – sind die erste und die zweite Platte auf Höhe ihrer Nabe und auf Höhe der Arme einer der Platten einteilig ausgebildet.
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Darüber hinaus bezieht sich die Erfindung auf ein System einer koaxialen Hemmung für ein Zeitmessgerät, das einen Anker umfasst, der dazu bestimmt ist, mit einem mobilen Monoblockelement einer koaxialen Hemmung gemäß einer der vorhergehenden Varianten zusammenzuwirken, wobei die erste Zahnung des mobilen Elements dafür ausgelegt ist, mit einem mit einer Unruh fest verbundenen Stift zusammenzuwirken, und dazu bestimmt ist, mit einer ersten Ankersteinreihe des Ankers zusammenzuwirken, wobei die zweite Zahnung dazu bestimmt ist, mit einer zweiten Ankersteinreihe des Ankers zusammenzuwirken, und dafür ausgelegt ist, den Hemmungstrieb zu bilden.
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Zusammenfassende Beschreibung der Zeichnungen
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Weitere Besonderheiten und Vorteile werden aus der im Folgenden lediglich zur Erläuterung und keinesfalls zur Beschränkung gegebenen Beschreibung deutlich, wenn auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen wird, worin:
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die 1 bis 4 Darstellungen aufeinanderfolgender Schritte eines Herstellungsverfahrens für ein mobiles Hemmungselement gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung sind;
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die 5 bis 8 Darstellungen aufeinander folgender Schritte eines Herstellungsverfahrens eines mobilen Hemmungselements gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung sind;
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9 eine perspektivische Darstellung eines mobilen Elements einer koaxialen Hemmung gemäß einer ersten Variante der Erfindung ist;
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10 eine perspektivische Darstellung eines mobilen Elements einer koaxialen Hemmung gemäß einer zweiten Variante der Erfindung ist; und
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11 eine perspektivische Darstellung eines Hemmungssystems des koaxialen Typs ist.
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Genaue Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen
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Vorteilhaft werden gemäß der Erfindung die Ausrichtprobleme zwischen dem ersten und dem zweiten Rad durch Herstellung eines mobilen Elements 100, 100', in dem die Räder monoblockartig angeordnet, d. h. einstückig ausgebildet sind, verringert. Zur Vereinfachung erfolgt die folgende Erläuterung anhand eines koaxialen Hemmungsrades. Indessen ist klar, dass jeder Typ eines mobilen Elements mit wenigstens zwei Ebenen auf die vorliegende Erfindung anwendbar ist.
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In den 9 und 10 sind zwei Ausführungsbeispiele gemäß der Erfindung von mobilen Monoblockelementen 100, 100' einer koaxialen Hemmung dargestellt. Diese mobilen Elemente 100, 100' umfassen auf jeder Ebene zwei verschiedene Muster.
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Gemäß der ersten Ausführungsform, die in 9 gezeigt ist, bildet das erste Muster ein Zahnrad 101, das dem ersten Hemmungsrad 1 von 11 entspricht. Es umfasst eine Platte 103, die eine Nabe 102 bildet, deren Zentrum eine Öffnung 104 aufweist und von der die Arme 106 ausgehen, wovon jedes Ende einen Zahn 108 bildet, der einem ersten Zahn 8 von 11 entspricht. Somit wird eine Platte 103 erhalten, die an ihrem Umfang eine erste Zahnung aufweist.
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Wie in 9 gezeigt ist, weist die Öffnung 104 elastische Befestigungsmittel 105 auf, die dazu bestimmt sind, radial mit einer Achse des Typs, der in 11 mit 3 bezeichnet ist, durch elastische Verformung zusammenzuwirken, um das Hemmungsrad 101 und folglich das mobile Hemmungselement 100 drehbar zu montieren. Diese elastischen Befestigungsmittel 105 sind durch schlanke Teile gebildet, die durch Aussparen eines Teils der Nabe 102 verwirklicht sind. Die schlanken Teile ermöglichen, die Achse festzuklemmen, d. h. das mobile Element 100 an dieser Letzteren zu befestigen, ohne auf den Rest der Platte 103 eine Beanspruchung auszuüben.
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Gemäß der ersten Ausführungsform, die in 9 gezeigt ist, bildet das zweite Muster ein Zahnrad 111, das dem ersten Hemmungsrad 11 von 11 entspricht. Es umfasst eine Platte 113, die eine Nabe 112 bildet, deren Zentrum eine Öffnung 114 aufweist und von der die Arme 116 ausgehen, wovon jedes Ende einen Zahn 118 bildet, der einem Zahn 13 von 11 entspricht. Somit wird eine zweite Platte 113 erhalten, die an ihrem Umfang eine zweite Zahnung aufweist.
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Statt daher ein zweites Hemmungsrad 11 wie in 11 anzufügen, sind gemäß der Erfindung vorteilhaft die erste und die zweite Platte 103, 113 einteilig gebildet, um die Ausrichtprobleme relativ zueinander zu verringern. Wie somit in 9 gezeigt ist, sind die erste und die zweite Platte 103, 113 auf Höhe ihrer Nabe 102, 112 einteilig ausgebildet, wobei sich wenigstens ein Teil der Arme 116 nicht senkrecht über einem Arm 106 befindet.
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In 9 wird angemerkt, dass wenigstens eine der zwei Platten 103, 113 eine Öffnung 104, 114 aufweist, die dazu bestimmt ist, mit einer Achse zusammenzuwirken, um das mobile Element der koaxialen Hemmung drehbar zu montieren. Somit ist in 9 die Öffnung 114 der Platte 113 größer als jene, 104, der Platte 103, die die elastischen Befestigungsmittel 105 aufweist.
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Gemäß der zweiten Ausführungsform, die in 10 gezeigt ist, bildet das erste Muster ein Zahnrad 101', das dem ersten Hemmungsrad 1 von 11 entspricht. Es umfasst eine Platte 103', die eine Nabe 102' bildet, deren Zentrum eine Öffnung 104' aufweist und von der die Arme 106' ausgehen, wovon jedes Ende einen Zahn 108' bildet, der einem Zahn 8 von 11 entspricht. Somit wird eine Platte 103' erhalten, die an ihrem Umfang eine erste Zahnung aufweist.
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Wie in 10 gezeigt ist, weist die Öffnung 104' elastische Befestigungsmittel 105' auf, die dazu bestimmt sind, radial mit einer Achse des Typs, der in 11 mit 3 bezeichnet ist, durch elastische Verformung zusammenzuwirken, um das Hemmungsrad 101' und daher das mobile Hemmungselement 100' drehbar zu montieren. Diese elastischen Befestigungsmittel 105' sind durch schlanke Teile gebildet, die durch Aussparen eines Teils der Nabe 102' verwirklicht sind. Die schlanken Teile ermöglichen, die Achse festzuklemmen, d. h. das mobile Element 100' mit dieser Letzteren fest zu verbinden, ohne auf den Rest der Platte 103' eine Beanspruchung auszuüben.
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Gemäß der zweiten Ausführungsform, die in 10 gezeigt ist, bildet das zweite Muster ein Zahnrad 111', das dem ersten Hemmungsrad 11 von 11 entspricht. Es umfasst eine Platte 113', die eine Nabe 112' bildet, deren Zentrum eine Öffnung 114' aufweist und von der die Arme 116' ausgehen, wovon jedes Ende einen Zahn 118' bildet, der einem Zahn 13 von 11 entspricht. Somit wird eine zweite Platte 113' erhalten, die an ihrem Umfang eine zweite Zahnung aufweist.
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Statt ein zweites Hemmungsrad 11 wie in 11 anzufügen, sind somit gemäß der Erfindung vorteilhaft die erste und die zweite Platte 103', 113' einteilig ausgebildet, um die Ausrichtprobleme relativ zueinander zu verringern. Wie somit in 10 ersichtlich ist, sind die erste und die zweite Platte 103', 113' auf Höhe ihrer Nabe 102, 112 und auf Höhe der Arme 116' einteilig gebildet. Außerdem ist gezeigt, dass die Arme 106' zu den Armen 116' radial exzentrisch versetzt sind, was verhindert, dass sie sich senkrecht übereinander befinden.
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Die zwei Ausführungsformen der 9 und 10 können mit Hilfe vieler verschiedener Materialien gebildet sein. Indessen werden ein elektroformbares Material einerseits oder ein mikrobearbeitbares Material andererseits bevorzugt. Bis heute sind nämlich die reaktive Ionenätzung und die Elektroformung des Typs LIGA die einzigen Verfahren, die Teile mit der Genauigkeit in der Größenordnung einiger Mikrometer verwirklichen können, die für die gute Funktion des koaxialen mobilen Elements 100, 100' notwendig ist. Indessen sind alle anderen Verfahren, die diese Fertigungstoleranzen einhalten können, anwendbar.
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Ein elektroformbares Material kann aus Gold und/oder Kupfer und/oder Silber und/oder Indium und/oder Platin und/oder Palladium und/oder Nickel gebildet sein, ohne dass diese Komponenten erschöpfend sein sollen. Andere Komponenten wie etwa Phosphor können nämlich in geringerer Menge hinzugefügt werden. Ein mikrobearbeitbares Material kann durch Siliciumcarbid, kristallines Silicium, kristallines Aluminiumoxid oder kristallines Siliciumoxid gebildet sein, ohne dass diese Komponenten ebenfalls erschöpfend sind.
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Selbstverständlich können andere elastische Mittel als die Befestigungsmittel
105,
105' in Betracht gezogen werden. Solche elastischen Mittel können beispielsweise die Form jener annehmen, die in den
10A bis
10E des Dokuments
EP 1 655 642 offenbart sind, oder jener, die in den
2 bis
5 des Dokuments
WO 2007/099068 offenbart sind, wobei diese Dokumente hier durch Bezugnahme in die vorliegende Beschreibung vollständig mit aufgenommen sind.
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Außerdem ist klar, dass die Konfiguration der Befestigungsmittel 105, 105' umgekehrt sein kann, d. h., dass die Öffnung 104, 104' der Platte 103, 103' größer sein könnte als jene, 114, 114', der Platte 113, 113', die dann die Befestigungsmittel 105, 105' aufwiese. Ebenso gibt es keinen Hinderungsgrund, dass jede Öffnung 104, 104', 114, 114' ihre eigenen Befestigungsmittel 105, 105' aufweist.
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Darüber hinaus könnten die elastischen Befestigungsmittel 105, 105' alternativ durch plastische Befestigungsmittel ersetzt sein, insbesondere bei Verwendung von Platten 103, 103', 113, 113' auf Basis eines mikrobearbeitbaren Materials. Beispielsweise könnten sie durch eine Scheibe aus Metallmaterial gebildet sein, was zulässt, dass das mobile Element 100, 100' durch plastische Verformung auf die Achse getrieben wird, ohne auf die Platte 103, 103' und/oder 113, 113' eine Beanspruchung auszuüben. Selbstverständlich können andere plastische Befestigungsmittel in Betracht gezogen werden.
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Die zwei Fertigungstypen sind in den 1 bis 4 bzw. 5 bis 8 dargestellt. Die 1 bis 4 zeigen für ein besseres Verständnis die aufeinander folgenden Hauptschritte einer Mikrobearbeitung. Vorzugsweise umfasst das Verfahren einen ersten Schritt, der darin besteht, ein Substrat 31 vorzusehen, das eine obere Schicht 33 und eine untere Schicht 35 aus mikrobearbeitbaren Materialien aufweist, die miteinander über eine Zwischenschicht 34 verbunden sind. Dieser Typ eines Substrats 31 ist auch unter der Abkürzung SOI bekannt, die von den englischen Ausdrücken ”Silicon on Insulator” stammt.
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In einem zweiten Schritt wird eine Ätzung wenigstens eines Musters 36 in der oberen Schicht 33 ausgeführt, bis die Zwischenschicht 34 freigelegt ist, um wenigstens eine erste Zahnung (Zähne 108, 108') des mobilen Hemmungselements 100, 100' am Umfang einer Platte 103, 103' zu bilden. Dieser zweite Schritt ermöglicht daher die Bildung eines oder mehrerer erster Muster 101, 101' des mobilen Elements 100, 100' in der oberen Schicht 33.
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Wie in 2 gezeigt ist, wird beispielsweise durch Photolithographie eine Maske 37 gebildet, um den Teil der oberen Schicht 33, der beibehalten werden soll, zu schützen, woraufhin, wie durch unterbrochene Linien gezeigt ist, der obere Teil des Substrats 31 einem anisotropen Angriff des Typs tiefes reaktives Ionenätzen unterworfen wird, das unter der Abkürzung DRIE bekannt ist, die von den englischen Ausdrücken ”Deep Reactive Ion Etching” stammt. Wie in 3 gezeigt ist, wird das erste Muster 36 erhalten, das eine erste Ebene 101, 101' aus wenigstens einem mobilen Hemmungselement 100, 100' enthält.
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In einem dritten Schritt wird eine Ätzung wenigstens eines zweiten Musters 38 in der unteren Schicht 35 ausgeführt, bis die Zwischenschicht 34 freigelegt ist, um monoblockartig mit der ersten Ebene 101, 101' am Umfang einer Platte 113, 113' wenigstens eine zweite Zahnung (Zähne 118, 118') des mobilen Hemmungselements 100, 100' zu bilden. Dieser dritte Schritt ermöglicht daher, ein oder mehrere zweite Muster 111, 111' des mobilen Elements 100, 100' in der unteren Schicht 35 zu bilden.
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Wie in 3 gezeigt ist, wird beispielsweise durch Photolithographie eine Maske 39 gebildet, um den Teil der unteren Schicht 35, der beibehalten werden soll, zu schützen, woraufhin, wie durch unterbrochene Linien gezeigt ist, der untere Teil des Substrats 31 einem anisotropen Angriff des Typs tiefes reaktives Ionenätzen (DRIE) ausgesetzt wird. Wie in 4 gezeigt ist, wird das zweite Muster 38 erhalten, das wenigstens eine zweite Ebene 111, 111' monoblockartig mit einer der ersten Ebenen 101, 101', die in den vorhergehenden Schritten gebildet worden sind, aufweist.
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Dann müssen noch jedes mobile Element 100, 100' auf zwei so gebildeten Ebenen des Substrats 31 und eventuell Teile, die durch die Zwischenschicht 34 abgedeckt sind, freigelegt werden, um das mobile Hemmungselement 100, 100' in dem endgültigen Hemmungssystem zu montieren. Vorzugsweise wird, wenn das mobile Hemmungselement 100, 100' auf Siliciumbasis gebildet ist, ein zusätzlicher Oxidationsschritt ausgeführt, um wenigstens einen Siliciumdioxidteil auf Höhe seiner äußeren Oberfläche zu bilden, um sie mechanisch beständiger zu machen.
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Die 5 bis 8 zeigen aufeinander folgende Hauptschritte einer Elektroformung zum besseren Verständnis. Vorzugsweise umfasst das Verfahren einen ersten Schritt, der darin besteht, ein Substrat 41 vorzusehen, das eine elektrisch leitende obere Schicht aufweist. Diese Schicht kann durch die Ablagerung eines elektrisch leitenden Materials auf einem Isoliermaterial oder dadurch erhalten werden, dass das Substrat aus einem elektrisch leitenden Material gebildet wird.
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Die Hauptschritte einer Elektroformung bestehen darin, eine Form zu bilden, dann diese Form mit Hilfe eines Materials beispielsweise mit Hilfe einer Galvanoplastik zu füllen. Dieser Elektroformungstyp ist unter der Abkürzung LIGA, die von den deutschen Ausdrücken ”Röntgenlithographie, Galvanoformung & Abformung” stammt, bekannt. Es gibt mehrere Typen von Verfahren des LIGA-Typs, gemäß denen die Form mit mehreren Ebenen zwischen jeder Galvanoplastie gebildet wird oder vollständig gebildet wird, um ausschließlich danach gefüllt zu werden. Für die folgende Erläuterung besteht die dargestellte Technik darin, jede Ebene zu bilden, d. h. eine Formebene zu bilden und sie zu füllen, bevor zur folgenden Ebene übergegangen wird. Selbstverständlich kann jeder Typ einer Elektroformung, LIGA-Typ oder nicht, der zum Bilden eines mobilen Monoblockelements mit wenigstens zwei verschiedenen Ebenen geeignet ist, in Betracht gezogen werden.
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Wie in den 5 und 6 gezeigt ist, wird zu einer ersten Zeit die erste Ebene 47 der Form mit Hilfe beispielsweise einer Photolithographie eines Harzes gebildet, wie in 5 gezeigt ist. Sie ist mittels eines Hohlraums mit einer dem ersten Muster 101, 101' entsprechenden Form, d. h. mit wenigstens einer ersten Zahnung (Zähne 108, 108') des mobilen Hemmungselements 100, 100' am Umfang der Platte 103, 103' gebildet, Die erste Ebene wird anschließend durch Elektroabscheidung eines Metallmaterials 46 gefüllt.
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Wie in 7 gezeigt ist, wird ähnlich wie zu der ersten Zeit zu einer zweiten Zeit die zweite Ebene 49 mit Hilfe beispielsweise ebenfalls einer Photolithographie eines Harzes gebildet. Es wird wenigstens eine Aussparung mit einer dem zweiten Muster 111, 111' entsprechenden Form, d. h. mit wenigstens einer zweiten Zahnung (Zähne 118, 118') des mobilen Hemmungselements 100, 100' am Umfang der Platte 113, 113' und in Kommunikation mit dem wenigstens einen Hohlraum der ersten Ebene 47 gebildet. Die zweite Ebene 49 wird anschließend durch Elektroabscheidung eines metallischen Materials 48 gefüllt.
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Es bleibt noch, das somit gebildete mobile Element 100, 100' auf zwei Ebenen des Substrats 41 und der Harze 47, 49, wie in 8 gezeigt ist, freizulegen, um das mobile Hemmungselement 100, 100' in dem endgültigen Hemmungssystem zu montieren. In dem Beispiel eines mobilen Hemmungselements 100, 100', das durch Elektroformung erhalten wird, ist klar, dass es nicht mehr notwendig ist, elastische oder plastische Befestigungsmittel zu bilden, weil das metallische Material durch seine Öffnung 104, 104', 114, 114' direkt auf die Achse getrieben werden kann.
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Selbstverständlich ist die vorliegende Erfindung nicht auf das gezeigte Beispiel eingeschränkt, sondern ist für verschiedene Varianten und Abwandlungen geeignet, die dem Fachmann auf dem Gebiet deutlich werden. Insbesondere kann alternativ auch in Betracht gezogen werden, dass die Zahnräder 101, 101' einen Reif aufweisen können, etwa jenen des Rades 1 von 11, ohne den Umfang der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
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Selbst im Fall des obigen koaxialen Hemmungsrades ist es darüber hinaus klar, dass ein mobiles Element des Rad/Trieb-Typs eines Räderwerks oder selbst eines gewöhnlichen Hemmungsrades die gleichen Vorteile aufweist. Die erste Zahnung 108, 108' wäre jene des Rades und die zweite Zahnung 118, 118' jene des Triebs oder umgekehrt.
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Schließlich sollte eingesehen werden, dass wenigstens zwei Ebenen monoblockartig verwirklicht werden. Somit kann ohne weiteres in Betracht gezogen werden, dass wenigstens eine zusätzliche Ebene unter der Platte, d. h. auf der Fläche, die jener gegenüberliegt, die die zweite Zahnung 113, 113' trägt, und/oder darüber gebildet wird.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- EP 1045297 [0003]
- EP 1655642 [0031]
- WO 2007/099068 [0031]
