DE2059446C2 - Read-Dioden-Oszillatoranordnung - Google Patents
Read-Dioden-OszillatoranordnungInfo
- Publication number
- DE2059446C2 DE2059446C2 DE2059446A DE2059446A DE2059446C2 DE 2059446 C2 DE2059446 C2 DE 2059446C2 DE 2059446 A DE2059446 A DE 2059446A DE 2059446 A DE2059446 A DE 2059446A DE 2059446 C2 DE2059446 C2 DE 2059446C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- interface
- diode
- region
- resonator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 15
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 14
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 57
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000012791 sliding layer Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03B—GENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
- H03B9/00—Generation of oscillations using transit-time effects
- H03B9/12—Generation of oscillations using transit-time effects using solid state devices, e.g. Gunn-effect devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/049—Equivalence and options
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/139—Schottky barrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
Description
Aus der US-PS 28 99 652 ist bereits eine Oszillatoranordnung zum Erzeugen von Mikrowellenschwingungen
mit einer Read-Diode bekannt. Die Read-Diode wird an eine Gleichspannung gelegt, welche eine pn-Grenzfläehe
im Sinne eines Lawinendurchbruches vorspannt. Dabei werden Stromimpulse erzeugt, die jeweils quer zu
einem Übergangsbereich innerhalb einer vorgeschriebenen Zeitperiode verlaufen. Diese Übergangszeit steht
derart in Zuordnung zu der Resonanzfrequenz des äußeren Resonators, daß sich Hochfrequenzspannungen
an den Diodenanschlüssen außer Phase mit Stromimpulsen in der Diode befinden. Bei einer
geeignet gewählten Phasenverschiebung steigt der über die Anschlüsse fließende Strom bei abnehmender
Spannung an den Anschlüssen, so daß sich auf diese Weise ein negativer Widerstand ergibt. Ein Teil der der
Diode zugeführten Gleichstronienergie wird in dem Resonator in Hochfrequenzenergie umgewandelt, womit
die bekannte Anordnung eine Festkörper-Mikrowellenquelle darstellt.
Die Read-Diode gehört zu einer Klasse von Dioden, die nunmehr allgemein als IMPATT-Dioden bekannt
sind (Abkürzung von »Impact Avalanche and Transit Time«). Die Read-Diode ist ein Vierschichtgebilde,
beispielsweise ein (p+nin+)-Gebilde, bei dem die pn-Grenzfläche bezüglich des Lawinendurchbruchbereichs
in Sperrichtung vorgespannt ist Der η-Bereich ist gegenüber der i-Schicht dünn, so daß der Stromimpuls
gut begrenzt ist, wie dies für einen hohen Wirkungsgrad günstig ist Der beste Wirkungsgrad wird erzielt, wenn
die Stromdichte im Stromimpuls hoch und der Strom gegenphasig zu der äußeren angelegten Spannung ist
Das komplementäre (n + pip+)-Gebilde arbeitet in der gleichen Weise. Der Nachteil von Read-Dioden besteht
jedoch in ihrem unzureichenden Wirkungsgrad bezüglich der Erzeugung von Mikrowellen.
is Der in den Ansprüchen 1 und 3 angegebenen Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einer Read-Dioden-Oszillatoranordnung der eingangs erwähnten Art einen höheren Wirkungsgrad zu erzielen. Eine bevorzugte Weiterbildung der Anordnung nach Anspruch 1 ergibt sich aus dem Anspruch 2.
is Der in den Ansprüchen 1 und 3 angegebenen Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einer Read-Dioden-Oszillatoranordnung der eingangs erwähnten Art einen höheren Wirkungsgrad zu erzielen. Eine bevorzugte Weiterbildung der Anordnung nach Anspruch 1 ergibt sich aus dem Anspruch 2.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß der Hauptgrund für diesen schlechten Wirkungsgrad die
»Rückdiffusion« von Majoritätsträgern in dem Stromimpuls ist die auftritt bevor der Stromimpuls die
eigenleitende i-Schicht passiert hat
Elektronen des Stromimpulses zeigen das Bestreben, quer zu der pn-Grenzfläche zu diffundieren und werden
in der (p + )-Schicht eingefangen, wenn der Rest des Stroinimpulses durch den Übergangsbereich übertragen
wird. Diese eingefangenen Träger diffundieren sodann quer zu der pn-Grenzfläche zurück und reduzieren die
Zeit für die Bildung des folgenden Stromimpulses. Hierdurch wird die Synchronisierung des Stromimpulses
mit der äußeren Spannung unterbrochen. Dementsprechend ist bei der Anordnung nach Anspruch 1 eine
p-leitende Schicht zwischen die (p + )-Schicht und die η-Schicht eingefügt, um ein (p + pnin + )-Gebilde zu
erzielen. Die p-Schicht weist eine beachtlich niedrigere Leitfähigkeit als die (p + )-Schicht auf und muß
"" notwendigerweise einem beachtlichen elektrischen Feld
unterworfen werden, selbst wenn der Stromimpuls quer zu derr. Übergangsbereich verläuft. Dieses elektrische
Feld verhindert, daß Elektronen in der p-Schicht eingefangen werden und treibt diese statt dessen gegen
4^ den positiv vorgespannten Kontakt. Durch die gemäß
Anspruch 2 vorgesehene dickere Ausbildung der p-Schicht gegenüber der Diffusionslänge eines Majoritätssträgers
kann sichergestellt werden, daß die Diffusion zu der (p + )-Schicht im wesentlichen ausge-
■><· schlossen wird.
Bei der Anordnung nach Anspruch 3 wird dagegen ein Metall-Halbleiter-Übergang mit Schottkybarriere
verwendet, um die Lawinengrenzfläche zu bilden. Dies bedeutet, daß die Diode eine metallische (nin + )-Ausbil·
" dung aufweist. Die Diode wirkt in der gleichen Weise
wie vorangehend beschrieben, wobei die Spannungsquelle den Metall-Halbleiterübergang zwischen dem
Metall und der η-Schicht in Sperrichtung vorspannt. Für die Schottkybarriere ist es charakteristisch, daß die
Elektronendiffusion von dem Metallkontakt quer zu der Grenzfläche im wesentlichen verhindert wird. Auch ist
Metall nicht in der Lage, Elektronen einzufangen, da es Elektronen frei leitet. Auf diese Weise erhöht der
Metall-Halbleiter-Übergang wesentlicn den Wirkungs-
b=> grad der Diode gegenüber der eingangs erwähnten
bekannten Read-Diode.
Die Erfindung ist nachstehend anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt
F i g. 1 ein Ausführungsbeispiel einer Read-Dioden-Oszillatoranordnung
nach dem Stand der Technik,
Fig.2 die elektrische Feldverteilung in der Read-Diode
gemäß Fig. 1 zu einem bestimmten Augenblick
als Funktion des Ortes,
Fig.3 einen schematischen Schnitt durch ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäß abgewandelten
Read-Diode,
F i g. 4 ein Diagramm ähnlich wie F i g. 2 für die Diode nach F iß 3, und
Fig.5 einen schematischen Schnitt durch ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäß
abgewandelten Read-Diode.
Die bekannte Oszillatoranordnung gemäß F i g. 1 umfaßt eine Read-Diode 11, eine Induktivität 12, eine
Kapazität 13, eine Vorspannungsquelle 14 sowie einen Verbraucher 15. Die Read-Diode 11 umfaßt eine
Halbleiterscheibe mit aufeinanderfolgenden Schichten 16,17,18,19 von (p +)-, (n)-, (i)- bzw. (n + )-Leitfähigkeit
Die Diode befindet sich in einem Mikrowellenresonator, der schematisch durch die Induktivität 12 sowie die
Kapazität 13 dargestellt ist. Die gleichrichtende pn-Grenzfläche zwischen den Schichten 16,17 ist durch
die Spannungsquelle 14 in Sperrichtung vorgespannt Die Oszillatorschaltung erzeugt Mikrowellenschwingungen,
die zur Auswertung auf den Verbraucher 15 übertragen werden.
Die Kurve 21 von F i g. 2 zeigt die Verteilung der elektrischen Feldstärke als Funktion des Ortes bzw.
Abstandes in der Read-Diode 11. Sobald die Vorspannung in Sperrichtung angelegt ist, stellt sich das
elektrische Feld an der pn-Grenzfläche zwischen den Schichten 16, 17 ausreichend hoch ein, um einen
Lawinendurchbruch hervorzurufen. Dies wiederum erzeugt eine Konzentration von Majoritätsträgerelektronen
in der Schicht 17, welche sich als Stromimpuls über die eigenieitende i-Schicht 18 in Richtung auf den
positiven Diodenkontakt fortpflanzen. Die Frequenz des äußeren Mikrowellenresonators ist gegenüber der
Übergangszeit des Stromimpulses sowie der für die Stromimpulsausbildung anzusetzenden Zeit so gewählt,
daß der Strom in der Diode gegenphasig zu der äußeren Diodenspannung ist, die durch den Resonator angelegt
wird. Die n-Schicht 17 ist günstigerweise dünn gegenüber der i-Schicht 18, um eine scharfe Spitze des
elektrischen Feldes an der Grenzfläche sowie einen scharf definierten Stromimpuls zu erzielen. Wenn sich
der Stromimpuls über den Übergangsbereich fortpflanzt, welcher durch die eigenleilende Schicht 18
definiert ist, fällt das elektrische Feld an der pn-Grenzfläche unter den Lawinendurchsbruchwert.
Nachdem der Stromimpuls den positiven Kontakt erreicht hat, erreicht das elektrische Feld an der
pn-Grenzfläche wiederum den Lawinendurchbruchswert, wobei ein anderer Stromimpuls gebildet wird; der
Vorgang wiederholt sich auf diese Weise von selbst.
Die n-Schichl 17 ist dünn im Vergleich zu dem Übergangsbereich, der durch die Schicht 18 definiert ist.
um einen beschränkten Lawinendurchbruch zu erzielen, wie dies in F i g. 2 angegeben ist, wobei sich hieraus ein
begrenzter bzw. abgeschlossener Stromimpuls von hoher Stromdichte ergibt. Theoretisch ermöglicht dies
eine Ausbildung der Diode im Hinblick auf die Erzielung einer Phasenverschiebung um 180° zwischen dem
Stromimpuls und der äußeren Spannung, um einen maximalen negativen Widerstand und Wirkungsgrad zu
erzielen. Tatsächlich ist jedoch die Anordnung nach Fig. 1 nicht in der Lage, eine Mikrowellen-Ausgangsgröße
mit dem theoretisch erwarteten Wirkungsgrad zu erzeugen.
Die der Erfindung zugrunde liegende Erkenntnis beruht darauf, daß sich der niedrige Wirkungsgrad aus
der Rückdiffusion von Elektronen in dem Stromimpuls ergibt Jede hohe Stromdichtenkonzentration in einem
Halbleiter zeigt das Bestreben, in beiden Richtungen vom Mittelpunkt der Konzentration au diffundieren. Bei
der Anordnung nach F i g. 1 ergibt sich trotz der
to Anziehung des Stromimpulses gegen den positiven Kontakt ein wesentlicher Diffusionsstrom in Richtung
des negativen Kontaktes quer zu der pn-Grenzfläche. Gemäß F i g. 2 liegt im wesentlichen kein elektrisches
Feld in der (p + )-Schicht 16 wegen der hohen Leitfähigkeit dieser Schicht vor. Auf diese Weise
werden Elektronen, welche in die Schicht 16 diffundieren können, dort eingefangen, weil sie nicht durch
irgendein wesentliches elektrisches Feld beeinflußt werden.
Nachdem sich der Stromimpuls in die Schicht 18 gegen den positiven Kontakt bewegt hat, zeigen die
Elektronen in der Schicht 16 das Bestreben, wiederum quer zu der pn-Grenzfläche zurück in die Schicht 17 zu
diffundieren. Diese Elektronen reduzieren die erforderliehe Zeit zur Ausbildung nachfolgender Stromimpulse,
so daß im Ergebnis der Wirkungsgrad der Anordnung verringert wird.
F i g. 3 zeigt eine Diode 23 nach der Erfindung, welche in der Schaltung nach F i g. 1 verwendbar ist und
JO Schichten 24, 25, 26, 27, 28 vom (p +)-, (p)-, (n)-, (i)- bzw.
(n +gleitenden Typ umfaßt. Die Diode unterscheidet sich von der Diode 11 im wesentlichen durch die
Einfügung der p-leitenden Schicht 25 zwischen der (p +gleitenden Schicht 24 und der η-leitenden Schicht
J5 26. Die (p + gleitende Schicht 24 ermöglicht einen guten
ohmschen Kontakt zu der Halbleiterscheibe, während die (p)-leitende Schicht 25 die Ausbildung eines
wesentlichen elektrischen Feldes zwischen der (p + )-leitenden Schicht 24 und der pn-Grenzfläche der
4« Schichten 25,26 sicherstellt.
Die Kurve 29 gemäß F i g. 4 zeigt das in der Diode 23 zum Zeitpunkt des anfänglichen Lawinendurchbruches
an der pn-Grenzfläche aufgebaute elektrische Feld. Wegen der verhältnismäßig niedrigen Leitfähigkeit der
4) p-Schicht 25 verläuft das elektrische Feld durch die
p-Schicht, anstatt plötzlich an der pn-Grenzfläche gemäß F i g. 2 abzufallen. In der η-leitenden Schicht 26
wird ein hochkonzentrierter Stromimpuls ausgebildet; der Betrieb der Diode entspricht im wesentlichen
ν. demjenigen gemäß Fig. 1. Jedoch werden Elektronen,
die quer zu der pn-Grenzfläche in die Schicht 25 diffundiert werden, nicht eingefangen, weil sie unter
dem Einfluß des elektrischen Feldes verbleiben. Hierbei werden die Elektronen gegen den positiven Kontakt
■v, unmittelbar angezogen und bewirken keine Störung bei
der Ausbildung eines nachfolgenden Stromimpulses. Auf diese Weise wird vor der Bildung des. darauffolgenden
Lawinendurchbruches an der pn-Grenzfläche eine η-leitende Schicht 26 zu einem Verarmungsbereich,
bo welcher frei von Majoritätsträgerelektronen ist, wie
dies bei einer richtigen Ausbildung der Read-Diode zur Erzielung eines optimalen Wirkungsgrades angenommen
wird.
Die Diode 23 kann üblicherweise durch epitaxiale
t>; oder diffundierte Schichten 24 bis 27 gebildet sein, die
auf einem Siliziumsubstratmaterial 28 ausgebildet sind. Typische Abmessungen ergeben sich wie folgt:
Schicht 24 0,5 Mikrometer
Schicht 24 0,5 Mikrometer
Schicht 25 Schicht 26 Schicht 27 Schicht 28
0,4 Mikrometer
0,6 Mikrometer
4,0 Mikrometer
50,0 Mikrometer
Die Dotierungen der Schichten in Trägern pro cm3 ergeben sich wie folgt:
Schicht 24 Schicht 25 Schicht 26 Schicht 27 Schicht 28
1020
6x1016
3 xlO'6
weniger als ΙΟ15
102°
Komplementäre Siliziumdioden mit entgegengesetzten Leitfähigkcitsiypcn können mit im wesentlichen
gleichen Abmessungen und Trägerkonzentrationen gemäß den vorangehenden Angaben hergestellt werden.
Dies bedeutet, daß die Diode in der Form n + npip+ aufgebaut ist. Die Diode kann auch aus
anderen bekannten Halbleiterstoffen hergestellt sein, beispielsweise aus Germanium, und auch in verschiedenen
anderen Formen abgewandelt werden, wie sich dies aus dem Stand der Technik ergibt.
Eine weitere Ausführungsform einer erfindungsgemaß abgewandelten Read-Diode ergibt sich aus Fig. 5.
Die Halbleiterscheibe der Diode umfaßt Schichten 32, 33, 34 mit (n)-, (i)- bzw. (n + )-Leitfähigkeit und ist mit
äußeren Kontakten 35, 36 versehen. Der positive Kontakt 35 ist ein üblicher ohmscher Kontakt, während
der Kontakt 36 eine Schottkybarriere 37 mit der η-leitenden Schicht 32 bildet. Eine Grenzfläche 37 ist
durch die äußere Spannung in Sperrichtung bis zu einem Lawinendurchbruch vorgespannt. Die Diode gemäß
F i g. 5 arbeitet in gleicher Weise wie die Diode gemäß Fig. 1. Dabei tritt ebenfalls eine Rückdiffusion von
Elektronen an der Grenzfläche 37 auf, jedoch mit dem Unterschied, daß der Metallkontakt 36 zum Einfangen
der Elektronen nicht in der Lage ist. Dies bedeutet, daß freie Elektronen das Atomgleichgewicht des Metallkontaktes
36 nicht beeinflussen. Sobald der Stromimpuls die Schicht 32 quer zu den Schichten 33, 34 passiert hat,
kann keine wesentliche Diffusion mehr quer zu der Grenzfläche 37 aufgrund gespeicherter Elektronen in
dem Metallkontakt 36 auftreten. Wenn somit der Metall-Halbleiter-Übergang 37 für einen minimalen
Stromverlust ausgebildet ist, kann die n-Schicht 32 im wesentlichen die Elektronen vor der Bildung des
darauffolgenden Stromimpulses abgeben, wodurch die Diode mit hohem Wirkungsgrad zu arbeiten vermag.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Read-Dioden-Oszillatoranordnung mit einem
zwischen einem ersten und zweiten Kontakt enthaltenen und innerhalb eines Resonators angeordneten,
eine gleichrichtende Grenzfläche aufweisenden Halbleiter, welcher eine erste Halbleiterschicht,
einen relativ dünnen Lawinendurchbruchbereich von hoher Leitfähigkeit sowie einen verhältnismäßig
dicken Obergangsbereich geringer Leitfähigkeit aufweist wobei die Frequenz des Resonators in
Zuordnung zu der Übergangszeit des Übergangsbereiches steht mit einer Schaltungsanordnung zur
Vorspannung der Grenzfläche in Sperrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß eine zweite
Halbleiterschicht (25) zwischen dem ersten Kontakt and dem Lawinenbereich (26) angeordnet ist welche
die gleichrichtende Grenzfläche mit dem Lawinenbereich (26) bildet und eine wesentlich geringere
Leitfähigkeit als die erste Halbleiterschicht aufweist so daß ein wesentliches elekrisches Feld durch die
zweite Schicht verläuft, wenn die Diode in Sperrichtung vorgespannt ist.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Schicht (25) dicker als die
Diffusionslänge eines Majoritätsträgers in dem Lawinenbereich (26) ist.
3. Read-Dioden-Oszillatoranordnung mit einem zwischen einem ersten und zweiten Kontakt
enthaltenen und innerhalb eines Resonators angeordneten Halbleiter, welcher aufeinanderfolgend
eine gleichrichtende Grenzfläche, einen relativ dünnen Lawinendurchbruchbereich von hoher Leitfähigkeit
sowie einen verhältnismäßig dicken Übergangsbereich geringer Leitfähigkeit aufweist, wobei
die Frequenz des Resonators in Zuordnung zu der Übergangszeit des Übergangsbereiches steht, mit
einer Schaltungsanordnung zur Vorspannung der Grenzfläche in Sperrichlung, dadurch gekennzeichnet,
daß die Grenzfläche durch einen Metall-Halbleiter-Übergang mit Schottkybarriere (37) gebildet ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US88389769A | 1969-12-10 | 1969-12-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2059446A1 DE2059446A1 (de) | 1971-07-01 |
DE2059446C2 true DE2059446C2 (de) | 1982-05-19 |
Family
ID=25383556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2059446A Expired DE2059446C2 (de) | 1969-12-10 | 1970-12-03 | Read-Dioden-Oszillatoranordnung |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3621466A (de) |
JP (1) | JPS4823715B1 (de) |
BE (1) | BE760007A (de) |
CH (1) | CH527516A (de) |
DE (1) | DE2059446C2 (de) |
ES (1) | ES386672A1 (de) |
FR (1) | FR2070794B1 (de) |
GB (1) | GB1319796A (de) |
IE (1) | IE34725B1 (de) |
NL (1) | NL7017828A (de) |
SE (1) | SE361981B (de) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5027282A (de) * | 1973-07-12 | 1975-03-20 | ||
US3890630A (en) * | 1973-10-09 | 1975-06-17 | Rca Corp | Impatt diode |
JPS52101990A (en) * | 1976-02-21 | 1977-08-26 | Hitachi Ltd | Semiconductor device for photoelectric transducer and its manufacture |
US5216260A (en) * | 1984-11-19 | 1993-06-01 | Max-Planck Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V. | Optically bistable semiconductor device with pairs of monoatomic layers separated by intrinsic layers |
US5060234A (en) * | 1984-11-19 | 1991-10-22 | Max-Planck Gesellschaft Zur Forderung Der Wissenschaften | Injection laser with at least one pair of monoatomic layers of doping atoms |
US6781161B1 (en) | 2003-04-09 | 2004-08-24 | Teccor Electronics, Lp | Non-gated thyristor device |
WO2017015580A1 (en) | 2015-07-23 | 2017-01-26 | Artilux Corporation | High efficiency wide spectrum sensor |
US10707260B2 (en) | 2015-08-04 | 2020-07-07 | Artilux, Inc. | Circuit for operating a multi-gate VIS/IR photodiode |
TW202335281A (zh) | 2015-08-04 | 2023-09-01 | 光程研創股份有限公司 | 光感測系統 |
US10861888B2 (en) | 2015-08-04 | 2020-12-08 | Artilux, Inc. | Silicon germanium imager with photodiode in trench |
US10761599B2 (en) | 2015-08-04 | 2020-09-01 | Artilux, Inc. | Eye gesture tracking |
EP3783656B1 (de) | 2015-08-27 | 2023-08-23 | Artilux Inc. | Optischer sensor mit breitem spektrum |
US10418407B2 (en) | 2015-11-06 | 2019-09-17 | Artilux, Inc. | High-speed light sensing apparatus III |
US10254389B2 (en) | 2015-11-06 | 2019-04-09 | Artilux Corporation | High-speed light sensing apparatus |
US10739443B2 (en) * | 2015-11-06 | 2020-08-11 | Artilux, Inc. | High-speed light sensing apparatus II |
US10741598B2 (en) | 2015-11-06 | 2020-08-11 | Atrilux, Inc. | High-speed light sensing apparatus II |
US10886309B2 (en) | 2015-11-06 | 2021-01-05 | Artilux, Inc. | High-speed light sensing apparatus II |
JP6975341B2 (ja) | 2018-02-23 | 2021-12-01 | アーティラックス・インコーポレイテッド | 光検出装置およびその光検出方法 |
US11105928B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-08-31 | Artilux, Inc. | Light-sensing apparatus and light-sensing method thereof |
US11482553B2 (en) | 2018-02-23 | 2022-10-25 | Artilux, Inc. | Photo-detecting apparatus with subpixels |
WO2019199691A1 (en) | 2018-04-08 | 2019-10-17 | Artilux, Inc. | Photo-detecting apparatus |
US10854770B2 (en) | 2018-05-07 | 2020-12-01 | Artilux, Inc. | Avalanche photo-transistor |
US10969877B2 (en) | 2018-05-08 | 2021-04-06 | Artilux, Inc. | Display apparatus |
US11574942B2 (en) | 2018-12-12 | 2023-02-07 | Artilux, Inc. | Semiconductor device with low dark noise |
CN116504856A (zh) | 2019-08-28 | 2023-07-28 | 光程研创股份有限公司 | 具有低暗电流的光侦测装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2899652A (en) * | 1959-08-11 | Distance | ||
US3426295A (en) * | 1966-05-16 | 1969-02-04 | Bell Telephone Labor Inc | Negative resistance microwave device |
-
0
- BE BE760007D patent/BE760007A/xx unknown
-
1969
- 1969-12-10 US US883897A patent/US3621466A/en not_active Expired - Lifetime
-
1970
- 1970-11-13 IE IE1459/70A patent/IE34725B1/xx unknown
- 1970-12-03 SE SE16404/70A patent/SE361981B/xx unknown
- 1970-12-03 DE DE2059446A patent/DE2059446C2/de not_active Expired
- 1970-12-04 GB GB5766370A patent/GB1319796A/en not_active Expired
- 1970-12-05 ES ES386672A patent/ES386672A1/es not_active Expired
- 1970-12-07 NL NL7017828A patent/NL7017828A/xx not_active Application Discontinuation
- 1970-12-08 FR FR7044179A patent/FR2070794B1/fr not_active Expired
- 1970-12-09 CH CH1822470A patent/CH527516A/de not_active IP Right Cessation
- 1970-12-10 JP JP45109058A patent/JPS4823715B1/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2070794A1 (de) | 1971-09-17 |
SE361981B (de) | 1973-11-19 |
FR2070794B1 (de) | 1973-12-07 |
CH527516A (de) | 1972-08-31 |
IE34725B1 (en) | 1975-07-23 |
JPS4823715B1 (de) | 1973-07-16 |
IE34725L (en) | 1971-06-10 |
GB1319796A (en) | 1973-06-06 |
US3621466A (en) | 1971-11-16 |
ES386672A1 (es) | 1973-03-16 |
NL7017828A (de) | 1971-06-14 |
BE760007A (fr) | 1971-05-17 |
DE2059446A1 (de) | 1971-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2059446C2 (de) | Read-Dioden-Oszillatoranordnung | |
DE3136528A1 (de) | Halbleiter-lawinenfotodetektor | |
DE3443854A1 (de) | Halbleiteranordnung | |
DE102011080258A1 (de) | Super-Junction-Schottky-Oxid-PiN-Diode | |
DE102012201911A1 (de) | Super-Junction-Schottky-Oxid-PiN-Diode mit dünnen p-Schichten unter dem Schottky-Kontakt | |
DE1162488B (de) | Halbleiterbauelement mit zwei Elektroden an einer Zone und Verfahren zum Betrieb | |
DE2341899C3 (de) | Integrierte Halbleiterschaltung und Verfahren zu ihrem Betrieb | |
DE1950937C3 (de) | Halbleiterbauelement zur Erzeugung von in der Frequenz steuerbaren Mikrowellen | |
DE1180849B (de) | Halbleiterbauelement mit einer Folge von Zonen abwechselnd entgegengesetzten Leitfaehigkeits-typs im Halbleiterkoerper und Verfahren zum Herstellen eines solchen Halbleiterbauelements | |
CH695033A5 (de) | Diode. | |
DE2059445C2 (de) | Hochfrequenzoszillator mit einer Halbleiter-Grenzschichtdiode | |
DE2102103A1 (de) | Durch Feldeffekt gesteuerte Diode | |
DE1514061A1 (de) | Unipolarhalbleiterbauelement | |
DE10049354B4 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE19820734A1 (de) | Unipolarer Halbleitergleichrichter | |
DE2540354A1 (de) | Als thermoionische injektionsdiode geeignete halbleiterstruktur | |
DE3006176C2 (de) | Einrichtung zur Signalpegelverschiebung | |
DE2210386A1 (de) | Thyristor | |
DE2049079A1 (de) | Halbleiteranordnung mit negativer Impedanz | |
DE1207010B (de) | Flaechentransistor mit einem Halbleiterkoerper mit vier Zonen abwechselnd entgegengesetzten Leitungstyps, Verfahren zum Herstellen und Schaltung solcher Flaechentransistoren | |
DE2026376A1 (de) | Schaltung mit Halbleiter-Bauelement | |
DE1564343B2 (de) | Halbleiterbauelement mit negativer widerstandscharakteristik | |
DE2507104A1 (de) | Bistabiles halbleiterbauelement fuer hohe frequenzen | |
DE2001584A1 (de) | Feldeffekttransistor | |
DE1922754C3 (de) | Halbleiterbauelement mit mindestens zwei miteinander gekoppelten bistabilen Halbleiterschaltungselementen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
D2 | Grant after examination | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |